[發明專利]一種鎂合金微弧氧化工藝在審
| 申請號： | 201711017858.9 | 申請日： | 2017-10-26 |
| 公開（公告）號： | CN107557840A | 公開（公告）日： | 2018-01-09 |
| 發明（設計）人： | 楊曉艷 | 申請（專利權）人： | 楊曉艷 |
| 主分類號： | C25D11/30 | 分類號： | C25D11/30;C22C23/02 |
| 代理公司： | 北京遠智匯知識產權代理有限公司11659 | 代理人： | 徐鵬飛 |
| 地址： | 214000 江蘇省無*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 鎂合金 氧化 工藝 | ||
1.一種鎂合金微弧氧化工藝，包括：
(1)對鎂合金表面進行預處理，除去表面污垢；
(2)對鎂合金進行微弧氧化處理，所述鎂合金為正極，不銹鋼為陰極，微弧氧化選擇恒壓模式，正電壓為410-450V，負電壓為0，頻率為600-900Hz，占空比為15-30％，氧化時間為20-50min，電解液為堿性硅酸鹽，電解液溫度控制在20-40℃；
(3)微弧氧化結束，打磨拋光；
(4)清洗鎂合金并干燥。
2.如權利要求1所述的鎂合金微弧氧化工藝，其特征在于，所述鎂合金為鋁鎂合金。
3.如權利要求2所述的鎂合金微弧氧化工藝，其特征在于，所述鋁鎂合金組成按重量百分比包括：Al 6.75-10.0％，Zn 0.35-1.0％，Mn 0.15-0.5％，Si 0.05-0.5％，Cu 0.01-0.1％，Ni 0.0001-0.0005％，Fe 0.001-0.01％，S 0.005-0.015％，Zr 0.005-0.015％，余量的Mg。
4.如權利要求1-3任一項所述的鎂合金微弧氧化工藝，其特征在于，所述預處理為：將鎂合金表面打磨，經去離子水清洗，再經丙酮清洗，干燥。
5.如權利要求1-4任一項所述的鎂合金微弧氧化工藝，其特征在于，步驟(2)中微弧氧化正電壓為420-440V，優選430V。
6.如權利要求1-5任一項所述的鎂合金微弧氧化工藝，其特征在于，步驟(2)中微弧氧化頻率為650-750Hz，優選700Hz。
7.如權利要求1-6任一項所述的鎂合金微弧氧化工藝，其特征在于，步驟(2)中微弧氧化占空比為15-25％，優選20％。
8.如權利要求1-7任一項所述的鎂合金微弧氧化工藝，其特征在于，所述電解液包括：硅酸鈉10-20g/L，氟化鉀10-15g/L，氫氧化鈉1-5g/L。
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