[發(fā)明專利]在中溫下彈坑檢測的預(yù)處理方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711041685.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107799399B | 公開(公告)日: | 2020-01-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 章建聲;曹弦;黃迅駒;張青云 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江華越芯裝電子股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/02 | 分類號(hào): | H01L21/02 |
| 代理公司: | 33220 紹興市越興專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 蔣衛(wèi)東 |
| 地址: | 312000 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 中溫下 彈坑 檢測 預(yù)處理 方法 | ||
本發(fā)明公開一種在中溫下彈坑檢測的預(yù)處理方法,先將待檢硅片浸入裝有腐蝕液A的1號(hào)燒杯中,然后將整個(gè)1號(hào)燒杯中溫水浴5?10分鐘,接著取出待檢硅片并用純水沖洗干燥,然后將待檢硅片放入裝有腐蝕液B的2號(hào)燒杯中,并將整個(gè)2號(hào)燒杯中溫水浴5?10分鐘,最后將預(yù)處理后的待檢硅片取出清洗干凈,置于高倍顯微鏡下檢測。上述在中溫下彈坑檢測的預(yù)處理方法,通過腐蝕液A、腐蝕液B在中溫狀態(tài)下先后腐蝕,即可實(shí)現(xiàn)AL?Si?CU電極層上銅絲球焊質(zhì)量的檢測,整個(gè)預(yù)處理過程快速高效、安全環(huán)保,且操作方便。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種在中溫下彈坑檢測的預(yù)處理方法,屬于集成電路制造領(lǐng)域。
背景技術(shù)
目前針對(duì)半導(dǎo)體集成電路鍵合工藝所用材料大部分由金絲改用銅絲,由于銅絲與金絲材料特性不同,銅絲的球焊工藝方法與金絲的球焊工藝方法有所不同,雖然都是用高壓電火花將銅(金)絲端部熔成球,然后在芯片焊位上加熱加壓加超聲波使接觸面產(chǎn)生結(jié)合完成球焊,但是由于銅絲材料的特性沒有金絲好,加工過程較為困難與復(fù)雜,如工藝控制偏差會(huì)造成芯片正面AL-Si-CU電極層電路受到損傷,對(duì)該焊點(diǎn)的要求是銅球既要與芯片正面的AL-Si-CU電極層結(jié)合力強(qiáng)又不能損傷芯片AL-Si-CU電極層,如果這個(gè)結(jié)合點(diǎn)傷及到芯片AL-Si-CU電極層,產(chǎn)品就會(huì)失效或者存在潛在的失效可能,這既影響產(chǎn)品的合格率同時(shí)潛在的失效又影響客戶端產(chǎn)品的使用壽命,對(duì)產(chǎn)品直接造成不利影響,因此需要了解判斷銅球是否與芯片AL-Si-CU電極層接合后對(duì)芯片AL-Si-CU電極層造成了影響,我們業(yè)內(nèi)稱之為彈坑的檢測至關(guān)重要,成為了集成電路封裝鍵合過程中關(guān)鍵的質(zhì)量控制點(diǎn)。傳統(tǒng)的方法對(duì)AL-Si-CU合金電路層的芯片的檢測效果較差,而現(xiàn)今此類合金層的集成電路芯片比例越來越多。申請(qǐng)?zhí)枮?011018646.6的專利《一種檢測銅絲球焊質(zhì)量的工藝方法》,公開了一種檢測銅絲球焊質(zhì)量的方法,但該檢測方法需要加熱至95-1200C,如此高的溫度會(huì)造成操作不方便、不安全,且對(duì)環(huán)境影響較大。
有鑒于此,本發(fā)明人對(duì)此進(jìn)行研究,專門開發(fā)出一種在中溫下彈坑檢測的預(yù)處理方法,本案由此產(chǎn)生。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有技術(shù)中高溫、不安全等問題,本發(fā)明提供在一種中溫下彈坑檢測的預(yù)處理方法。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的解決方案是:
在中溫下彈坑檢測的預(yù)處理方法,先將待檢硅片浸入裝有腐蝕液A的1號(hào)燒杯中,然后將整個(gè)1號(hào)燒杯中溫水浴5-10分鐘,接著取出待檢硅片并用純水沖洗干燥,然后將待檢硅片放入裝有腐蝕液B的2號(hào)燒杯中,并將整個(gè)2號(hào)燒杯中溫水浴5-10分鐘,最后將預(yù)處理后的待檢硅片取出清洗干凈,置于高倍顯微鏡下檢測。
作為優(yōu)選,所述腐蝕液A為10-20%NaOH,所述百分比為體積濃度。
作為優(yōu)選,所述腐蝕液B為10-20%硫酸+3-5%醋酸+20-30%磷酸,所述百分比為體積濃度。
作為優(yōu)選,所述無水乙醇的濃度為90-100%,所述百分比為體積濃度。
作為優(yōu)選,所述中溫為40-60℃。
作為優(yōu)選,所述預(yù)處理后的待檢硅片清洗包括:先用純水沖洗,然后用無水乙醇脫水清洗干凈。
作為優(yōu)選,所述高倍顯微鏡為200倍或200倍以上的顯微鏡。
本發(fā)明所述的在中溫下彈坑檢測的預(yù)處理方法,通過腐蝕液A、腐蝕液B在40-60℃的中溫狀態(tài)下先后腐蝕,即可實(shí)現(xiàn)AL-Si-CU電極層上銅絲球焊質(zhì)量的檢測,整個(gè)預(yù)處理過程快速高效、安全環(huán)保,且操作方便。
以下結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)描述。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于浙江華越芯裝電子股份有限公司,未經(jīng)浙江華越芯裝電子股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711041685.4/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 電鍍預(yù)處理溶液和電鍍預(yù)處理方法
- 鐵水預(yù)處理方法及其預(yù)處理裝置
- 預(yù)處理裝置及其預(yù)處理方法
- 預(yù)處理組件、使用該預(yù)處理組件進(jìn)行試樣的預(yù)處理的預(yù)處理裝置及包括該預(yù)處理裝置的分析系統(tǒng)
- 待測樣品預(yù)處理裝置、預(yù)處理筒及預(yù)處理方法
- 醋酸纖維卷曲預(yù)處理裝置、預(yù)處理液及預(yù)處理方法
- 預(yù)處理裝置
- 預(yù)處理濾芯
- 甘薯儲(chǔ)藏預(yù)處理設(shè)備及預(yù)處理方法
- 水樣預(yù)處理裝置、水樣預(yù)處理系統(tǒng)及水樣預(yù)處理方法





