[發(fā)明專利]基板、包括基板的顯示設(shè)備和制造顯示設(shè)備的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711055728.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108153035B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-06-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭鐘鉉;樸弘植;姜?jiǎng)倥?/a>;金基泰;裵俊佑;梁熙星 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 北京德琦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;宋志強(qiáng) |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基板 包括 顯示 設(shè)備 制造 方法 | ||
1.一種基板,包括:
基底基板;以及
提供在所述基底基板上的光阻擋圖案,所述光阻擋圖案暴露所述基底基板的部分,
其中所述光阻擋圖案包括:
布置在所述基底基板上的半透反射層;
布置在所述半透反射層上的相位匹配層;以及
布置在所述相位匹配層上的反射金屬層,并且
其中所述相位匹配層和所述反射金屬層具有相同的蝕刻率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板,進(jìn)一步包括布置在所述反射金屬層上的透射保護(hù)層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板,其中,所述透射保護(hù)層的材料的蝕刻率與所述相位匹配層和所述反射金屬層的材料的蝕刻率相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板,進(jìn)一步包括布置在被所述光阻擋圖案暴露的所述基底基板的所述部分上的濾色器,
其中所述濾色器包括量子點(diǎn)材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板,進(jìn)一步包括布置在所述基底基板和所述濾色器之間的第一選擇透射層,
其中所述第一選擇透射層阻擋藍(lán)光。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板,進(jìn)一步包括覆蓋所述濾色器的第二選擇透射層,
其中所述第二選擇透射層反射黃光。
7.一種顯示設(shè)備,包括:
第一基板;
面向所述第一基板的第二基板;以及
布置在所述第一基板和所述第二基板之間的液晶層,
其中所述第一基板包括:
基底基板;以及
布置在所述基底基板的表面上的光阻擋圖案,所述光阻擋圖案暴露所述基底基板的部分,
其中所述光阻擋圖案包括:
布置在所述基底基板上的半透反射層;
布置在所述半透反射層上的相位匹配層;以及
布置在所述相位匹配層上的反射金屬層,并且
其中所述相位匹配層和所述反射金屬層包括具有相同的蝕刻率的材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示設(shè)備,進(jìn)一步包括布置在所述反射金屬層上的透射保護(hù)層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示設(shè)備,其中,所述透射保護(hù)層的材料的蝕刻率與所述相位匹配層和所述反射金屬層的材料的蝕刻率相同。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示設(shè)備,進(jìn)一步包括布置在被所述光阻擋圖案暴露的所述基底基板的所述部分上的濾色器,
其中所述濾色器包括量子點(diǎn)材料。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示設(shè)備,進(jìn)一步包括布置成面向所述第二基板的背光單元,
其中所述濾色器的所述量子點(diǎn)材料將由所述背光單元提供的光的顏色轉(zhuǎn)變成另一顏色。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示設(shè)備,
其中所述背光單元提供藍(lán)光,并且
其中所述量子點(diǎn)材料將所述藍(lán)光轉(zhuǎn)變成紅光或綠光。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示設(shè)備,進(jìn)一步包括布置在所述基底基板和所述濾色器之間的第一選擇透射層,
其中所述第一選擇透射層阻擋所述藍(lán)光。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示設(shè)備,進(jìn)一步包括覆蓋所述濾色器的第二選擇透射層,
其中所述第二選擇透射層反射黃光。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
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- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





