[發明專利]光源模塊以及分析樣品的分析儀器

在審

• 申請號: 201711038060.2
• 申請日: 2013-09-29
• 公開（公告）號: CN107883204A
• 公開（公告）日: 2018-04-06
• 發明（設計）人: F.德雷爾;A.弗蘭;J.維茨雷克
• 申請（專利權）人: 霍夫曼-拉羅奇有限公司
• 主分類號: F21K9/20
• 分類號: F21K9/20;F21K9/61;F21V23/00;G01N21/01;G01N21/64;F21Y115/10
• 代理公司: 北京坤瑞律師事務所11494
• 代理人: 封新琴

1.一種用在分析至少一種樣品(114)的分析儀器(112)中的光源模塊(110)，該光源模塊(110)包含至少一個發光二極管(LED，118)、和適合引導和成形該發光二極管(118)發出的光(122)的至少一根光導棒(120)，該光源模塊(110)進一步包含至少一個存儲器件(126)，該存儲器件(126)在其中存儲至少一個驅動參數集(128)，用于以產生該光源模塊(110)提供的光(122)的所希望發射性質的方式驅動該發光二極管(118)。

2.根據權利要求1所述的光源模塊(110)，其中該發光二極管(118)包含至少一個白色發光二極管(132)，優選的是至少一個發光二極管陣列(134)。

3.根據權利要求1或2所述的光源模塊(110)，其中該存儲器件(126)為該光源模塊(118)的不同應用存儲至少兩個不同的驅動參數集(128)。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的光源模塊(110)，其中該驅動參數集控制如下的一個或多個：該光源模塊(110)提供的光(122)的功率；該光源模塊(110)提供的光(122)的頻率；該光源模塊(110)提供的光(122)的至少一個頻帶；以及作為該光源模塊(110)提供的光(122)的頻率的函數的光(122)的強度分布。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的光源模塊(110)，其中該光源模塊(110)包含至少一個控制單元(124)。

6.根據權利要求5所述的光源模塊(110)，其中該控制單元(124)控制定時程序以通過時間分段驅動該光源模塊(110)，其中每個時間分段在適合該光源模塊(110)使用的頻帶中提供一種強度。

7.根據權利要求5或6所述的光源模塊(110)，其中該控制單元(124)控制定時程序以激活該發光二極管(118)的發光元件，其中該發光二極管(118)包含兩個或更多個發光元件，其中該兩個或更多個發光元件發出不同頻率的光。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的光源模塊(110)，其中該存儲器件(126)包含至少一個EEPROM。

9.根據權利要求1至8中任一項所述的光源模塊(110)，其中該光導棒(120)包含至少一個前端(154)，其中該前端(154)包含至少一個入射晶面(156)，其中該入射晶面(156)的幾何形狀與該發光二極管(118)的發光表面的表面區的幾何形狀匹配。

10.根據權利要求9所述的光源模塊(110)，其中該入射晶面(156)具有在該發光二極管(118)的發光表面的表面區的-10％到+10％的范圍內的表面區。

11.根據權利要求1至10中任一項所述的光源模塊(110)，其中該光導棒(120)包含一個后端(158)，其中該后端(158)包括一個出射晶面(160)，其中該出射晶面(160)包含至少一個散射表面(162)。

12.根據權利要求1至8中任一項所述的光源模塊(110)，其中該光導棒(120)包含至少一個前端(154)和一個后端(158)，該發光二極管(118)發出的光(122)經該前端(154)進入該光導棒(120)，經該后端(158)射出，其中，該光導棒(120)從該前端朝著該后端錐形地變寬。

13.一種分析至少一種樣品(114)的分析儀器(112)，該分析儀器(112)包含根據權利要求1至12中任一項所述的光源模塊(110)，該分析儀器(112)具有用于該光源模塊(110)產生的光的入射窗，該分析儀器(112)適用于將該光源模塊(110)發出的光(122)引到至少一種樣品(114)上。

14.根據權利要求13所述的分析儀器(112)，其中該分析儀器(112)進一步包含適用于接收光(122)的至少一個光檢測器(168)，該光(122)是樣品(114)發出的光(122)、透射通過樣品(114)的光(122)和樣品(114)反射的光(122)的一種或多種。

15.一種包含分析儀器(112)的分析系統，該分析儀器(112)包括含有非發光二極管光源的第一光源模塊和帶有發光二極管光源(118)的第二光源模塊(110)，該第二光源模塊(110)的光特性適合模擬第一光源模塊特性。