[發(fā)明專利]一種用于真空處理裝置的靜電夾盤維護(hù)裝置及維護(hù)方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711026362.8
• 申請日: 2017-10-26
• 公開（公告）號: CN109712908B
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳星健;賀小明;魏強;李一平
• 申請（專利權(quán)）人: 中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/683
• 代理公司: 上海信好專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31249
• 代理人: 朱成之

1.一種用于真空處理裝置的靜電夾盤維護(hù)工具，包括：

支撐底板，所述支撐底板下表面用于放置在靜電夾盤上表面，所述支撐底板上表面固定有一個旋轉(zhuǎn)基座，

一個旋轉(zhuǎn)臂，所述旋轉(zhuǎn)臂包括第一端連接到所述旋轉(zhuǎn)基座上，使得旋轉(zhuǎn)臂圍繞所述旋轉(zhuǎn)基座作圓周運動，所述旋轉(zhuǎn)臂還包括第二端連接到一個壓力桿；

所述壓力桿下端包括一個摩擦頭，摩擦頭底面包括摩擦片，摩擦片圍繞所述支撐底板的外邊緣作圓周運動，且所述圓周運動能夠覆蓋所述靜電夾盤上表面的密封環(huán)。

2.如權(quán)利要求1所述的用于真空處理裝置的靜電夾盤維護(hù)工具，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)基座為一個旋轉(zhuǎn)軸和位于所述旋轉(zhuǎn)軸外側(cè)壁的一個旋轉(zhuǎn)軸承，所述旋轉(zhuǎn)臂第一端連接到所述旋轉(zhuǎn)軸承。

3.如權(quán)利要求1所述的用于真空處理裝置的靜電夾盤維護(hù)工具，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)基座包括一個圓通形的支持壁，以及位于支持壁外側(cè)的圓環(huán)形軌道，所述旋轉(zhuǎn)臂第一端連接到所述圓環(huán)形軌道中。

4.如權(quán)利要求1所述的用于真空處理裝置的靜電夾盤維護(hù)工具，其特征在于，所述壓力桿頂部包括一個重錘，以提供預(yù)設(shè)的向下壓力。

5.如權(quán)利要求1所述的用于真空處理裝置的靜電夾盤維護(hù)工具，其特征在于，所述壓力桿上還套設(shè)有一個彈簧，所述彈簧一端固定到所述摩擦頭，另一端固定到所述壓力桿或者連接桿。

6.如權(quán)利要求1所述的用于真空處理裝置的靜電夾盤維護(hù)工具，其特征在于，所述摩擦頭內(nèi)側(cè)具有一第一傾斜側(cè)壁，支撐底板外側(cè)具有一第二傾斜側(cè)壁，所述第一和第二傾斜側(cè)壁形狀匹配。

7.如權(quán)利要求6所述的用于真空處理裝置的靜電夾盤維護(hù)工具，其特征在于，所述摩擦頭通過第一傾斜側(cè)壁向第二傾斜側(cè)壁施加斜向下的壓力，第二傾斜側(cè)壁產(chǎn)生反方向的力。

8.一種用于真空處理裝置的靜電夾盤維護(hù)方法，包括步驟：

打開真空處理裝置頂部的頂蓋；

放入權(quán)利要求1所述的靜電夾盤維護(hù)工具到真空處理裝置內(nèi)的靜電夾盤上；

執(zhí)行拋光步驟，驅(qū)動靜電夾盤維護(hù)工具上的摩擦片圍繞所述支撐底板的外邊緣作圓周運動，并且所述圓周運動能夠覆蓋所述靜電夾盤上表面的密封環(huán)；

所述拋光步驟結(jié)束后，取出所述靜電夾盤維護(hù)工具，關(guān)閉所述真空處理裝置頂部的頂蓋。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的靜電夾盤維護(hù)方法，其特征在于，所述拋光步驟中，摩擦片拋光所述密封環(huán)超過10圈。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的靜電夾盤維護(hù)方法，其特征在于，在完成對密封環(huán)拋光后還包括環(huán)境恢復(fù)步驟，在環(huán)境恢復(fù)步驟中對至少10片晶圓進(jìn)行處理。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的靜電夾盤維護(hù)方法，其特征在于，所述拋光過程使得密封環(huán)厚度減少小于1μm。