[發(fā)明專利]一種提布跟蹤裝置及花邊切割系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710998695.0 | 申請日: | 2017-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN107587340A | 公開(公告)日: | 2018-01-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 沈?qū)幰?/a>;陳文爭;虞文宏 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州市天?;ㄟ呌邢薰?/a> |
| 主分類號: | D06H7/00 | 分類號: | D06H7/00 |
| 代理公司: | 廣州市深研專利事務(wù)所44229 | 代理人: | 陳雅平 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 跟蹤 裝置 花邊 切割 系統(tǒng) | ||
1.一種提布跟蹤裝置,其特征在于,應(yīng)用于花邊切割裝置中,所述提布跟蹤裝置包括架體以及設(shè)在所述架體的頂部的提布單元和張力調(diào)節(jié)桿;所述架體的頂部設(shè)有安裝橫梁,所述張力調(diào)節(jié)桿設(shè)在所述安裝橫梁背離所述架體的頂部的表面,所述花邊切割裝置位于所述架體的頂部的下方,所述提布單元的提布速度大于所述花邊切割裝置的牽引速度;
所述提布單元包括提布羅拉和防卷羅拉,所述提布羅拉的表面覆蓋有黏性包皮,所述提布羅拉和防卷羅拉通過皮帶傳動,所述提布羅拉的徑向長度是所述防卷羅拉的徑向長度的兩倍到三倍;
所述提布跟蹤裝置還包括:位于設(shè)定區(qū)域的提布探測單元,所述提布探測單元位于所述架體的頂部的下方,帶廢料花邊依次通過所述提布單元、所述提布探測單元以及所述張力調(diào)節(jié)桿進(jìn)入花邊切割裝置中;
所述提布探測單元包括第一對光柵和第二對光柵,所述第一對光柵位于設(shè)定區(qū)域的最上端,所述第二對光柵位于所述設(shè)定區(qū)域的最下端,所述第一對光柵到所述架體的頂部距離最近,所述第二對光柵到所述架體的頂部最遠(yuǎn);所述第一對光柵和所述第二對光柵中,兩個光柵之間均具有探測空隙;
所述提布跟蹤裝置還包括提布控制單元;所述提布控制單元包括用于采集所述花邊切割裝置中羅拉轉(zhuǎn)動速度的速度采集器,用于識別所述提布探測單元的探測結(jié)果的圖案識別器,以及用于控制所述提布羅拉的轉(zhuǎn)動速度的速度控制器;所述速度采集器的輸出端和所述圖案識別器的輸出端分別與所述速度控制器連接;所述速度控制器用于在所述探測結(jié)果表示帶廢料花邊位于所述設(shè)定區(qū)域的上方,控制所述提布羅拉的轉(zhuǎn)動速度為V1,在所述探測結(jié)果帶廢料花邊位于所述設(shè)定區(qū)域中,控制所述提布羅拉的轉(zhuǎn)動速度為V2;V1大于所述花邊切割裝置的羅拉轉(zhuǎn)動速度,V2大于等于0,小于V1;
所述提布跟蹤裝置還包括設(shè)在所述架體上的張力控制單元,所述張力控制單元用于控制從所述張力調(diào)節(jié)桿經(jīng)過的所述帶廢料花邊的張力;所述張力控制單元位于所述張力調(diào)節(jié)桿的下方;所述張力控制單元包括支撐桿以及多個羅拉調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu);所述支撐桿設(shè)在所述架體上,各個所述羅拉調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)沿著逐漸遠(yuǎn)離所述張力調(diào)節(jié)桿的方向布置,每個所述羅拉調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括固定羅拉,以及可繞所述固定羅拉轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動羅拉,每個所述羅拉調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的固定羅拉與轉(zhuǎn)動羅拉之間具有使得帶廢料花邊通行的第一縫隙,相鄰兩個所述羅拉調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)之間具有使得帶廢料花邊通行的第二縫隙,各個所述羅拉調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的固定羅拉固設(shè)在所述支撐桿上;帶廢料花邊交替通過第一縫隙和第二縫隙。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提布跟蹤裝置,其特征在于,所述提布羅拉設(shè)在所述安裝橫梁背離所述架體的頂部的表面,所述防卷羅拉設(shè)在所述安裝橫梁與所述架體的頂部相對的表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的提布跟蹤裝置,其特征在于,所述提布羅拉與所述防卷羅拉在安裝橫梁上的安裝位置連線與安裝橫梁的橫向方向所呈的角度為30°-60°。
4.一種花邊切割系統(tǒng),其特征在于,包括用于向花邊切割裝置提布的提布跟蹤裝置;所述提布跟蹤裝置為權(quán)利要求1~3任一項所述的提布跟蹤裝置。
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