[發(fā)明專利]一種磁隔板及蒸鍍腔室、蒸鍍裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711032893.8 | 申請日: | 2017-10-27 |
| 公開(公告)號: | CN107740049B | 公開(公告)日: | 2020-02-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 扈自清;任星利;王國慶;康建東;孫忠強;趙鏡;張磊;王斌;李國強;李曉龍;王在成 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/04 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 隔板 蒸鍍腔室 裝置 | ||
本發(fā)明實施例提供一種磁隔板及蒸鍍腔室、蒸鍍裝置,涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,能夠解決現(xiàn)有技術(shù)中的磁隔板對掩模版上各個部分的磁吸力大小不均勻、磁吸附效果較差的問題。包括:底板。多組條形磁鐵組,條形磁鐵組設(shè)置在底板上,多組條形磁鐵組并列設(shè)置且相互平行。其中,條形磁鐵組包括多個條形磁鐵,多個條形磁鐵沿垂直于其長度方向間隔設(shè)置,且多個條形磁鐵設(shè)置相同的極性方向。提高了磁隔板對掩模版以及設(shè)置在磁隔板與掩模版之間的待蒸鍍基板的吸附能力,并使得磁隔板對掩模版以及待蒸鍍基板上各個位置處的吸附效果較為均衡,提高了待蒸鍍基板的蒸鍍效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種磁隔板及蒸鍍腔室、蒸鍍裝置。
背景技術(shù)
OLED(Organic Light Emitting Diode,有機發(fā)光二極管)顯示面板具有自發(fā)光、反應(yīng)快、亮度高、輕薄等諸多優(yōu)點,已經(jīng)逐漸成為顯示領(lǐng)域的主流。
OLED按驅(qū)動方式可分為PMOLED(Passive Matrix Driving OLED,無源矩陣驅(qū)動有機發(fā)光二極管)和AMOLED(Active Matrix Driving OLED,有源矩陣驅(qū)動有機發(fā)光二極管)兩種,由于AMOLED采用制備有TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶體管)圖案的背板作為顯示基板,因此,AMOLED顯示器不但具有低制造成本、高應(yīng)答速度、節(jié)省功耗、可用于便攜式設(shè)備的直流驅(qū)動、工作溫度范圍大等等優(yōu)點,還可以獲得更大的顯示容量、更優(yōu)的顯示質(zhì)量以及更長的壽命,因此,AMOLED被認為是最有發(fā)展前景的下一代平板顯示技術(shù)之一。
OLED顯示面板包括陣列排布的多個子像素單元,每一個子像素單元包括陽極、發(fā)光層和陰極,其中,發(fā)光層采用有機電致發(fā)光材料形成,尤其對于AMOLED而言,目前主要的制作方式即是采用掩膜板并通過有機蒸鍍工藝將高分子材料制作在AMOLED顯示面板上。
在有機蒸鍍腔室內(nèi),對待蒸鍍基板進行蒸鍍操作前需要在待蒸鍍基板的待蒸鍍面將掩模版貼合對位,掩模版與待蒸鍍基板之間對位完成后,通過設(shè)置在蒸鍍腔室頂部的磁隔板對掩模版進行吸附,由于磁隔板設(shè)置在待蒸鍍基板背離掩模版的一側(cè),這樣就通過磁力吸附掩模版的同時,使得位于磁隔板和掩模版之間的待蒸鍍基板也一同被吸附固定,同時,磁隔板磁吸力的作用,使得待蒸鍍基板與掩模版之間對位固定。
現(xiàn)有技術(shù)的磁隔板,如圖1所示,在基底00上加工多個相互平行且間距相等的溝槽01,在溝槽01內(nèi)以相同的極性設(shè)置方向分別設(shè)置條狀磁鐵02構(gòu)成,如圖2所示,由于條狀磁鐵02的磁感線方向(如圖2中的虛線環(huán)所示)為由條狀磁鐵02的一端向另一端的圓弧形,而磁隔板與掩模版是相互平行的平面(掩模版在圖2中未示出),而且磁隔板在靠近吸附掩模版的過程中,磁隔板與掩模版之間始終各處距離相等,這就使得掩模版上各處受到的來自磁隔板的磁吸力大小不均勻,對應(yīng)磁隔板中心位置的磁吸力較強、對應(yīng)磁隔板邊緣位置的磁吸力較弱,整體磁吸附效果較差。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例提供一種磁隔板及蒸鍍腔室、蒸鍍裝置,能夠解決現(xiàn)有技術(shù)中的磁隔板對掩模版上各個部分的磁吸力大小不均勻、磁吸附效果較差的問題。
為達到上述目的,本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案:
本發(fā)明實施例的一方面提供一種磁隔板,包括:底板。多組條形磁鐵組,條形磁鐵組設(shè)置在底板上,多組條形磁鐵組并列設(shè)置且相互平行。其中,條形磁鐵組包括多個條形磁鐵,多個條形磁鐵沿垂直于其長度方向間隔設(shè)置,且多個條形磁鐵設(shè)置相同的極性方向。
優(yōu)選的,每一組條形磁鐵組中的條形磁鐵的設(shè)置數(shù)量均相同,多組條形磁鐵組中的條形磁鐵在底板上呈矩陣形式設(shè)置。
進一步的,在底板上還設(shè)置有多個并列設(shè)置且相互平行的輔助條形磁鐵組,輔助條形磁鐵組的設(shè)置方向與條形磁鐵組的設(shè)置方向相互垂直,且輔助條形磁鐵組設(shè)置在條形磁鐵組中相鄰兩個條形磁鐵之間。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





