[發明專利]清潔裝置和處理盒有效
| 申請號: | 201711033499.6 | 申請日: | 2017-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN108021007B | 公開(公告)日: | 2021-06-11 |
| 發明(設計)人: | 竹內俊陽;楠戶良志;清水宏樹;松本一樹 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G21/00 | 分類號: | G03G21/00 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 李鵬宇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 清潔 裝置 處理 | ||
1.一種清潔裝置,該清潔裝置能從圖像形成裝置的裝置主體拆卸,所述清潔裝置包括:
圖像承載構件;
刮刀構件,該刮刀構件包括與所述圖像承載構件的表面接觸的由彈性體構成的彈性構件以及支撐所述彈性構件的支撐構件;和
框架,該框架可旋轉地支撐所述圖像承載構件并且固定有所述支撐構件,其中,
所述支撐構件具有在所述圖像承載構件的旋轉軸方向延伸的第一表面和包括與所述第一表面的法線矢量相交的法線矢量并在所述旋轉軸方向延伸的第二表面,
在所述旋轉軸方向上,所述第一表面由兩個固定構件固定以便接觸所述框架的兩個固定部,并且在所述框架與所述第二表面(106f)之間設置振動吸收構件(102),以便該振動吸收構件在所述旋轉軸方向上位于所述兩個固定構件之間的中點,該振動吸收構件在所述旋轉軸方向上的長度為所述第二表面在所述旋轉軸方向上的長度的1/4以下,
該振動吸收構件在23℃±2℃的測量溫度下施加100Hz頻率的振動時測得的損耗系數tanδ為0.6以上且2.0以下,
所述清潔裝置還包括密封構件(115),該密封構件設置在所述框架與所述第二表面之間用以密封所述支撐構件的所述第二表面與所述框架之間的間隙,并且該密封構件在所述旋轉軸方向上從所述第二表面的一端延伸至另一端。
2.根據權利要求1所述的清潔裝置,其中,
當在與所述旋轉軸方向正交的方向上觀看時,所述振動吸收構件從在所述旋轉軸方向上與所述兩個固定部中的一個固定部重疊的位置延伸到在所述旋轉軸方向上與所述兩個固定部中的另一個固定部重疊的位置。
3.根據權利要求1所述的清潔裝置,其中,
所述振動吸收構件還兼作將所述刮刀構件與所述框架之間的間隙密封的密封構件。
4.根據權利要求1或3所述的清潔裝置,其中,
所述支撐構件具有像沿著在所述旋轉軸方向延伸的彎折線被彎折的金屬板那樣的形狀,由此形成具有所述第一表面的第一板部和具有所述第二表面的第二板部,并且在所述第一板部中與所述第二板部連接的一側的相反側支撐所述彈性構件,并且
所述第一板部在與所述圖像承載構件的旋轉方向相反的方向上,從與所述第二板部連接的一側朝支撐所述彈性構件的一側延伸。
5.根據權利要求4所述的清潔裝置,其中,
所述彈性構件在所述旋轉軸方向上從所述支撐構件的一端設置到另一端。
6.根據權利要求1或3所述的清潔裝置,其中,
所述第一表面和所述第二表面是所述支撐構件中面對所述圖像承載構件的一側的相反側的表面。
7.一種處理盒,該處理盒能從圖像形成裝置的裝置主體拆卸,所述處理盒包括根據權利要求1所述的清潔裝置。
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