[發明專利]光檢測系統

有效

• 申請號: 201711025040.1
• 申請日: 2017-10-27
• 公開（公告）號: CN108169175B
• 公開（公告）日: 2022-07-26
• 發明（設計）人: 西脅青兒;鳴海建治;足立安比古
• 申請（專利權）人: 松下知識產權經營株式會社
• 主分類號: G01N21/45
• 分類號: G01N21/45;G01N21/27;A61B5/1455
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 徐殿軍

有關本公開的一技術方案的光檢測系統具備光檢測裝置和運算電路。光檢測裝置包括：遮光膜，至少在第1方向上交替地配置有多個透光區域及多個遮光區域；光耦合層，與遮光膜對置，包括光柵；光檢測器，包括配置在攝像面上的多個第1光檢測單元及多個第2光檢測單元，運算電路基于從多個第1光檢測單元得到的多個第1信號和從多個第2光檢測單元得到的多個第2信號，生成表示入射到多個第1光檢測單元及多個第2光檢測單元的各自的位置中的光的相干的第3信號；還生成第3信號的平均值、標準偏差、標準偏差相對于平均值的比等中的至少1個。

技術領域

本公開涉及利用光的干涉現象取得與被攝體的光學特性相關的信息的光檢測系統及發光裝置。

背景技術

光是電磁波，除了波長及強度以外，還通過偏光及干涉性等的特性被賦予特征。其中，作為利用光的干涉性測量被攝體的方法，例如可以舉出“光學の原理”(東海大學出版會，p.482，M.ボルン等)中表示的使用邁克爾遜干涉儀的方法。

發明內容

有關本公開的一技術方案的光檢測系統具備光檢測裝置和運算電路；所述光檢測裝置包括：遮光膜，至少在第1方向上交替地配置有多個透光區域及多個遮光區域；光耦合層，與上述遮光膜對置，并且包括光柵，當規定的波長的入射光入射到上述多個透光區域中時，上述光柵使上述入射光的一部分在上述第1方向上傳播、使上述入射光的另一部分透過；以及光檢測器，具有攝像面，并且包括配置在上述攝像面上的多個第1光檢測單元及多個第2光檢測單元，上述多個第1光檢測單元分別與上述多個透光區域中的至少1個對應，上述多個第2光檢測單元分別與上述多個遮光區域中的至少1個對應；所述運算電路，基于從上述多個第1光檢測單元得到的多個第1信號和從上述多個第2光檢測單元得到的多個第2信號，生成第3信號，上述第3信號表示入射到上述多個第1光檢測單元及上述多個第2光檢測單元的各自的位置中的光的相干；并且生成從由如下數據構成的群中選擇的至少1個，這些數據是：在以上述多個第1光檢測單元及上述多個第2光檢測單元的每一個為中心的區域內所包含的多個第1光檢測單元及多個第2光檢測單元的位置處的上述第3信號的平均值、上述第3信號的標準偏差、上述標準偏差相對于上述平均值的比、以及基于入射到上述多個第1光檢測單元的位置中的光的上述第3信號的平均值與基于入射到上述多個第2光檢測單元的位置中的光的上述第3信號的平均值之比。

上述包含性或具體性的技術方案也可以由系統、方法、集成電路、計算機程序或記錄介質實現。或者，也可以由系統、裝置、方法、集成電路、計算機程序及記錄介質的任意的組合來實現。

附圖說明

圖1A是有關本研究例的光檢測系統的示意圖。

圖1B表示向光檢測裝置13具備的1個透光區域入射的散射光的狀況。

圖2A是沿著光入射的方向的面的光檢測裝置的剖面圖。

圖2B是從光入射的一側觀察光檢測裝置的平面圖。

圖3表示光檢測裝置的信號處理的方法。

圖4A表示透光區域、遮光區域的圖案的平面圖。

圖4B表示檢測器的圖案的平面圖。

圖4C表示透光區域、遮光區域及檢測器的位置關系的剖面圖。

圖5A表示與圖2A相同的剖面圖。

圖5B表示與圖5A對應而描繪的由FDTD法得到的光強度分布的電磁解析結果。

圖5C表示與圖5A對應而描繪的由FDTD法得到的光強度分布的電磁解析結果。

圖5D表示與圖5A對應而描繪的由FDTD法得到的光強度分布的電磁解析結果。

圖5E表示與圖5A對應而描繪的由FDTD法得到的光強度分布的電磁解析結果。