[發明專利]一種半貧吸收劑再生工藝

有效

• 申請號: 201711031122.7
• 申請日: 2017-10-27
• 公開（公告）號: CN107892953B
• 公開（公告）日: 2020-07-28
• 發明（設計）人: 王同寶;孫火艷;邢濤;王晨;郭晶晶;吳德民
• 申請（專利權）人: 中石化寧波工程有限公司;中石化寧波技術研究院有限公司;中石化煉化工程(集團)股份有限公司
• 主分類號: B01D53/14
• 分類號: B01D53/14;C10K1/08
• 代理公司: 寧波誠源專利事務所有限公司 33102
• 代理人: 劉鳳欽

本發明涉及一種半貧吸收劑再生工藝，在此半貧吸收劑再生工藝中設置了三級閃蒸操作，可以有效降低半貧吸收劑中的CO₂含量，提高半貧吸收劑的吸收能力，減少半貧吸收劑循環量，進而降低了系統能耗；尤其是在三級閃蒸裝置的出氣連接管路中設置壓縮機和噴射器，可以使得所述的三個閃蒸罐進行不同壓力等級的閃蒸，其中，在壓縮機和噴射器的抽吸作用下，所述三級閃蒸罐可以達到負壓狀態，明顯提高半貧吸收劑的再生效果，此外，配合使用噴射器可以在一定程度上降低了壓縮機的負荷，減少了能耗。

技術領域

本發明涉及化工工藝技術領域，尤其涉及一種半貧吸收劑再生工藝。

背景技術

合成氣凈化主要用于脫除粗合成氣中的H₂S、COS、CO₂，從而生產滿足工藝要求的凈化氣。工業中常用的合成氣凈化工藝按照吸收溫度的不同，一般分為熱法和冷法。熱法中以Selexol和MDEA工藝最為著稱，冷法則以低溫甲醇洗法為代表。上述三種典型的合成氣凈化技術具有凈化度高、選擇性好、能耗低等特點，廣泛應用于各大型煤氣化裝置。

通過近年來廣泛的工業化應用，Selexol、MDEA和低溫甲醇洗等工藝在酸性氣體凈化指標上均可達到先進水平，但是在能耗的優化上還需要進一步改進，通過設置半貧吸收劑回用作為吸收塔的入口吸收劑的方法，可以降低系統的吸收劑循環量，降低整體能耗。

半貧吸收劑的再生使用工藝開發出來之后，合成氣凈化工藝的能耗大大降低，半貧吸收劑是在溶液再生過程中未完全再生的，帶有一定CO₂含量的吸收劑溶液，將其直接進入吸收塔，作為完全再生的貧吸收劑的一種輔助吸收劑。由于作為吸收劑的半貧吸收劑，其中CO₂的含量越低則吸收能力越好，整個系統的能耗也越低?，F有合成氣凈化技術還仍然存在著能耗較高的缺點，需要對半貧吸收劑的再生工藝進行改進，進而降低系統的冷量、吸收劑循環量，從而降低能耗。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是針對現有技術的現狀，提供一種能夠有效降低半貧吸收劑中CO₂含量，進而降低系統能耗和減少吸收劑循環量的半貧吸收劑再生工藝。

本發明解決上述技術問題所采用的技術方案為：一種半貧吸收劑再生工藝，包括以下步驟：

來自上游的富碳吸收劑的溫度為-10～-55℃、壓力為0.3～4.2MPaG，進入到一級閃蒸罐進行閃蒸操作，所述一級閃蒸罐的閃蒸溫度為-20～-65℃、閃蒸壓力為0.07～2.0MPaG，閃蒸后的液相導入到二級閃蒸罐中，經所述一級閃蒸罐閃蒸后的氣相通過噴射器導入二級閃蒸罐；在所述噴射器的抽吸作用下，所述一級閃蒸罐的閃蒸氣不斷被抽出，使得一級閃蒸罐內的閃蒸效果顯著增加；

所述二級閃蒸罐的閃蒸溫度為-25～-70℃、閃蒸壓力為0.02～1.8MPaG，閃蒸后的液相分為第一液相流股和第二液相流股，所述第一液相流股和所述第二液相流股兩條流股的流量比例為1:9～9:1；所述第一液相流股導入三級閃蒸罐，所述第二液相流股導入氣提塔；所述二級閃蒸罐內的閃蒸氣體作為CO₂產品氣送往下游；

所述三級閃蒸罐的閃蒸溫度為-30～-80℃、閃蒸壓力為-0.09～0.4MPaG，閃蒸后的液相中的CO₂的摩爾濃度為2-15％，溫度為-30～-80℃，作為半貧吸收劑送往上游循環使用；經所述三級閃蒸罐閃蒸后的氣相分為第一氣相流股和第二氣相流股，所述第一氣相流股通過所述噴射器導入所述二級閃蒸罐，所述第二氣相流股通過壓縮機導入所述二級閃蒸罐，其中，所述噴射器的出口與所述壓縮機的出口連通，使得所述第一氣相流股和所述第二氣相流股合并后送往所述二級閃蒸罐；