[發(fā)明專利]腔室壓力穩(wěn)定控制系統(tǒng)及方法、半導(dǎo)體加工設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711012281.2 | 申請日: | 2017-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN109712907B | 公開(公告)日: | 2021-05-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳慶;楊雄 | 申請(專利權(quán))人: | 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 100176 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 壓力 穩(wěn)定 控制系統(tǒng) 方法 半導(dǎo)體 加工 設(shè)備 | ||
1.一種腔室壓力穩(wěn)定控制系統(tǒng),用于控制腔室內(nèi)的壓力,其特征在于,包括控制器、用于與所述腔室連通的進氣管路和出氣管路;
所述進氣管路包括流量控制單元;所述控制器用于控制所述流量控制單元向所述腔室內(nèi)通入相應(yīng)流量的氣體;
所述控制器還用于接收所述腔室的門閥的當前狀態(tài),并根據(jù)預(yù)先設(shè)置的所述門閥的多種狀態(tài)以及對應(yīng)設(shè)置的在每種狀態(tài)下所述流量控制單元向所述腔室內(nèi)通入相應(yīng)流量的氣體的情況,控制所述流量控制單元向所述腔室內(nèi)通入相應(yīng)流量的氣體,以穩(wěn)定所述腔室內(nèi)的壓力。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腔室壓力穩(wěn)定控制系統(tǒng),其特征在于,所述流量控制單元的數(shù)量為多個;
每個所述流量控制單元包括串聯(lián)設(shè)置的開關(guān)和限流件;
所述開關(guān)用于在所述控制器的控制下導(dǎo)通或關(guān)斷其所在的管路;
所述限流件用于限定流經(jīng)其所在管路的氣體的流量,其中,所述流量為固定值。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的腔室壓力穩(wěn)定控制系統(tǒng),其特征在于,多個所述流量控制單元并聯(lián)設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的腔室壓力穩(wěn)定控制系統(tǒng),其特征在于,還包括仿真器,
所述仿真器,用于根據(jù)預(yù)先設(shè)置的所述門閥的多種狀態(tài)以及對應(yīng)設(shè)置的在每種狀態(tài)下所述流量控制單元的開關(guān)的導(dǎo)通或關(guān)斷情況、所述腔室的預(yù)設(shè)穩(wěn)定壓力進行軟件仿真,獲得每個所述流量控制單元的限流件對應(yīng)流量的所述固定值。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腔室壓力穩(wěn)定控制系統(tǒng),其特征在于,每個所述門閥的狀態(tài)包括:打開狀態(tài)、關(guān)閉狀態(tài)和打開過程中狀態(tài)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的腔室壓力穩(wěn)定控制系統(tǒng),其特征在于,所述門閥數(shù)量為多個;
所述門閥的多種狀態(tài)包括:所有所述門閥的所有所述狀態(tài)的任意組合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腔室壓力穩(wěn)定控制系統(tǒng),其特征在于,所述控制器還用于接收所述門閥的當前狀態(tài),延遲預(yù)設(shè)時間后再根據(jù)預(yù)先設(shè)置的所述門閥的多種狀態(tài)以及對應(yīng)設(shè)置的在每種狀態(tài)下所述流量控制單元向所述腔室內(nèi)通入相應(yīng)氣流量的氣體的情況,控制所述流量控制單元向所述腔室內(nèi)通入相應(yīng)流量的氣體,以穩(wěn)定所述腔室內(nèi)的壓力。
8.一種半導(dǎo)體加工設(shè)備,包括傳輸腔室和腔室壓力穩(wěn)定控制系統(tǒng)其特征在于,所述腔室壓力穩(wěn)定控制系統(tǒng)采用權(quán)利要求1-7任意一項所述的腔室壓力穩(wěn)定控制系統(tǒng),用于穩(wěn)定控制所述傳輸腔室內(nèi)的壓力。
9.一種腔室壓力穩(wěn)定控制方法,其特征在于,包括以下步驟:
設(shè)置與腔室連通的進氣管路和出氣管路,所述進氣管路包括流量控制單元;所述流量控制單元用于在控制下控制向所述腔室內(nèi)通入相應(yīng)流量的氣體;
存儲預(yù)先設(shè)置的所述腔室的門閥的多種狀態(tài)以及對應(yīng)設(shè)置的在每種狀態(tài)下所述流量控制單元向所述腔室內(nèi)通入相應(yīng)流量的氣體的情況,在每種所述門閥的狀態(tài)對應(yīng)設(shè)置的所述流量控制單元向腔室內(nèi)通入相應(yīng)流量的情況下可穩(wěn)定控制所述腔室內(nèi)的壓力;
接收所述腔室的門閥的當前狀態(tài),并根據(jù)存儲的所述腔室的門閥的多種狀態(tài)以及對應(yīng)設(shè)置的在每種狀態(tài)下所述流量控制單元向所述腔室內(nèi)通入相應(yīng)流量的氣體的情況,控制所述流量控制單元向所述腔室內(nèi)通入相應(yīng)流量的氣體,以穩(wěn)定所述腔室內(nèi)的壓力。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的腔室壓力穩(wěn)定控制方法,其特征在于,所述流量控制單元的數(shù)量為多個;
每個所述流量控制單元包括串聯(lián)設(shè)置的開關(guān)和限流件;
所述開關(guān)用于在控制下導(dǎo)通或關(guān)斷其所在的管路;
所述限流件用于限定流經(jīng)其所在管路的氣體的流量,其中,所述流量為固定值。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的腔室壓力穩(wěn)定控制方法,其特征在于,還包括以下步驟:
根據(jù)預(yù)先設(shè)置的所述門閥的多種狀態(tài)以及對應(yīng)設(shè)置的在每種狀態(tài)下所述流量控制單元的開關(guān)的導(dǎo)通或關(guān)斷情況、所述腔室的預(yù)設(shè)穩(wěn)定壓力采用軟件仿真的方式確定每個所述流量控制單元的限流件對應(yīng)流量的所述固定值。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





