[發(fā)明專利]一種流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的通氣去雜質(zhì)裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711036531.6
• 申請(qǐng)日: 2017-10-30
• 公開（公告）號(hào): CN109723501A
• 公開（公告）日: 2019-05-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 不公告發(fā)明人
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西安智星語知識(shí)產(chǎn)權(quán)服務(wù)有限公司
• 主分類號(hào): F01C21/06
• 分類號(hào): F01C21/06;F01C21/18;F01C20/28
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• 代理人: 暫無信息

一種流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的通氣去雜質(zhì)裝置，去雜質(zhì)裝置配置著同輸氣段相連的供氣通道，另外同防護(hù)殼輸氣通道的一頭相連，防護(hù)殼輸氣通道的另一頭同防護(hù)殼里連通；涌至輸氣段的氣流經(jīng)由供氣通道而達(dá)去雜質(zhì)裝置，去除雜質(zhì)后的氣流經(jīng)由供氣通道涌進(jìn)防護(hù)殼；去雜質(zhì)裝置包括上部剖面不小于下部剖面的圓臺(tái)段及配備于圓臺(tái)段上部的容器，容器的下部同圓臺(tái)段相通。避免了現(xiàn)有技術(shù)中容易發(fā)生易燃、流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)工作周期減少、氣流控制無法調(diào)頻、顆粒物雜質(zhì)常常涌至流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)中的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及機(jī)電技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的通氣去雜質(zhì)裝置。

背景技術(shù)

伴著流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的功率愈來愈高，流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)在日常工作中，流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)里面的溫升器件的溫度也在工作中愈來愈高，這樣的性能對(duì)流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的日常工作伴著不小的危險(xiǎn)。

這樣流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的導(dǎo)線熱量聚集的天下下工作期間，它的阻抗就增加，亦讓溫度愈來愈大，構(gòu)成反復(fù)的不利作用，若流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的導(dǎo)線長(zhǎng)時(shí)間工作在這樣的條件下，容易發(fā)生易燃的問題；流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)在此條件下工作，因?yàn)榕蛎浀年P(guān)系，流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)里面的器件間出現(xiàn)應(yīng)變作用，使得流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)工作周期減少。并且氣流控制無法調(diào)頻、顆粒物雜質(zhì)常常涌至流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)中。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的通氣去雜質(zhì)裝置，避免了現(xiàn)有技術(shù)中容易發(fā)生易燃、流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)工作周期減少、氣流控制無法調(diào)頻、顆粒物雜質(zhì)常常涌至流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)中的問題。

為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本發(fā)明提供了一種流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的通氣去雜質(zhì)裝置的解決方案，具體如下：

一種流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的通氣去雜質(zhì)裝置，包括防護(hù)殼A5、容納腔A7、帶有翅片的定位圈A9、支撐臺(tái)A6及容納腔套；

容納腔A7處在防護(hù)殼A5的頂部且于橫向上能旋動(dòng)，帶有翅片的定位圈A9同容納腔A7相連且于縱向上能旋動(dòng)，支撐臺(tái)A6處在容納腔A7里面還讓帶有翅片的定位圈A9與防護(hù)殼A5相通，容納腔套處在容納腔A7外邊壁，用來保護(hù)容納腔A7里的金屬架構(gòu)與控制設(shè)備防止遭致紫外線、液流與霜?dú)獾呢?fù)作用，在容納腔A7的后端還配置著百頁框A8，它不光能防止大氣里的顆粒物雜質(zhì)涌至容納腔A7；

輸氣段包括輸氣通道與配備于輸氣通道位置的輸氣裝置A2，輸氣通道同外部相通，輸氣裝置A2把外部的氣流經(jīng)由輸氣通道傳至輸氣段里，所述輸氣裝置A2是真空送氣機(jī)；

所述通風(fēng)去雜質(zhì)裝置還包括輸氣用PLCA1，所述輸氣用PLCA1各自同流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的操縱裝置A4與輸氣裝置A2相連，流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的操縱裝置A4經(jīng)由變化輸氣用PLCA1的頻率，操縱輸氣裝置A2的頻率，來變化輸氣大小；

去雜質(zhì)裝置A3配置著同輸氣段相連的供氣通道D1，另外同防護(hù)殼輸氣通道B0的一頭相連，防護(hù)殼輸氣通道B0的另一頭同防護(hù)殼A5里連通；涌至輸氣段的氣流經(jīng)由供氣通道D1而達(dá)去雜質(zhì)裝置A3，去除雜質(zhì)后的氣流經(jīng)由供氣通道D1涌進(jìn)防護(hù)殼A5；

去雜質(zhì)裝置A3包括上部剖面不小于下部剖面的圓臺(tái)段D3及配備于圓臺(tái)段D3上部的容器D2，容器D2的下部同圓臺(tái)段D3相通。

所述流體驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的送風(fēng)除塵系統(tǒng)處在防護(hù)殼A5的下部，它包括輸氣段、去雜質(zhì)裝置A3和防護(hù)殼輸氣通道B0，輸氣段把源自經(jīng)由外部的氣流導(dǎo)至去雜質(zhì)裝置A3里，去雜質(zhì)裝置A3對(duì)氣體執(zhí)行去雜質(zhì)處理，還把去雜質(zhì)后的氣流經(jīng)由防護(hù)殼輸氣通道B0流進(jìn)防護(hù)殼A5里。

去雜質(zhì)裝置A3是真空去雜質(zhì)裝置，不但可以傳送氣流還可去掉大氣中的雜質(zhì)，避免了在朝防護(hù)殼A5輸氣期間須得浪費(fèi)另外的篩板設(shè)備的缺點(diǎn)；另外去雜質(zhì)裝置A3是黃銅材料，能避免外部的紫外線、液流與霜?dú)獾那趾Α?/p>