[發明專利]一種彩膜基板、其制作方法及顯示裝置在審
| 申請號: | 201711022452.X | 申請日: | 2017-10-27 |
| 公開(公告)號: | CN107731877A | 公開(公告)日: | 2018-02-23 |
| 發明(設計)人: | 王國英;宋振 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291 | 代理人: | 郭潤湘 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 彩膜基板 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種彩膜基板,其特征在于,包括:襯底基板,位于所述襯底基板上多個呈陣列排布的彩色濾光單元,位于所述彩色濾光單元之上的平坦層,位于所述平坦層之上的陰極層,以及位于所述平坦層與所述陰極層之間的與所述陰極層電連接的輔助陰極層;其中,
多個顏色不同的所述彩色濾光單元組成一個像素單元;
在至少部分所述像素單元中,所述平坦層在相鄰的所述彩色濾光單元之間的位置處設有凹槽結構;
至少部分所述輔助陰極層位于所述凹槽結構內部。
2.如權利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述平坦層在任意兩個所述彩色濾光單元之間的位置處均設有凹槽結構。
3.如權利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述凹槽結構貫穿所述平坦層。
4.如權利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,還包括:位于所述襯底基板上用于分隔各所述彩色濾光單元的黑矩陣;
所述輔助陰極層在所述襯底基板上的正投影位于所述黑矩陣在所述襯底基板上的正投影所在的范圍內。
5.如權利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,還包括:位于所述平坦層與所述陰極層之間的隔墊物;
所述隔墊物在所述襯底基板上的正投影位于所述黑矩陣在所述襯底基板上的正投影所在的范圍內。
6.如權利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,所述隔墊物的圖形與所述輔助陰極層的圖形在所述襯底基板上的正投影具有重疊區域。
7.一種如權利要求1~6任一項所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:
在襯底基板上形成多個呈陣列排布的彩色濾光單元;
在所述彩色濾光單元之上形成一層平坦層,并對所述平坦層進行圖形化,以使在至少部分所述像素單元中,所述平坦層在相鄰的所述彩色濾光單元之間的位置處具有凹槽結構;
在所述平坦層之上依次形成輔助陰極層的圖形和陰極層。
8.如權利要求7所述的制作方法,其特征在于,采用金屬材料或金屬合金材料或多層金屬材料,在所述襯底基板上形成所述輔助陰極層。
9.如權利要求7所述的制作方法,其特征在于,采用透明的導電材料在所述輔助陰極層之上形成所述陰極層。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括:如權利要求1~6任一項所述的彩膜基板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





