[發(fā)明專利]掛片送料裝置以及光學鍍膜設備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710996947.6 | 申請日: | 2017-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN107663625A | 公開(公告)日: | 2018-02-06 |
| 發(fā)明(設計)人: | 徐旻生;莊炳河;龔文志;張永勝;滿小花;王應斌 | 申請(專利權(quán))人: | 愛發(fā)科豪威光電薄膜科技(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/22 | 分類號: | C23C14/22 |
| 代理公司: | 深圳中一聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司44414 | 代理人: | 張全文 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掛片送料 裝置 以及 光學 鍍膜 設備 | ||
1.一種掛片送料裝置,用于將基片送入鍍膜機,所述鍍膜機具有送片口以及中間轉(zhuǎn)盤,其特征在于,所述掛片送料裝置包括供所述基片粘附的基片架、位于所述鍍膜機左側(cè)并與所述送片口連通的遞送室、與所述遞送室連通并位于所述遞送室下方的中間室以及用于將所述基片架從所述中間室提起至所述遞送室并從所述送片口遞送至所述中間轉(zhuǎn)盤以使所述基片架掛持于所述中間轉(zhuǎn)盤的垂直遞送機構(gòu),所述基片架包括基架座以及連接于所述基架座右側(cè)的倒勾,所述垂直遞送機構(gòu)包括中間連接組件、與所述中間連接組件連接并用于拿取所述基片架的掛架、用于驅(qū)動所述中間連接組件上下運動的垂直驅(qū)動組件以及驅(qū)動所述中間連接組件左右運動的水平驅(qū)動組件。
2.如權(quán)利要求1所述的掛片送料裝置,其特征在于,所述中間連接組件包括自鎖機構(gòu)、由所述垂直驅(qū)動組件驅(qū)動上下運動的支撐座以及與所述支撐座在左右方向滑動配合且與所述掛架連接并由所述水平驅(qū)動組件驅(qū)動左右運動的主架座,所述水平驅(qū)動組件隨所述主架座一并上下運動,所述自鎖機構(gòu)包括第一卡止件、與所述主架座連接的第二卡止件以及在其彈性恢復力的作用下驅(qū)動所述第一卡止件向所述第二卡止件運動以使所述第一卡止件和所述第二卡止件卡接配合從而限制所述支撐座和所述主架座左右滑動的第一彈性件,所述第一彈性件在所述掛架與所述送片口處于同一水平位置時受到用于克服其彈性恢復力的外力。
3.如權(quán)利要求2所述的掛片送料裝置,其特征在于,所述支撐座開設上下方向貫通的導孔,所述第一卡止件設有朝上的卡齒,所述第二卡止件設有與所述卡齒卡接配合的卡槽;
所述自鎖機構(gòu)包括穿過所述導孔并與所述導孔滑接配合的導桿以及連接于所述導桿上桿端的限位件,所述第一彈性件一端與所述限位件彈性抵觸,另一端與所述支撐座彈性抵觸,所述限位件在所述掛架與所述送片口處于同一水平位置時抵觸所述遞送室上頂面。
4.如權(quán)利要求2所述的掛片送料裝置,其特征在于,所述掛架包括掛架本體以及與所述掛架本體連接并朝右延伸形成的掛持桿,所述基片架開設有左右方向貫通設置并供所述掛持桿置入的掛孔。
5.如權(quán)利要求4所述的掛片送料裝置,其特征在于,所述掛架包括連接與所述掛持桿自由端并向上延伸形成且用于限制所述基片架脫離所述掛持桿的限位勾。
6.如權(quán)利要求4所述的掛片送料裝置,其特征在于,所述中間連接組件包括與所述掛架連接并與所述主架座在左右方向滑動連接的連接座、一端與所述主架座連接而另一端與所述連接座并在其彈性恢復力的作用下驅(qū)動所述掛架具有向右運動的趨勢的第二彈性件以及用于驅(qū)動所述連接座向左運動的掛架輔助機構(gòu)。
7.如權(quán)利要求6所述的掛片送料裝置,其特征在于,所述掛架輔助機構(gòu)包括與所述連接座連接的輔助連接件以及用于驅(qū)動所述輔助連接件左右運動的輔助驅(qū)動器。
8.如權(quán)利要求1至7中任一項所述的掛片送料裝置,其特征在于,所述掛片送料裝置包括置于所述中間室前側(cè)的進片室、位于所述中間室后側(cè)的出片室、用于將所述基片架從所述進片室運載至所述中間室并從所述中間室運載至所述出片室的運載小車,所述運載小車至少設有一個。
9.如權(quán)利要求8所述的掛片送料裝置,其特征在于,所述掛片送料裝置包括用于隔斷所述進片室和所述中間室的第一隔斷件、用于將所述進片室抽真空的第一真空泵、用于隔斷所述出片室和所述中間室的第二隔斷件以及用于將所述出片室抽真空的第二真空泵。
10.一種光學鍍膜設備,其特征在于,包括如權(quán)利要求1至9中任一項所述的掛片送料裝置。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





