[發(fā)明專利]氣浴裝置、該氣浴裝置的制備方法以及光刻設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711046779.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-31 | 
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109725494A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-05-07 | 
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊志斌;高玉英;俞蕓;魏巍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司 | 
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 | 
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時(shí)云 | 
| 地址: | 201203 上*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 | 
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 溫控介質(zhì) 進(jìn)氣接口 出風(fēng)口 光刻設(shè)備 殼體 制備 測(cè)量傳感器 通道設(shè)置 吹出 流體 體內(nèi) 交換 | ||
本發(fā)明提供了氣浴裝置、該氣浴裝置的制備方法以及光刻設(shè)備,包括殼體、進(jìn)氣接口、溫控介質(zhì)通道、出風(fēng)口,所述進(jìn)氣接口、所述出風(fēng)口設(shè)置于所述殼體上,所述溫控介質(zhì)通道設(shè)置于所述殼體內(nèi),所述溫控介質(zhì)通道內(nèi)用于通入流體的溫控介質(zhì),氣體由所述進(jìn)氣接口進(jìn)入,與所述溫控介質(zhì)通過(guò)所述溫控介質(zhì)通道進(jìn)行交換熱量后由所述出風(fēng)口吹出。本發(fā)明提供的氣浴裝置能夠使得測(cè)量傳感器的精度高。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光刻技術(shù)領(lǐng)域,涉及氣浴裝置、該氣浴裝置的制備方法以及光刻設(shè)備。
背景技術(shù)
氣浴裝置是對(duì)光刻設(shè)備空間光路或核心器件進(jìn)行精確控溫的主要器件。氣浴裝置送風(fēng)的均勻性和穩(wěn)定性是評(píng)價(jià)氣浴裝置的主要性能指標(biāo),氣浴裝置結(jié)構(gòu)緊湊性是決定氣浴裝置是否可集成到整機(jī)上的重要結(jié)構(gòu)指標(biāo)。
現(xiàn)有技術(shù)設(shè)計(jì)的氣浴裝置均勻性很難突破20mk,對(duì)雙臺(tái)及TFT等大空間光程設(shè)計(jì)的傳統(tǒng)氣浴,700mm以上長(zhǎng)光程上空氣溫度均勻性更差,導(dǎo)致測(cè)量傳感器精度難以提高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供氣浴裝置、該氣浴裝置的制備方法以及光刻設(shè)備,旨在解決測(cè)量傳感器精度低的問(wèn)題。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種氣浴裝置裝置,包括殼體、進(jìn)氣接口、溫控介質(zhì)通道、出風(fēng)口,所述進(jìn)氣接口、所述出風(fēng)口設(shè)置于所述殼體上,所述溫控介質(zhì)通道設(shè)置于所述殼體內(nèi),所述溫控介質(zhì)通道內(nèi)用于通入流體的溫控介質(zhì),氣體由所述進(jìn)氣接口進(jìn)入,與所述溫控介質(zhì)通過(guò)所述溫控介質(zhì)通道進(jìn)行交換熱量后由所述出風(fēng)口吹出。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,所述進(jìn)氣口用于通入壓縮空氣。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,還包括有多孔介質(zhì),所述多孔介質(zhì)與所述溫控介質(zhì)通道外壁相接。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,所述多孔介質(zhì)設(shè)置于所述溫控介質(zhì)通道與所述殼體之間。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,所述多孔介質(zhì)由若干晶格狀結(jié)構(gòu)組成。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,所述出氣口設(shè)置有多個(gè)。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,所述出氣口處設(shè)置有若干個(gè)多孔板,所述多孔板用于均勻氣流。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,位于所述出氣口處的所述殼體上設(shè)置有用于對(duì)氣流進(jìn)行導(dǎo)向的導(dǎo)風(fēng)柵。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,所述導(dǎo)風(fēng)柵上設(shè)置有加熱片。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,所述導(dǎo)風(fēng)柵上設(shè)置有用于調(diào)節(jié)所述導(dǎo)風(fēng)柵的角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,所述導(dǎo)風(fēng)柵所在的平面與所述多孔板所在的平面之間的夾角為5°~90°。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,所述導(dǎo)風(fēng)柵的長(zhǎng)度為10mm~20mm,相鄰所述導(dǎo)風(fēng)柵之間的距離為5mm~10mm。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,所述溫控介質(zhì)通道為蛇形結(jié)構(gòu)。
一種氣浴裝置的制備方法,包括有上任一項(xiàng)所述的溫控介質(zhì)通道和多孔介質(zhì),所述溫控介質(zhì)通道和所述多孔介質(zhì)均由3D打印制成。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,所述溫控介質(zhì)通道與所述多孔介質(zhì)由3D打印成一體。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為,所述多孔介質(zhì)的孔徑為1mm。
一種光刻設(shè)備,包括有上所述的氣浴裝置。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司,未經(jīng)上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711046779.0/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
 
- 專利分類
 
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





