[發(fā)明專利]導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)及其制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710998772.2
• 申請日: 2017-10-20
• 公開（公告）號: CN109427435B
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 許博義;邱見泰;林昱禎;朱世杰
• 申請（專利權(quán)）人: 佳陞科技有限公司
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;H01B13/00;G06F3/044;G06F3/041
• 代理公司: 北京北新智誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11100
• 代理人: 朱麗華

1.一種導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)，其特征在于，包含：

多條導(dǎo)電網(wǎng)線，形成于一透明基板上；

其中這些導(dǎo)電網(wǎng)線中的部分導(dǎo)電網(wǎng)線之上設(shè)置具有不同高度的阻障圖案層，該阻障圖案層借由一納米壓印過程將一光阻型材料設(shè)置于該導(dǎo)電網(wǎng)線，并借由一干式蝕刻過程以形成不同高度。

2.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)，其特征在于，該透明基板是選自軟性透明基板或玻璃。

3.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)，其特征在于，該導(dǎo)電網(wǎng)線的材料是選自金屬、金屬氧化物、碳基材料所組成族群之一。

4.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)，其特征在于，該導(dǎo)電網(wǎng)線的線寬介于10納米至100微米之間。

5.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)，其特征在于，該導(dǎo)電網(wǎng)線的間距介于10納米至100微米之間。

6.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)，其特征在于，該導(dǎo)電網(wǎng)線的材料為選自銀、銅、鋁、鐵、鎂、錫、鎳、金、鈷、鈦、鉬、釹及其合金所組成族群之一。

7.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)，其特征在于，該導(dǎo)電網(wǎng)線的材料為一石墨烯材料。

8.一種導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)的制造方法，其特征在于，包含下列步驟：

步驟一：形成一導(dǎo)電層于一透明基板之上；

步驟二：通過一納米壓印制造形成一具有不同高度的阻障圖案層于該導(dǎo)電層之上；

步驟三：蝕刻未被該阻障圖案層遮蔽的該導(dǎo)電層以形成一導(dǎo)電網(wǎng)線；

步驟四：借由一干式蝕刻過程部分去除該阻障圖案層；

其中，步驟四使得部分的導(dǎo)電網(wǎng)網(wǎng)線之上仍具有該阻障圖案層，該阻障圖案層會具有黑化的效果，部分的導(dǎo)電圖案上完全去除該阻障圖案層，以形成一連接區(qū)域。

9.如權(quán)利要求8所述的導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)的制造方法，其特征在于，在步驟二，還包含去除阻障圖案層之間的殘存材料。

10.如權(quán)利要求8所述的導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)的制造方法，其特征在于，該導(dǎo)電網(wǎng)線的材料是選自金屬、金屬氧化物、碳基材料所組成族群之一。

11.如權(quán)利要求8所述的導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)的制造方法，其特征在于，該導(dǎo)電網(wǎng)線的線寬介于10納米至100微米之間。

12.如權(quán)利要求8所述的導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)的制造方法，其特征在于，該導(dǎo)電網(wǎng)線的間距介于10納米至100微米之間。

13.如權(quán)利要求8所述的導(dǎo)電網(wǎng)線圖案結(jié)構(gòu)的制造方法，其特征在于，在步驟四，該干式蝕刻過程是一氧電漿灰化光阻過程。