[發(fā)明專利]基于支持向量機(jī)識(shí)別六氟化硫局部放電特性的絕緣缺陷在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711049428.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107862332A | 公開(公告)日: | 2018-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姚強(qiáng);伏進(jìn);唐炬;邱妮;苗玉龍;宮林;曾福平;劉曉秋;胡曉銳;籍勇亮;張施令 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 國(guó)網(wǎng)重慶市電力公司電力科學(xué)研究院;國(guó)網(wǎng)重慶市電力公司檢修分公司;國(guó)家電網(wǎng)公司;武漢大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06K9/62 | 分類號(hào): | G06K9/62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 支持 向量 識(shí)別 六氟化硫 局部 放電 特性 絕緣 缺陷 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及支持向量機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種基于支持向量機(jī)識(shí)別六氟化硫局部放電特性的絕緣缺陷。
背景技術(shù)
六氟化硫(SF6)氣體由于其優(yōu)良的絕緣和滅弧性能而廣泛應(yīng)用于氣體絕緣設(shè)備中。然而,SF6氣體絕緣設(shè)備(簡(jiǎn)稱SF6電氣設(shè)備,如氣體絕緣組合電器GIS、氣體絕緣斷路器GCB、氣體絕緣變壓器GIT以及氣體絕緣線路或管道GIL等)在制造、運(yùn)輸、安裝、檢修和運(yùn)行等過(guò)程中,內(nèi)部不可避免地會(huì)出現(xiàn)各種絕緣缺陷,如導(dǎo)體上的金屬毛刺、部件松動(dòng)或接觸不良、導(dǎo)體與支撐絕緣子剝離形成的氣隙、檢修后的遺留物以及腔體內(nèi)的金屬微粒等,這些都會(huì)使SF6設(shè)備內(nèi)部形成不同程度的絕緣缺陷,從而導(dǎo)致設(shè)備內(nèi)部電場(chǎng)發(fā)生畸變,進(jìn)而產(chǎn)生局部放電(PD)。
當(dāng)出現(xiàn)嚴(yán)重的PD時(shí),一方面,PD會(huì)加快對(duì)設(shè)備內(nèi)部絕緣的進(jìn)一步破壞,最終導(dǎo)致絕緣故障造成停電事故,對(duì)運(yùn)行中的SF6設(shè)備是一種潛在的隱患,有絕緣“腫瘤”之稱;另一方面,PD又是有效表征絕緣狀況的特征量,通過(guò)對(duì)SF6電氣設(shè)備的PD進(jìn)行檢測(cè)并進(jìn)行模式識(shí)別,可以在很大程度上發(fā)現(xiàn)SF6設(shè)備內(nèi)部存在的絕緣缺陷及類型。因此,識(shí)別絕緣缺陷的產(chǎn)生對(duì)保證SF6電氣設(shè)備安全可靠運(yùn)行具有重要的現(xiàn)實(shí)意義。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷,本發(fā)明的目的就是提供一種基于支持向量機(jī)識(shí)別六氟化硫局部放電特性的絕緣缺陷,保證SF6設(shè)備的安全可靠運(yùn)行,提高其對(duì)各類缺陷的區(qū)分度,可以提高對(duì)絕緣故障的處理效率。
本發(fā)明的目的是通過(guò)這樣的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的,一種基于支持向量機(jī)識(shí)別六氟化硫局部放電特性的絕緣缺陷,它包括有:所述絕緣缺陷的識(shí)別過(guò)程如下:
S1:構(gòu)造支持向量機(jī)分類器;
S2:對(duì)支持向量機(jī)的參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化;
S3:獲取六氟化硫的分解數(shù)據(jù);
S4:支持向量機(jī)對(duì)六氟化硫的分解數(shù)據(jù)進(jìn)行識(shí)別。
進(jìn)一步,步驟S1中支持向量機(jī)分類器的構(gòu)造過(guò)程如下:
S11:假定樣本集為其中,xi∈Rn為輸入向量,N表示樣本個(gè)數(shù),yi∈{±1}為類標(biāo)號(hào),則輸入向量在高維空間F中對(duì)應(yīng)的向量為φ(x);
S12:在F空間中構(gòu)造超平面f(x)=(w·φ(x))+b,其中w為超平面的法向量,b為偏移量;
S13:存在一個(gè)超平面,使得兩類樣本間隔最大,這個(gè)超平面稱為最優(yōu)分類面,此時(shí)w=w*,b=b*。
進(jìn)一步,S14:求解步驟S13的最優(yōu)分類面f(x)=(w*·φ(x))+b*的問(wèn)題可轉(zhuǎn)化為:
其中,ξi為松弛因子,C>0稱為懲罰因子,上述最優(yōu)分類面求解問(wèn)題為具有線性約束的二次規(guī)劃問(wèn)題,求解后的表達(dá)式如下:
s.t.αi≥0,βi≥0(4)
其中αi,βi為拉格朗日乘子。
進(jìn)一步,S15:將步驟S14轉(zhuǎn)化為對(duì)偶問(wèn)題可得:
由式(5)和式(6)求出αi以及其中,K(xi,xj)=φ(xi)·φ(xj),稱為核函數(shù)。
進(jìn)一步,S16:步驟S15中的核函數(shù)采用高斯徑向基核,其表達(dá)式為:
S17:由KKT條件可以得到式(8),從中可以求得b*;
S18:最終可以求得最優(yōu)分類面f(x)=(w*·φ(x))+b*,根據(jù)最優(yōu)分類面可以得到分類判別函數(shù)為:
進(jìn)一步,步驟S1中支持向量機(jī)的分類器構(gòu)造還包括:
S101:如果樣本有k類,則構(gòu)造k(k-1)/2個(gè)分類器;
S102:當(dāng)對(duì)樣本進(jìn)行分類時(shí),將樣本同時(shí)輸入這k(k-1)/2個(gè)分類器:;
S103:統(tǒng)計(jì)分類結(jié)果,將結(jié)果中得票最多類別作為樣本所屬的類。
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- 專利分類
G06K 數(shù)據(jù)識(shí)別;數(shù)據(jù)表示;記錄載體;記錄載體的處理
G06K9-00 用于閱讀或識(shí)別印刷或書寫字符或者用于識(shí)別圖形,例如,指紋的方法或裝置
G06K9-03 .錯(cuò)誤的檢測(cè)或校正,例如,用重復(fù)掃描圖形的方法
G06K9-18 .應(yīng)用具有附加代碼標(biāo)記或含有代碼標(biāo)記的打印字符的,例如,由不同形狀的各個(gè)筆畫組成的,而且每個(gè)筆畫表示不同的代碼值的字符
G06K9-20 .圖像捕獲
G06K9-36 .圖像預(yù)處理,即無(wú)須判定關(guān)于圖像的同一性而進(jìn)行的圖像信息處理
G06K9-60 .圖像捕獲和多種預(yù)處理作用的組合
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