[發明專利]一種水幕和水霧的復合噴頭有效
| 申請號: | 201711044640.2 | 申請日: | 2017-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN107631662B | 公開(公告)日: | 2023-09-29 |
| 發明(設計)人: | 劉銀水;牛國賢;鄧亦攀;吳德發;王樂 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | F41H3/00 | 分類號: | F41H3/00;B05B1/12 |
| 代理公司: | 華中科技大學專利中心 42201 | 代理人: | 張彩錦;曹葆青 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 水幕 水霧 復合 噴頭 | ||
本發明屬于噴頭領域,并公開了一種水幕和水霧的復合噴頭。該復合噴頭包括前置噴頭和后置噴頭,后置噴頭呈圓臺狀,且該圓臺的上表面與前置噴頭相連,該圓臺的側面上設置有多個出液槽,此外,圓臺的底端設置有進液口;前置噴頭包括本體和多個噴嘴,本體呈六棱臺狀,該六棱臺的上頂面和側面上均設置凹槽,凹槽中設置有中空的圓柱凸臺,圓柱凸臺的側面設置有進液口;噴嘴與凹槽連接,噴嘴的中心設置有錐形槽,錐形槽的底端設置有出液口,此外,凹槽中設置與液體入口連通的通孔。通過本發明,實現向后噴射形成水幕和向前噴射形成水霧,結構簡單緊湊,零部件少,適用于需要減弱表面紅外特征和屏蔽自身可見光特殊設備。
技術領域
本發明屬于噴頭領域,更具體地,涉及一種水幕和水霧的復合噴頭。
背景技術
現代偵察技術迅猛發展,目標被發現即意味著會被打擊,紅外制導技術和衛星制導技術的迅速發展對武器系統的生存構成嚴重威脅,為了提升武器系統的生存能力,除了要大力發展反導技術,還要增強武器系統隱身能力。
水的比熱容很大,讓水從物體表面流過,可以快速吸熱,降低物體表面溫度,使物體溫度與周圍環境保持一致,細水霧的水滴粒徑比可見光的波長大得多,當可見光穿過細水霧時會發生無選擇性散射,在需要隱身的設備外形成水幕和水霧,通過水幕降低目標物體表面溫度,水霧屏蔽目標物發出的可見光,達到設備隱身的目的。
為了實現裝備隱身的目標,國內外都進行了相關研究,開發出各種各樣的水幕噴頭,其他產品大都只有形成水幕的能力且體積龐大,隱身效果差。
發明內容
針對現有技術的以上缺陷或改進需求,本發明提供了一種水幕和水霧的復合噴頭,通過前置噴頭的設計,使得噴出的水形成水霧屏蔽可見光和紅外輻射,同時,通過后置噴頭的設計,使得噴出的水形成水幕,降低物體表面的溫度,由此解決降溫效果差,以及屏蔽可見光和紅外輻射效果差的技術問題。
為實現上述目的,按照本發明,提供了一種水幕和水霧的復合噴頭,該噴頭包括前置噴頭和后置噴頭,其特征在于,
所述后置噴頭呈圓臺狀,該圓臺的上表面直徑大于下底面直徑,且該圓臺的上表面與所述前置噴頭相連,該圓臺的側面上設置有多個出液槽,此外,所述圓臺的底端設置有液體入口,水流從該液體入口的下端進入,從所述出液槽中噴出;
所述前置噴頭包括本體和多個噴嘴,該本體呈六棱臺狀,該六棱臺的上頂面和側面上均設置凹槽,該凹槽中設置有中空的圓柱凸臺,該圓柱凸臺的側面設置有進液口;所述噴嘴與所述凹槽配合連接,該噴嘴沿中心軸向方向設置有錐形槽,該錐形槽的底端設置有出液口,且該錐形槽與所述中空的圓柱凸臺配合且連通,此外,所述凹槽中設置有與所述液體入口連通的通孔,水流從所述液體入口中進入所述通孔中,然后從所述進液口進入所述圓柱凸臺,并沿該圓柱凸臺的內壁運動形成旋轉水流,接著流入所述錐形凹槽并從所述出液口噴出。
進一步優選地,所述圓臺的側面與該圓臺的中心軸線的夾角為3°。
進一步優選地,所述多個出液槽之間相互平行,每個水槽對應的圓弧角度為70°,相鄰水槽重疊的部分對應的圓弧角度為5°,此外,所述水槽的數量優選采用六個,且該水槽的槽口與所述圓臺側面垂直。
進一步優選地,所述錐形槽的直徑與所述圓柱凸臺的內徑相同。
進一步優選地,所述錐形槽與所述圓柱凸臺具有相同的中心軸。
進一步優選地,所述出液口的直徑為2mm~5mm。
進一步優選地,所述噴嘴與所述凹槽優選采用過盈配合、焊接或螺紋連接。
進一步優選地,所述前置噴頭和后置噴頭均優選采用硬質合金,優選不銹鋼合金。
總體而言,通過本發明所構思的以上技術方案與現有技術相比,能夠取得下列有益效果:
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