[發(fā)明專利]一種改進的濺鍍機防著板結(jié)構(gòu)

在審

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• 申請日: 2017-10-25
• 公開（公告）號: CN107604327A
• 公開（公告）日: 2018-01-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 霍凱
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州凡特真空濺鍍科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種真空濺鍍領(lǐng)域，尤其涉及一種改進的濺鍍機防著板結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

真空濺鍍是由電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜，而最終達到對基片表面鍍膜的目的。

因此，需要尋求一種新的技術(shù)來解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是：針對上述不足，提供一種防紅屁股的尿不濕。

為達到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：

一種改進的濺鍍機防著板結(jié)構(gòu)，包含機體，所述機體內(nèi)設(shè)有濺鍍源，濺鍍源下方設(shè)有置物板，所述置物板固定于輸送帶上，所述輸送帶兩側(cè)固定有輸送導(dǎo)軌，所述輸送導(dǎo)軌兩側(cè)的機體上通過支架固定有防著板組件，所述防著板組件包括內(nèi)凹圓弧防著板和底部防著板，所述內(nèi)凹圓弧防著板的底部連接有向前延伸的底部防著板，所述底部防著板上設(shè)有凹面和凸面，所述凹面置于內(nèi)側(cè)，所述凸面靠近邊緣。

在上述技術(shù)方案中，由于防著板組件的底部設(shè)有向外延伸的底部防著板，使得飛濺的靶材原子或者大尺寸顆粒被輕易包覆在防著板組件內(nèi)，提高了機體內(nèi)壁清潔率；而將凸面設(shè)計在邊緣，凹面設(shè)計在內(nèi)側(cè)，進一步加強了吸附靶材原子或者大尺寸顆粒的能力。

所述內(nèi)凹圓弧板內(nèi)表面也設(shè)有凹面、凸面以及平滑面，所述凹面和凸面之間通過平滑面連接。

在上述技術(shù)方案中，凹面、凸面的設(shè)計能吸附不同飛濺方向以及飛濺角度的靶材原子或者大尺寸顆粒。

所述置物板上均勻分布有多個置物臺。

位于所述置物板上的濺鍍源通過旋轉(zhuǎn)軸連接，所述機體外設(shè)有控制旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)電機。

在上述技術(shù)方案中，旋轉(zhuǎn)軸和濺鍍源的配合，可增加被濺鍍物品的效率，且置物板上分布有多個置物臺，可提高工作效率。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明所達到的技術(shù)效果是：提高了工作效率且增加了飛濺的靶材原子或者大尺寸顆粒的被吸附程度。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

1-機體、2-濺鍍源、3-置物板、4-輸送帶、5-輸送導(dǎo)軌、6-支架、7-內(nèi)凹圓弧防著板、8-底部防著板、9-凹面、10-凸面、11-平滑面、12-置物臺、13-旋轉(zhuǎn)軸、14-旋轉(zhuǎn)電機。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖及實施例對本發(fā)明作進一步描述：

實施例一：

如圖1所示，本發(fā)明一種改進的濺鍍機防著板結(jié)構(gòu)，包含機體1，所述機體1內(nèi)設(shè)有濺鍍源2，濺鍍源2下方設(shè)有置物板3，所述置物板3固定于輸送帶4上，所述輸送帶4兩側(cè)固定有輸送導(dǎo)軌5，所述輸送導(dǎo)軌5兩側(cè)的機體1上通過支架6固定有防著板組件，所述防著板組件包括內(nèi)凹圓弧防著板7和底部防著板8，所述內(nèi)凹圓弧防著板7的底部連接有向前延伸的底部防著板8，所述底部防著板8上設(shè)有凹面9和凸面10，所述凹面9置于內(nèi)側(cè)，所述凸面10靠近邊緣。

在上述技術(shù)方案中，由于防著板組件的底部設(shè)有向外延伸的底部防著板9，使得飛濺的靶材原子或者大尺寸顆粒被輕易包覆在防著板組件內(nèi)，提高了機體1內(nèi)壁清潔率；而將凸面10設(shè)計在邊緣，凹面9設(shè)計在內(nèi)側(cè)，進一步加強了吸附靶材原子或者大尺寸顆粒的能力。

所述內(nèi)凹圓弧板7內(nèi)表面也設(shè)有凹面9、凸面10以及平滑面11，所述凹面9和凸面10之間通過平滑面11連接。

在上述技術(shù)方案中，凹面9、凸面10的設(shè)計能吸附不同飛濺方向以及飛濺角度的靶材原子或者大尺寸顆粒。

所述置物板3上均勻分布有多個置物臺12。

位于所述置物板3上的濺鍍源2通過旋轉(zhuǎn)軸13連接，所述機體1外設(shè)有控制旋轉(zhuǎn)軸13的旋轉(zhuǎn)電機14。

在上述技術(shù)方案中，旋轉(zhuǎn)軸13和濺鍍源2的配合，可增加被濺鍍物品的效率，且置物板3上分布有多個置物臺12，可提高工作效率。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明所達到的技術(shù)效果是：提高了工作效率且增加了飛濺的靶材原子或者大尺寸顆粒的被吸附程度。

上述實施例只為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術(shù)的人士能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并據(jù)以實施，并不能以此限制本發(fā)明的保護范圍。凡根據(jù)本發(fā)明精神實質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。