[發明專利]一種投影器、攝像頭模組和終端設備在審
| 申請號: | 201711009929.0 | 申請日: | 2017-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN109709756A | 公開(公告)日: | 2019-05-03 |
| 發明(設計)人: | 李安;魯亞東 | 申請(專利權)人: | 華為技術有限公司 |
| 主分類號: | G03B21/20 | 分類號: | G03B21/20 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 袁方 |
| 地址: | 518129 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 偏振 光學器件 投影器 攝像頭模組 終端設備 光線射 透射 反射 投影器件 反射面 透射面 減小 電子設備 投影光束 輕薄化 衍射 光源 發射 申請 | ||
1.一種投影器,其特征在于,包括:光源、第一光學器件、第二光學器件、投影器件,所述第一光學器件包括透射面和反射面,所述透射面面向所述光源,所述反射面面向所述第二光學器件;
所述光源用于向所述第一光學器件的所述透射面發射具有第一偏振方向的第一光線;
所述第一光學器件的所述透射面用于透射所述具有第一偏振方向的第一光線,以使得透射后的第一光線射向所述第二光學器件,所述透射后的第一光線具有所述第一偏振方向;
所述第二光學器件用于將所述透射后的第一光線變為具有第二偏振方向的第二光線,并將所述具有第二偏振方向的第二光線射向所述第一光學器件的所述反射面,所述第二偏振方向與所述第一偏振方向不同;
所述第一光學器件的所述反射面用于反射所述具有第二偏振方向的第二光線,以使得反射后的第二光線射向所述投影器件,所述反射后的第二光線具有所述第二偏振方向;
所述投影器件用于將所述反射后的第二光線進行衍射,以形成投影光束。
2.根據權利要求1所述的投影器,其特征在于,所述具有第二偏振方向的第二光線的傳播方向與所述透射后的第一光線的傳播方向之間的夾角大于或者等于150度。
3.根據權利要求1或2所述的投影器,其特征在于,所述具有第二偏振方向的第二光線的傳播方向與所述反射后的第二光線的傳播方向之間的夾角大于或者等于70度,并且小于或者等于110度。
4.根據權利要求1至3任一項所述的投影器,其特征在于,所述第一光學器件為偏振分束鏡PBS;
所述具有第一偏振方向的第一光線透射過所述PBS的所述透射面后,射出所述透射后的第一光線;
所述具有第二偏振方向的第二光線通過所述PBS的所述反射面反射后,射出所述反射后的第二光線至所述投影器件。
5.根據權利要求1至4任一項所述的投影器,其特征在于,所述第二光學器件包括玻片和第一反射元件;
所述玻片用于將所述透射后的第一光線變為具有第三偏振方向的第三光線,并將所述具有第三偏振方向的第三光線射至所述第一反射元件;
所述第一反射元件用于將所述具有第三偏振方向的第三光線反射,以使得反射后的第三光線射至所述玻片;
所述玻片還用于將所述反射后的第三光線變為所述具有第二偏振方向的第二光線。
6.根據權利要求5所述的投影器,其特征在于,所述玻片為1/4玻片。
7.根據權利要求1至6任一項所述的投影器,其特征在于,所述投影器件包括:透鏡和衍射光學元件;
所述透鏡用于將所述反射后的第二光線準直形成準直后的光線,以使得所述準直后的光線射至衍射光學元件,所述準直后的光線具有預定視場角FOV;
所述衍射光學元件用于對所述準直后的光線進行復制擴束形成所述投影光束。
8.根據權利要求7所述的投影器,其特征在于,所述衍射光學元件包括衍射光柵。
9.根據權利要求1至8任一項所述的投影器,其特征在于,所述投影器還包括:偏振片;
所述偏振片設置于所述光源與所述第一光學器件之間,所述光源用于向所述偏振片發射入射光線;
所述偏振片用于將所述入射光線中所述具有第一偏振方向的第一光線通過,以使得所述具有第一偏振方向的第一光線射至所述第一光學器件。
10.根據權利要求1至9任一項所述的投影器,其特征在于,所述光源包括以下任意一項:垂直腔面發射激光VCSEL芯片和邊發射激光EEL芯片。
11.根據權利要求10所述的投影器,其特征在于,所述光源包括EEL芯片時,所述光源還包括第二反射元件;
其中,所述第二反射元件用于將所述EEL芯片的發出的光線進行反射,以使得所述具有第一偏振方向的第一光線射至所述第一光學器件。
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