[發(fā)明專利]圖像形成設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711059478.1
• 申請日: 2017-11-01
• 公開（公告）號: CN108008614B
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發(fā)明（設計）人: 高野廣樹;川村知史;善財彰一
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03G21/16
• 分類號: G03G21/16
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務所 11398
• 代理人: 魏啟學

1.一種圖像形成設備，其包括：

設備主體，

其特征在于，所述圖像形成設備還包括：

第一單元和第二單元，其均被構(gòu)造成能夠獨立地在裝拆方向上安裝到所述設備主體的分別收納所述第一單元和所述第二單元的第一空間和第二空間以及從所述第一空間和所述第二空間拆下，所述第一單元具有感光鼓，所述第二單元具有被構(gòu)造成向所述感光鼓供給調(diào)色劑的顯影輥；

開閉構(gòu)件，其使所述第一空間的開口和所述第二空間的開口開閉；

第一引導部，其設置在所述設備主體中并引導所述第一空間中的所述第一單元；

第二引導部，其設置在所述設備主體中并引導所述第二空間中的所述第二單元；以及

傾斜構(gòu)件，當所述開閉構(gòu)件處于打開位置時，所述傾斜構(gòu)件能夠?qū)⑺龅谝粏卧龑У皆O置于在與所述裝拆方向正交的高度方向上比所述第二引導部的位置高的位置處的所述第一引導部，當所述開閉構(gòu)件處于關閉位置以使所述第一單元和所述開閉構(gòu)件之間的空間封閉時，所述傾斜構(gòu)件以位于所述第一單元和所述開閉構(gòu)件之間的所述空間中的方式連結(jié)至所述設備主體與所述開閉構(gòu)件二者。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成設備，其中，所述傾斜構(gòu)件具有斜面部，當所述開閉構(gòu)件處于所述打開位置時，所述斜面部沿相對于所述裝拆方向傾斜的方向?qū)⑺龅谝粏卧谒龈叨确较蛏蠌牡臀恢靡龑У轿挥谂c所述第一引導部相同高度處的位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的圖像形成設備，其中，

所述傾斜構(gòu)件被構(gòu)造成所述傾斜構(gòu)件相對于所述開閉構(gòu)件的姿勢以在所述斜面部相對于所述開閉構(gòu)件的角度改變的同時所述傾斜構(gòu)件相對于所述開閉構(gòu)件的連接位置發(fā)生偏移的方式改變，

所述開閉構(gòu)件和所述設備主體能夠?qū)⑺鰞A斜構(gòu)件收納在所述第一單元和所述開閉構(gòu)件之間的所述空間中，并且

當所述開閉構(gòu)件從所述打開位置向所述關閉位置移動時，所述傾斜構(gòu)件相對于所述開閉構(gòu)件的姿勢以在所述斜面部相對于所述開閉構(gòu)件的角度減小的同時所述傾斜構(gòu)件被收納在所述第一單元和所述開閉構(gòu)件之間的所述空間中的方式改變。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的圖像形成設備，其中，所述傾斜構(gòu)件被構(gòu)造成當所述開閉構(gòu)件處于所述關閉位置時所述斜面部相對于所述高度方向的角度比當所述開閉構(gòu)件處于所述打開位置時所述斜面部相對于所述裝拆方向的角度小。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的圖像形成設備，其中，所述傾斜構(gòu)件在所述裝拆方向上的上游側(cè)和下游側(cè)中的至少一側(cè)具有平面部，所述平面部沿所述裝拆方向引導所述第一單元。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的圖像形成設備，其中，

所述開閉構(gòu)件具有第三引導部，所述第三引導部經(jīng)由所述傾斜構(gòu)件連接到所述第一引導部，并且當所述開閉構(gòu)件處于所述打開位置以使所述第一空間和所述第二空間開放時，所述第三引導部于在所述高度方向上比所述第一引導部的位置低的位置處引導所述第一單元，并且

所述第一單元能夠通過所述第三引導部、所述傾斜構(gòu)件和所述第一引導部的順次引導而被安裝。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的圖像形成設備，其中，所述傾斜構(gòu)件具有示出所述第一單元的裝拆方向的顯示部。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的圖像形成設備，其中，所述傾斜構(gòu)件具有示出待被引導的單元的顯示部。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的圖像形成設備，其中，所述第一引導部還用作使所述第一單元在所述空間中定位的定位部。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的圖像形成設備，其中，

所述第二單元還具有收納顯影劑的容器，并且

通過所述第一引導部引導所述第一單元所在的在所述高度方向上的高度比通過所述第二引導部引導所述第二單元所在的在所述高度方向上的高度高。