[發(fā)明專利]顯示面板及制造方法和顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711050384.8 | 申請日: | 2017-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN107632453B | 公開(公告)日: | 2021-03-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王子峰;王鳳國;史大為 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 制造 方法 顯示裝置 | ||
一種顯示面板及制造方法和顯示裝置,該顯示面板包括第一基板、第二基板和設(shè)置于第一基板和第二基板之間的液晶層;第一基板設(shè)置有黑矩陣,第二基板與第一基板相對設(shè)置且設(shè)置有遮光層圖案;其中,遮光層圖案的表面具有反光性,且至少部分遮光層圖案在第二基板上的投影延伸到黑矩陣在第二基板上的投影之外。該顯示面板可用于顯示裝置,可有效遮擋黑矩陣邊緣液晶驅(qū)動不足位置的漏光,降低暗畫面亮度,進而有效減小漏光風險、提高對比度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明的實施例涉及一種顯示面板及制造方法和顯示裝置。
背景技術(shù)
隨著電子科學技術(shù)的發(fā)展和社會發(fā)展的需求,薄膜晶體管液晶顯示面板,由于具有輕薄化、抗震性好、視角廣、對比度高等特點,已廣泛應用于各種顯示裝置中。
液晶顯示面板通常包括具有薄膜晶體管的陣列基板、具有濾色器的濾色器基板以及在陣列基板和濾色器基板之間的液晶材料。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明至少一個實施例提供一種顯示面板,包括:第一基板,設(shè)置有黑矩陣;第二基板,與第一基板相對設(shè)置且設(shè)置有遮光層圖案;以及液晶層,在第一基板和第二基板之間;其中,遮光層圖案的表面具有反光性,且至少部分遮光層圖案在第二基板上的投影延伸到黑矩陣在第二基板上的投影之外。
例如,本發(fā)明一實施例提供的顯示面板還包括多個陣列排布的子像素,在第一基板上,相鄰的兩個子像素之間設(shè)置有黑矩陣的黑矩陣線條,在第二基板上,遮光層圖案包括與黑矩陣線條對應設(shè)置的遮光線條,且遮光線條在第二基板上的投影延伸到黑矩陣線條在第二基板上的投影之外。
例如,在本發(fā)明一實施例提供的顯示面板中,遮光線條與黑矩陣線條一一對應設(shè)置,且遮光線條在第二基板上的投影在黑矩陣線條的兩側(cè)都延伸到黑矩陣線條在第二基板上的投影之外。
例如,在本發(fā)明一實施例提供的顯示面板中,遮光線條的線寬約是黑矩陣線條線寬的1.1~1.3倍。
例如,在本發(fā)明一實施例提供的顯示面板中,至少兩條相鄰的遮光線條與黑矩陣線條對應設(shè)置,其中,至少兩條相鄰的遮光線條之一在第二基板上的投影在黑矩陣線條的第一側(cè)延伸到黑矩陣線條在第二基板上的投影之外,至少兩條相鄰的遮光線條另一條在第二基板上的投影在黑矩陣線條的第二側(cè)延伸到黑矩陣線條在第二基板上的投影之外。
例如,在本發(fā)明一實施例提供的顯示面板中,遮光層圖案由金屬材料制成,遮光層圖案背離第一基板表面為粗糙表面。
例如,在本發(fā)明一實施例提供的顯示面板中,金屬材料包括銀、鋁、鉻、銅、鉬、鈦、鋁釹合金、銅鉬合金、鉬鉭合金、鉬釹合金或任何它們的任意組合。
例如,在本發(fā)明一實施例提供的顯示面板中,遮光層圖案由光子晶體形成。
例如,在本發(fā)明一實施例提供的顯示面板中,光子晶體包括交替層疊的多層SiOx與多層SiNx。
本發(fā)明至少一個實施例提供一種顯示裝置,該顯示裝置包括本發(fā)明任一實施例的顯示面板。
例如,本發(fā)明一實施例提供的顯示裝置還包括背光單元,其中,背光單元設(shè)置在第二基板一側(cè),從而背光單元發(fā)射的光照射經(jīng)遮光層圖案入射到顯示面板。
本發(fā)明至少一個實施例提供一種制造顯示面板的方法,包括:提供形成有黑矩陣的第一基板;與第一基板相對設(shè)置形成有遮光層圖案的第二基板;以及在第一基板和第二基板之間提供液晶層;其中,遮光層圖案的表面具有反光性,且至少部分遮光層圖案在第二基板上的投影延伸到黑矩陣在第二基板上的投影之外。
例如,在本發(fā)明一實施例提供的方法中,形成遮光層圖案包括:通過光刻工藝對金屬遮光層進行構(gòu)圖以形成遮光層圖案,并且將遮光層圖案背離第一基板表面形成為粗糙表面。
例如,在本發(fā)明一實施例提供的方法中,由光子晶體形成遮光層圖案。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





