[發明專利]具有減速級的多反射質譜儀有效
| 申請號： | 201711058532.0 | 申請日： | 2017-11-01 |
| 公開（公告）號： | CN108022823B | 公開（公告）日： | 2020-06-16 |
| 發明（設計）人： | H·斯圖爾特;D·格林菲爾德;A·馬卡洛夫 | 申請（專利權）人： | 塞莫費雪科學(不來梅)有限公司 |
| 主分類號： | H01J49/40 | 分類號： | H01J49/40 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 姬利永;錢慰民 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 減速 反射 質譜儀 | ||
1.一種多反射質譜儀，其包括在X方向上間隔開且彼此對置的兩個離子鏡，每一離子鏡大體上沿著漂移方向Y伸長，所述X方向正交于所述漂移方向Y，以及離子注入器，所述離子注入器用于與所述X方向成傾斜角度將離子作為離子束注入到所述離子鏡之間的空間中，其中沿著在所述漂移方向Y上所述離子鏡的長度的第一部分，所述離子鏡以第一收斂程度收斂，且沿著在所述漂移方向Y上所述離子鏡的長度的第二部分，所述離子鏡以第二收斂程度收斂或者平行，所述離子鏡的長度的所述第一部分比所述第二部分更接近所述離子注入器，且所述第一收斂程度大于所述第二收斂程度。
2.根據權利要求1所述的多反射質譜儀，其中所述第一收斂程度使得在所述離子在長度的所述第一部分中在所述離子鏡中經受一次或多次反射之后，所述離子在所述漂移方向Y上的漂移速度跨越長度的所述第一部分減少至少5％。
3.根據權利要求1所述的多反射質譜儀，其中所述第一收斂程度使得在所述離子在長度的所述第一部分中在所述離子鏡中經受一次或多次反射之后，所述離子在所述漂移方向Y上的漂移速度跨越長度的所述第一部分減少至少20％。
4.根據權利要求1所述的多反射質譜儀，其中所述第一收斂程度使得在所述離子在長度的所述第一部分中在所述離子鏡中經受一次或多次反射之后，所述離子在所述漂移方向Y上的漂移速度跨越長度的所述第一部分減少在5％到50％范圍內的量。
5.根據權利要求1所述的多反射質譜儀，其中所述第一收斂程度使得在所述離子在長度的所述第一部分中在所述離子鏡中經受一次或多次反射之后，所述離子在所述漂移方向Y上的漂移速度跨越長度的所述第一部分減少在20％到50％范圍內的量。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的多反射質譜儀，其中與在長度的所述第二部分中在所述離子鏡中的每次反射在所述漂移方向Y上所述離子的漂移速度的平均減少相比，所述離子展現了在長度的所述第一部分中在所述離子鏡中的至少一者中的每次反射在所述漂移方向Y上所述離子的漂移速度的更大的平均減少。
7.根據權利要求1所述的多反射質譜儀，其中沿著所述長度的所述第一部分由收斂的所述離子鏡產生的返回偽電位梯度大于沿著所述長度的所述第二部分由收斂的所述離子鏡產生的返回偽電位梯度。
8.根據權利要求1所述的多反射質譜儀，其中在使用中，所述離子注入器從所述離子鏡的一個末端將離子注入到所述離子鏡之間的所述空間中，使得離子多次從一個對置的離子鏡反射到另一離子鏡，同時沿著所述漂移方向Y漂移遠離所述離子注入器以便遵循所述質譜儀內的大體上Z形路徑。
9.根據權利要求1所述的多反射質譜儀，其中所述離子注入器在所述漂移方向Y上接近于對置的所述離子鏡的一個末端而定位。
10.根據權利要求1所述的多反射質譜儀，其進一步包括位于鄰近所述離子注入器的區中的檢測器。
11.根據權利要求1所述的多反射質譜儀，其中沿著所述離子鏡的長度的所述第一和/或第二部分，每一離子鏡大體上在所述漂移方向Y上的伸長是線性的。
12.根據權利要求1到5、7到10中任一權利要求所述的多反射質譜儀，其中沿著所述離子鏡的長度的所述第一和第二部分，每一離子鏡大體上在所述漂移方向Y上的伸長是非線性的。
13.根據權利要求1到5、7到10中任一權利要求所述的多反射質譜儀，其中兩個離子鏡均被成形以便在長度的所述第一和第二部分中的一者或兩者中產生遵循多項式形狀的彎曲反射表面。
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