[發(fā)明專利]障礙物透視方法及障礙物透視裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711001278.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109697745A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-04-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王蕙雯;何其勛;李學(xué)文;辛怡德;郭俊彥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 富泰華工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06T11/60 | 分類號(hào): | G06T11/60;G06K9/00 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334 | 代理人: | 劉永輝;鄭杏芳 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市寶安區(qū)觀瀾街道大三社*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 障礙物 透視裝置 透視 預(yù)留 兩幅圖像 圖像 遮擋 拼接位置 視野盲區(qū) 拼接 刪除 采集 視角 | ||
1.一種障礙物透視方法,包括步驟:
從至少兩個(gè)不同視角采集被預(yù)定障礙物部分遮擋的至少兩幅圖像;
刪除所述至少兩幅圖像中被障礙物遮擋的部分,生成至少兩幅預(yù)留圖像;
確定所述至少兩幅預(yù)留圖像的拼接位置;
拼接所述至少兩幅預(yù)留圖像。
2.如權(quán)利要求1所述的障礙物透視方法,其特征在于:所述至少兩個(gè)不同視角中,相鄰兩視角具有重合區(qū)域。
3.如權(quán)利要求1所述的障礙物透視方法,其特征在于,確定所述至少兩幅預(yù)留圖像的拼接位置的步驟具體包括:
根據(jù)所述至少兩個(gè)不同視角及所述至少兩幅圖像的預(yù)設(shè)尺寸確定所述至少兩幅圖像的位置信息;
比對(duì)相鄰圖像的位置信息,以其中一圖像為參照計(jì)算角度變換量及平移變換量。
4.如權(quán)利要求1所述的障礙物透視方法,其特征在于,確定所述至少兩幅預(yù)留圖像的拼接位置的步驟具體包括:
對(duì)相鄰的預(yù)留圖像進(jìn)行特征提取;
比對(duì)提取的特征并進(jìn)行圖像配準(zhǔn)。
5.如權(quán)利要求1所述的障礙物透視方法,其特征在于,所述比對(duì)提取的特征并進(jìn)行圖像配準(zhǔn)的步驟具體包括:
根據(jù)相鄰圖像中重疊部分的位置,確定兩張圖像的變換關(guān)系,找出待拼接圖像之間映射關(guān)系的變換模型;
利用一種或多種配準(zhǔn)方式實(shí)現(xiàn)多幅圖像的配準(zhǔn)。
6.如權(quán)利要求1所述的障礙物透視方法,其特征在于,在拼接所述至少兩幅預(yù)留圖像的步驟前,還包括步驟:
以其中一幅預(yù)留圖像為參照,對(duì)所述至少兩幅預(yù)留圖像中的其他預(yù)留圖像進(jìn)行尺寸變換。
7.如權(quán)利要求1或6所述的障礙物透視方法,其特征在于,在拼接所述至少兩幅預(yù)留圖像的步驟前,還包括步驟:
以其中一幅預(yù)留圖像為參照,對(duì)所述至少兩幅預(yù)留圖像中的其他預(yù)留圖像進(jìn)行分辨率變換。
8.如權(quán)利要求1所述的障礙物透視方法,其特征在于:拼接所述至少兩幅預(yù)留圖像的步驟具體包括:
對(duì)相鄰的預(yù)留圖像的對(duì)應(yīng)區(qū)域加權(quán)融合,該加權(quán)融合采用像素級(jí)的融合算法實(shí)現(xiàn)。
9.一種障礙物透視裝置,包括一攝像裝置及一處理單元,其特征在于:所述攝像裝置包括至少兩組攝像頭,所述至少兩組攝像頭的朝向不同;所述至少兩組攝像頭的信號(hào)輸出端連接至所述處理單元;
所述處理單元接收所述至少兩組攝像頭的至少兩組攝像信息后,將所述至少兩組攝像信息融合,形成一預(yù)定區(qū)域的全景信息。
10.如權(quán)利要求9所述的障礙物透視裝置,其特征在于:所述至少兩組攝像頭中,相鄰兩組攝像頭的視角具有重合區(qū)域。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于富泰華工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司,未經(jīng)富泰華工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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