[發(fā)明專利]一種復(fù)合膜電極制備方法及光電性質(zhì)檢測(cè)方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711021669.9
• 申請(qǐng)日: 2017-10-27
• 公開（公告）號(hào): CN107833751A
• 公開（公告）日: 2018-03-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊耀彬;韓丹丹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 吉林化工學(xué)院
• 主分類號(hào): H01G9/042
• 分類號(hào): H01G9/042;H01G9/20;G01R31/00
• 代理公司: 北京匯捷知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11531
• 代理人: 李宏偉

1.一種復(fù)合膜電極制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)P₂Mo₁₈/MEB復(fù)合膜電極制備：將處理后的基片浸入到3-氨基丙基三甲氧基硅烷(SiRN)中保持120min.取出后將其放入到0.05mol/L的HCl溶液中保持20min，取出后用大量的水清洗，再用緩慢的氮?dú)饬鲗⒒蹈桑?/p>

(2)將得到的基片浸入到的1×10^-3mol/L的PSS溶液中，保持20min,洗凈吹干，再浸入到1×10^-3mol/L的PAH溶液中，保持20min,用蒸餾水沖洗干凈后吹干.這時(shí)，基片表面形成了(SiRN/PSS/PAH)三層復(fù)合膜，稱為底層；

(3)將帶有底層的基片依次放入1×10^-3mol/L的多酸P₂Mo₁₈、1×10^-3mol/L的亞甲基藍(lán)溶液中，各保持15min，取出后用大量蒸餾水洗凈，用氮?dú)獯蹈桑h(huán)此過(guò)程，制得(SiRN/PSS/PAH)[P₂Mo₁₈/MEB/PSS/PAH]_n復(fù)合膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合膜電極制備方法，其特征在于：所述步驟(1)中的處理后的基片的處理方法為：將石英片或硅片表面用化學(xué)處理液清洗干凈，除去表面的有機(jī)或無(wú)機(jī)雜質(zhì).將濃硫酸和過(guò)氧化氫溶液按體積比7：3混合，把基片浸入混合溶液中，在80℃下處理30min，然后用大量蒸餾水沖洗干凈，再用丙酮超聲振洗15min,取出后用大量蒸餾水沖洗干凈，用氮?dú)饬鞔蹈桑?/p>

ITO導(dǎo)電玻璃片的處理：用蒸餾水清洗干凈后，浸入到NH₃·H₂O/H₂O₂/H₂O(1：1：1)的混合溶液中，在80℃下處理30min；此步驟處理后用大量蒸餾水沖洗干凈，然后將片子放入丙酮溶液中，超聲振洗15min，取出后用大量蒸餾水沖洗，再放入蒸餾水超聲振洗15min，取出后用緩慢的氮?dú)饬鞔蹈桑?/p>

CaF₂基片的處理：用蒸餾水清洗干凈后，浸入丙酮溶液中，超聲振洗15min，取出后用大量蒸餾水沖洗直至獲得清潔的基片。

3.一種復(fù)合膜電極的光電性質(zhì)檢測(cè)方法，其特征在于：在ITO電極上分別制備了(P₂Mo₁₈/PAH)₁₀、(MEB/PSS)₁₀和(P₂Mo₁₈MEB/PSS/PAH)₁₀復(fù)合膜，在外加0.6v偏壓和365nm紫外光的條件下，對(duì)這些電極進(jìn)行了光響應(yīng)測(cè)試，(P₂Mo₁₀/PAH)₁₀復(fù)合膜顯示了很小的電流，而其他兩種包括MEB的復(fù)合膜電極展示了較大的且很快的光電流響應(yīng).顯然，在365nm紫外光的激發(fā)下，僅由P₂Mo₁₈組成的膜電極只有很小的光電流響應(yīng)，而(P₂Mo₁₈/MEB/PSS/PAH)₁₀復(fù)合膜電極顯示比單純的(MEB/PSS)₁₀膜電極更大的光電流，所以，可得出，光電流的增加是由于在MEB和P₂Mo₁₈的界面上發(fā)生了光電荷轉(zhuǎn)移，因?yàn)镻₂Mo₁₈的LUMO能級(jí)低于MEB的導(dǎo)帶能級(jí)，MEB被激發(fā)的電子可以注入到P₂Mo₁₈；電子的轉(zhuǎn)移可減少M(fèi)EB的電子和空穴的復(fù)合，增大電子遷移率從而導(dǎo)致光電流的提高。