[發(fā)明專利]硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711038218.6 | 申請日: | 2017-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN107785459B | 公開(公告)日: | 2019-08-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 閆玲玲;蔡紅新;陳亮;王永強;楊鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 河南理工大學 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/0352 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 吳嘯寰 |
| 地址: | 454150 河南*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 硫化 量子 納米 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池的制備方法,其特征在于,包括用連續(xù)離子層吸附反應法在納米孔柱硅片表面制備Cu和In摻雜的硫化鎘量子點的步驟;
制備Cu和In摻雜的硫化鎘量子點的方法包括以下步驟:
步驟a):將銦源與鎘源溶于第一溶劑中形成前驅(qū)液A,其中銦元素與鎘元素的摩爾比為1:(8-13);將銅源與鎘源溶于第二溶劑中形成前驅(qū)液B,其中,銅元素與鎘元素的摩爾比為1:(95-105);將硫化銨溶于第三溶劑中形成陰離子前驅(qū)液;
步驟b):先將納米孔柱硅片置于前驅(qū)液A中浸漬4-6min,然后清洗干燥后置于陰離子前驅(qū)液中浸漬4-6min,之后再清洗干燥;該步驟循環(huán)重復進行3-6次;
步驟c):將經(jīng)過步驟b)處理后的納米孔柱硅片置于前驅(qū)液B中浸漬4-6min,然后清洗干燥后置于陰離子前驅(qū)液中浸漬4-6min,之后再清洗干燥;該步驟循環(huán)重復進行3-6次,即在納米孔柱硅片表面制備得到Cu和In摻雜的硫化鎘量子點;
步驟d):依次采用稀鹽酸和飽和氫氧化鈉溶液對生長有Cu和In共摻雜的硫化鎘量子點的納米孔柱硅片的任意一側(cè)表面進行腐蝕清洗,直至去除Cu和In摻雜的硫化鎘量子點。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述前驅(qū)液A的濃度為0.07-0.13mol/L。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述銦源包括In(Cl)3或In2(SO4)3。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述鎘源包括Cd(Ac)2、Cd(Cl)2或CdSO4。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述第一溶劑包括乙醇或甲醇。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述前驅(qū)液B的濃度為0.07-0.13mol/L。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述銅源包括Cu(Cl)3、Cu(Ac)2或CuSO4。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述第二溶劑包括乙醇或甲醇。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述陰離子前驅(qū)液的濃度為0.07-0.13mol/L。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述第三溶劑包括甲醇或乙醇。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-10任一項所述的硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池的制備方法,其特征在于,納米孔柱硅片的制備方法包括用水熱腐蝕法在P型硅片表面制備出柱狀結(jié)構(gòu),得到納米孔柱硅片。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述水熱腐蝕法包括以下步驟:對P型硅片進行清洗,清洗后放入水熱反應釜中進行反應,反應結(jié)束后得到納米孔柱硅片。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的硫化鎘量子點/硅納米孔柱太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述清洗包括利用RCA標準清洗法進行清洗。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





