[發明專利]用于電子器件的化合物

有效

• 申請號: 201711001915.4
• 申請日: 2012-07-03
• 公開（公告）號: CN107814820B
• 公開（公告）日: 2020-08-11
• 發明（設計）人: 埃米爾·侯賽因·帕勒姆;克里斯托夫·普夫盧姆;安雅·雅提斯奇
• 申請（專利權）人: 默克專利有限公司
• 主分類號: C07F9/53
• 分類號: C07F9/53;C07D471/04;C07D213/26;C07D403/04;C07D487/04;C07D401/04;C07D409/04;C07D209/96;C07D333/78;C07D307/93;C07D405/04;C07D221/20;C07F9/6568
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 王潛;郭國清

1.式(II)的化合物

其中以下限定適用于出現的符號和標記：

X、Y在每次出現時相同或不同地選自單鍵、NR¹、O或S，其中環的兩個基團X和Y中的確切地一個代表單鍵，產生五元環；

V是CO；

T在每次出現時相同或不同地選自單鍵、C(R¹)₂、O或S；

Z，如果沒有基團與Z鍵合，則Z在每次出現時相同或不同地選自CR¹，并且，如果存在與Z鍵合的基團，則Z等于C；

R¹在每次出現時相同或不同地是H，D，F，CN，N(R²)₂，具有1至20個C原子的直鏈的烷基、烷氧基或硫代烷基基團或者具有3至20個C原子的支鏈或環狀的烷基、烷氧基或硫代烷基基團，其中上述基團中的每個可被一個或多個基團R²取代，并且其中一個或多個在上述基團中的H原子可被D、F或CN代替，或者具有5至30個芳族環原子的芳族或雜芳族環系，所述環系在每種情況下可被一個或多個基團R²取代；

R²在每次出現時相同或不同地是H，D，F，CN，N(R³)₂，具有1至20個C原子的直鏈的烷基、烷氧基或硫代烷基基團或者具有3至20個C原子的支鏈或環狀的烷基、烷氧基或硫代烷基基團，其中上述基團中的每個可被一個或多個基團R³取代，并且其中一個或多個在上述基團中的H原子可被D、F或CN代替，或者具有5至30個芳族環原子的芳族或雜芳族環系，所述環系在每種情況下可被一個或多個基團R³取代；

R³在每次出現時相同或不同地是H，D，F，或具有1至20個C原子的脂族、芳族或雜芳族有機基團，其中一個或多個H原子還可以被D或F代替；

m在每次出現時相同或不同地是0或1，其中兩個在式中的標記m不能都等于0；

并且其中所述基團X和Y中的每個鍵合在螺二芴衍生物的六元環的相鄰位置處。

2.根據權利要求1所述的化合物，特征在于其不含具有多于16個芳族環原子的稠合的芳基基團。

3.根據權利要求1或2所述的化合物，特征在于沒有雜芳基基團、沒有酮基基團、沒有氧化磷基團并且沒有氧化硫基團與所述基團X和Y鍵合。

4.根據權利要求1或2所述的化合物，特征在于在環中的兩個基團X和Y中的一個代表單鍵，且所述兩個基團X和Y中的另一個代表基團NR¹。

5.根據權利要求1或2所述的化合物，特征在于每個式中的兩個標記m中的一個等于1，且另一個等于零。

6.一種低聚物、聚合物或樹枝狀大分子，其含有一種或多種根據權利要求1至5中的任一項所述的化合物，其中一個或多個鍵合到所述聚合物、低聚物或樹枝狀大分子的鍵可位于式(II)中被R¹或R²取代的任何希望的位置處。

7.一種制劑，其包含至少一種根據權利要求1至5中的任一項所述的化合物或至少一種根據權利要求6所述的聚合物、低聚物或樹枝狀大分子和至少一種溶劑。

8.用于制備根據權利要求1至5中的任一項所述的化合物的方法，特征在于

-將雜芳基基團稠合至被缺電子基團取代的螺二芴基團上，或特征在于

-進行環合反應，經由所述環合反應獲得修飾的螺二芴基團。

9.一種電子器件，其包含至少一種根據權利要求1至5中的任一項所述的化合物或至少一種根據權利要求6所述的聚合物、樹枝狀大分子或低聚物。