[發(fā)明專利]地面拼塊、地面系統(tǒng)及形成地面覆蓋物的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711052160.0 | 申請日: | 2014-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN107653703A | 公開(公告)日: | 2018-02-02 |
| 發(fā)明(設計)人: | P·M·雷尼 | 申請(專利權(quán))人: | 肖氏工業(yè)集團公司 |
| 主分類號: | D06N7/00 | 分類號: | D06N7/00;E04F13/08;E04F15/02 |
| 代理公司: | 北京北翔知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11285 | 代理人: | 潘飛,鄭建暉 |
| 地址: | 美國佐*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 地面 系統(tǒng) 形成 覆蓋 方法 | ||
1.一種地面拼塊,其具有第一端邊和第二端邊,以及第一側(cè)邊和第二側(cè)邊,所述拼塊的所述第一端邊與所述第二端邊之間的距離對應于所述拼塊的長度,所述拼塊的所述第一側(cè)邊與所述第二側(cè)邊之間的距離對應于所述拼塊的寬度,所述第一端邊和所述第二端邊在四個間隔開的角處被接合到所述第一側(cè)邊和所述第二側(cè)邊,所述拼塊包括:
第一部分和第二部分,其中所述第一部分和第二部分由對角邊界線來限定,所述對角邊界線從所述拼塊的所述第一側(cè)邊上的第一位置跨越所述拼塊的寬度延伸到所述拼塊的所述第二側(cè)邊上的第二位置,其中所述第一側(cè)邊上的所述第一位置從所述第一側(cè)邊以第一距離間隔開,其中所述第二側(cè)邊上的所述第二位置從所述第二端邊以第二距離間隔開,且其中所述第一距離實質(zhì)上等于所述第二距離,以及其中:
所述第一部分具有包括至少一個顏色的背景圖案;和
所述第二部分具有與所述背景圖案的一部分混雜的對照圖案,所述對照圖案包括不同于所述背景圖案的所述至少一個顏色的至少一個對照顏色;以及
其中組合的第一部分和第二部分共同來形成以角為定向的對照圖案區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的地面拼塊,其中所述第一部分包括邊界區(qū)塊,所述邊界區(qū)塊對應于定位在所述邊界線的預定距離內(nèi)的所述第一部分的部分,其中所述對照圖案的一部分從所述第二部分延伸到所述第一部分的所述邊界區(qū)塊中。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的地面拼塊,其中所述拼塊是正方形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的地面拼塊,其中所述拼塊的長度與所述預定距離之間的比率范圍從約2:1至約20:1。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的地面拼塊,其中所述拼塊的長度與所述預定距離之間的比率是約3:1。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的地面拼塊,其中所述拼塊的寬度與所述預定距離之間的比率范圍從約2:1至約20:1。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的地面拼塊,其中所述拼塊的寬度與所述預定距離之間的比率是約3:1。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的地面拼塊,其中所述拼塊的長度與所述第一距離之間的比率和所述拼塊的長度與所述第二距離之間的比率范圍從約1.2:1至約10:1。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的地面拼塊,其中所述拼塊的寬度與所述第一距離之間的比率和所述拼塊的寬度與所述第二距離之間的比率范圍從約1.2:1至約10:1。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的地面拼塊,其中所述拼塊的所述第一部分的面積實質(zhì)上等于所述拼塊的所述第二部分的面積。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的地面拼塊,其中所述對照圖案的至少一部分延伸到所述第一側(cè)邊、所述第二側(cè)邊和所述第一端邊。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的地面拼塊,其中所述拼塊實質(zhì)上是矩形。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的地面拼塊,其中所述拼塊是乙烯基拼塊。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的地面拼塊,其中所述對照圖案具有斑紋外觀。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的地面拼塊,其中所述對照圖案是隨機化的。
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