[發(fā)明專利]一種光譜分析儀器中光學元件的氣體保護裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711005464.1
• 申請日: 2017-10-25
• 公開（公告）號: CN107782671A
• 公開（公告）日: 2018-03-09
• 發(fā)明（設計）人: 藍靖
• 申請（專利權）人: 藍靖
• 主分類號: G01N21/15
• 分類號: G01N21/15;G01N21/25
• 代理公司: 北京卓恒知識產權代理事務所(特殊普通合伙)11394
• 代理人: 唐曙暉

技術領域

本發(fā)明涉及一種光譜分析儀器中光學元件的氣體保護裝置，屬于光學、儀器與分析技術領域。

背景技術

采用透鏡將目標物質的發(fā)射光聚焦之后，經(jīng)光纖傳導后，并通過光譜儀對目標物質的特征光譜信號進行精確的定量分析，是目前環(huán)境、食品等樣品檢測中最常用的方法之一。而實際檢測過程中，一些液體飛沫、灰塵以及其它可飛濺至光學器件表面的介質會不可避免地污染光學元件，造成光學器件的損毀，降低光學元件的檢測性能及使用壽命。因此，克服光學元件污染，延長光學元件的使用壽命并維持較高的使用性能是本領域技術人員所要解決的主要技術問題之一。

一些研究人員曾嘗試通過在透鏡前放置石英片的方式來阻擋飛濺的介質對透鏡的污染，可以在一定程度上降低對元件表面的污染。本申請發(fā)明人在研究中發(fā)現(xiàn)，隨著時間的增加，石英片表面的飛濺物也會增多，從而降低光的透過率、影響后期檢測的準確性；另外，加裝的石英片可能會對物質的發(fā)射光有一定的吸收，這同樣也會影響光學元件的檢測性能。

發(fā)明內容

本申請實施例提供一種光譜分析儀器中光學元件的氣體保護裝置，起到保護光學器件，使其免受各種飛濺物質的污染，避免光學器件損毀，減少光學器件性能損失的作用。

本發(fā)明提供一種光譜分析儀器中光學元件的氣體保護裝置，包括：

供氣裝置、氣流管道和裝置本體；

所述氣流管道將所述供氣裝置和所述裝置本體連通；

所述裝置本體包括氣體入口、氣體通道和氣體出口，所述氣流管道在所述氣體入口將氣流導入所述氣體通道，氣流經(jīng)氣體通道傳輸后由氣體出口排出；

從所述氣體出口排出的壓力氣流形成氣流平面，噴射在光學元件的周圍起到保護作用。

進一步地，氣體通道是一個扁平的漏斗形狀的腔體，氣體出口為長條狀的直縫隙。

進一步地，所述裝置本體為圓心向下的弧體，所述氣體入口位于弧體的側面中心處，所述氣體出口位于弧體底部，所述氣體出口為曲面扁平狹縫。

進一步地，所述裝置本體為圓心向下的弧體，所述氣體入口位于弧體的側面中心處，所述氣體出口位于弧體底部，所述氣體出口為均勻排布的多個出氣孔。

進一步地，所述供氣裝置為氣泵，氣泵流速為500ml/min。

進一步地，所述裝置本體位于光學元件斜上方，距光學元件平行距離1cm，垂直距離1.5cm。

進一步地，所述裝置本體的弧體半徑為10cm，角度為90°，厚度0.5cm。

進一步地，所述氣流管道為橡膠管，所述氣體入口的直徑為2cm；所述橡膠管外徑為2cm；內徑為1.5cm。

進一步地，所述出氣孔數(shù)量為100個，孔徑200μm。

進一步地，氣體通過所述裝置本體后形成平面或者曲面的致密氣流層。

進一步地，所述裝置本體材質可選用PEEK或不銹鋼。

本發(fā)明的氣體保護裝置，形同設置在光學元件周圍的隱形隔板，既能保護光學元件，又不影響測量精度。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作一簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實施例提供的一種光譜分析儀器中光學元件的氣體保護裝置的結構示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例提供的一種光譜分析儀器中光學元件的氣體保護裝置的使用狀態(tài)示意圖；

圖3為本發(fā)明另一實施例提供的一種光譜分析儀器中光學元件的氣體保護裝置的使用狀態(tài)示意圖。

具體實施方式

為使本發(fā)明實施例的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。