[發(fā)明專利]利用磁控濺射制備鈦合金涂層的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711028774.5 | 申請(qǐng)日： | 2015-06-30 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN107815656A | 公開（公告）日： | 2018-03-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 鮑必輝 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 溫州市科泓機(jī)器人科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C14/35 | 分類號(hào)： | C23C14/35;H05K5/02;C23C14/02;C23C14/08 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 325000 浙江省溫州市龍灣區(qū)高新技術(shù)產(chǎn)*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 利用 磁控濺射 制備 鈦合金 涂層 方法 | ||
1.一種利用磁控濺射制備鈦合金涂層的方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟S100：對(duì)陶瓷基體(101)進(jìn)行表面處理；
步驟S200：將經(jīng)過表面處理的陶瓷基體(101)穩(wěn)固置于磁控濺射機(jī)的托盤上，通過傳輸裝置將陶瓷基體(101)輸送至安裝有金屬鈦靶的真空室；
步驟S300：關(guān)閉真空室的出入口，抽真空至3×10-4至5×10-4Pa，通入氫氣和氮?dú)獾幕旌蠚怏w；
步驟S400：在功率為50-200W，偏壓120-160V，靶距30-40mm,陶瓷基體(101)溫度30-300攝氏度的工藝條件下進(jìn)行濺射，控制濺射時(shí)間為20-60min；
步驟S500：緩慢開啟真空室使其與室外空氣連通，再重新抽取真空度至5×10-4至8×10-4Pa，通入氫氣和氧氣的混合氣體；
步驟S600：在功率為3000-4000W，無偏壓，靶距30-40mm的工藝條件下進(jìn)行濺射，控制濺射時(shí)間為40-400min；
所述步驟S300具體是指先用機(jī)械泵抽真空至1-2Pa，然后用分子泵抽真空至3.8×10-4-4.2×10-4Pa,氫氣的分壓為0.4-1.6Pa,氮?dú)獾姆謮簽?.02-0.02Pa；
所述步驟S400具體是指在功率115W，偏壓140V，靶距35mm,陶瓷基體(101)溫度200攝氏度的工藝條件下進(jìn)行濺射，控制濺射時(shí)間40min。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
