[發(fā)明專利]一種基于偏振解調(diào)的點掃描超分辨成像方法和裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711025470.3 | 申請日: | 2017-10-27 |
| 公開(公告)號: | CN107907513B | 公開(公告)日: | 2020-10-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 匡翠方;劉少聰;胡涵;鄭程;陳友華;劉旭;李海峰;張克奇;毛磊 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江大學(xué) |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64;G01N21/21 |
| 代理公司: | 杭州天勤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡紅娟 |
| 地址: | 310013 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 偏振 解調(diào) 掃描 分辨 成像 方法 裝置 | ||
1.一種基于偏振解調(diào)的點掃描超分辨成像裝置,其特征在于,包括光源、承載待測樣品的樣品臺,所述光源與樣品臺之間依次設(shè)有:
用于將光源發(fā)出的光束改變?yōu)榫€偏振光的1/4波片和1/2波片,
用于將線偏振光轉(zhuǎn)變?yōu)榍邢蚱窆獾钠褶D(zhuǎn)換器,
用于對相位進行調(diào)制最終將會聚光斑調(diào)制成多個線偏振光斑的空間光調(diào)制器,位相調(diào)制函數(shù)為:
其中為光束垂直光軸剖面內(nèi)位置極坐標(biāo)矢量與x軸的夾角,對應(yīng)的是最終得到的線偏振光與x軸的夾角;
用于將激發(fā)光聚焦到樣品上的顯微物鏡;
并設(shè)有收集所述待測樣品發(fā)出的信號光的探測系統(tǒng),以及控制所述空間光調(diào)制器內(nèi)位相調(diào)制函數(shù)的控制器。
2.如權(quán)利要求1所述的點掃描超分辨成像裝置,其特征在于,在所述空間光調(diào)制器與顯微物鏡間設(shè)有用于樣品掃描的二維掃描振鏡系統(tǒng)。
3.如權(quán)利要求1所述的點掃描超分辨成像裝置,其特征在于,所述的探測系統(tǒng)包括:
用于濾去背景噪聲、提高成像信噪比的窄帶濾波片;
用于探測信號光的光強信號的探測器;
用于將信號光束聚焦到探測器上的聚焦透鏡。
4.一種基于偏振解調(diào)的點掃描超分辨成像方法,其特征在于,包括步驟:
1)將激光光束調(diào)制為線偏振光;
2)線偏振光經(jīng)過偏振轉(zhuǎn)換器后被調(diào)制成為切向偏振光,切向偏振光再經(jīng)過空間光調(diào)制器進行位相調(diào)制;
步驟2)中位相調(diào)制采用的位相調(diào)制函數(shù)為:
其中為光束垂直光軸剖面內(nèi)位置極坐標(biāo)矢量與x軸的夾角,對應(yīng)的是最終得到的線偏振光與x軸的夾角;
3)通過調(diào)整相位得到偏振方向從0°到180°旋轉(zhuǎn)的多個線偏振光斑,在掃描過程中收集不同線偏振光激發(fā)下待測熒光樣品各掃描點發(fā)出的信號熒光;
4)根據(jù)掃描過程中收集的熒光信息,以及成像的偏振相位信息,通過估計偶極子的極化強度和極化方向來估計有效PSF,再經(jīng)過去卷積實現(xiàn)對樣品偏振信息進行解調(diào)并獲得超分辨成像結(jié)果。
5.如權(quán)利要求4所述的點掃描超分辨成像方法,其特征在于,在進行偏振調(diào)制時,探測器上的光強分布符合泊松分布,且隨偏振的改變呈周期性變化,可表示為:
其中,μ為到達探測器的光子數(shù),r為探測器上位置,為激發(fā)光的偏振角度,r'為成像樣品的位置,I0由于系統(tǒng)響應(yīng)不穩(wěn)定引入的與偏振相關(guān)的周期性校正因子,U為系統(tǒng)的點擴散函數(shù),g0(ri)和αi分別為位置為ri的第i個輻射偶極子的極化強度和極化方向,b(r′)為短時間內(nèi)偏振不穩(wěn)定的背景噪聲,為隨入射光偏振方向改變的有效輻射光子率。
6.如權(quán)利要求4所述的點掃描超分辨成像方法,其特征在于,在步驟4)中,采用最大后驗概率估計作為極化強度的泊松統(tǒng)計模型,表達式為:
其中,為背景噪聲余弦變化后得到的函數(shù),其與極化強度相對獨立但是有著相同的大小分布,μ為標(biāo)準(zhǔn)泊松分布函數(shù),I為探測器探測到的光強,λ1和λ2為相應(yīng)的可優(yōu)化系數(shù)。
7.如權(quán)利要求6所述的點掃描超分辨成像方法,其特征在于,在步驟4)中,根據(jù)在偏振角度為的線偏振光照射下所激發(fā)出來的極化強度為
其中,Mj為可能到達像素i上的最大光子數(shù),αj為像素i的偶極子方向,因此根據(jù)已知的g,利用最小二乘曲線擬合能將計劃方向αi提取出來;
根據(jù)估計出來的可以得到最終的超分辨圖形。
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G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
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G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
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