[發(fā)明專利]一種基于三元無(wú)機(jī)平板型異質(zhì)結(jié)薄膜的太陽(yáng)電池及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710995180.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107887513B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳王偉;王命泰;齊娟娟;董超 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院 |
| 主分類號(hào): | H01L51/46 | 分類號(hào): | H01L51/46;H01L51/42;H01L51/48;B82Y30/00 |
| 代理公司: | 安徽合肥華信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34112 | 代理人: | 郎海云 |
| 地址: | 230031 安徽*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 三元 無(wú)機(jī) 平板 型異質(zhì)結(jié) 薄膜 太陽(yáng)電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種基于三元無(wú)機(jī)平板型異質(zhì)結(jié)薄膜的太陽(yáng)電池,其特征在于:在玻璃襯基上依次沉積有陽(yáng)極、三元無(wú)機(jī)平板型異質(zhì)結(jié)薄膜、有機(jī)空穴傳輸層、陰極;所述的太陽(yáng)電池陽(yáng)極為ITO層;所述的三元無(wú)機(jī)平板型異質(zhì)結(jié)薄膜由TiO2納米薄膜、CdS納米薄膜和CuInS2納米薄膜組成,TiO2納米薄膜、CdS納米薄膜和CuInS2納米薄膜,依次沉積于太陽(yáng)電池陽(yáng)極上;所述的有機(jī)空穴傳輸層為Spiro-OMeTAD薄膜;所述的陰極為Au薄膜;
所述的基于三元無(wú)機(jī)平板型異質(zhì)結(jié)薄膜的太陽(yáng)電池的制備方法,包括以下步驟:
(1)將陽(yáng)極ITO導(dǎo)電玻璃用濃鹽酸和Zn粉刻蝕成細(xì)條,再經(jīng)丙酮、異丙醇、超純水分別超聲清洗4-6分鐘,干燥后,得經(jīng)過(guò)刻蝕后的ITO導(dǎo)電玻璃;在刻蝕后的ITO導(dǎo)電玻璃上沉積TiO2納米薄膜后備用;
(2)配置濃度為0.4-0.6g/L的硫酸鎘水溶液,向其中加入濃度為25%-28%的氨水,并在60-70℃水浴中攪拌溶解;配置濃度為50-60g/L的硫脲水溶液;硫酸鎘水溶液:氨水:硫脲水溶液體積比為340-360:54-58:43-47;將沉積有TiO2薄膜的ITO導(dǎo)電玻璃豎直懸空浸置于攪拌狀態(tài)的硫酸鎘和氨水的混合水溶液中,加入硫脲水溶液,繼續(xù)在60-70℃水浴中進(jìn)行8-12min反應(yīng)沉積,得到TiO2和CdS兩種納米薄膜組成的二元平板型異質(zhì)結(jié)薄膜;
(3)室溫下將InCl3溶于N,N-二甲基甲酰胺中,攪拌0.5-1.5小時(shí),配制成145-147g/L的溶液,然后加入CuI,繼續(xù)攪拌0.5-1.5小時(shí),再加入硫脲,室溫下攪拌15-30小時(shí),得到CuInS2反應(yīng)前驅(qū)物溶液,其中InCl3:CuI:硫脲的摩爾比為1:1:6-10;
將CuInS2反應(yīng)物前驅(qū)物溶液滴加到所得的二元平板型異質(zhì)結(jié)薄膜上并旋涂成膜,重復(fù)旋涂2次,得到CuInS2反應(yīng)前驅(qū)物薄膜;將所得的反應(yīng)前驅(qū)物薄膜放在65℃真空干燥箱中干燥后,置于惰性氣體保護(hù)下的熱臺(tái)上,先將熱臺(tái)溫度升至120-180℃并保持4-6分鐘,然后繼續(xù)升溫至200-300℃并于此溫對(duì)樣品進(jìn)行5-15分鐘的熱處理;熱處理結(jié)束后,樣品自然冷卻至室溫,得到結(jié)晶性CuInS2胚膜;重復(fù)操作至CuInS2納米薄膜的厚度達(dá)標(biāo),得到TiO2、CdS和CuInS2三種納米薄膜組成的三元平板型異質(zhì)結(jié)薄膜;
(4)在步驟(3)所得的三元平板型異質(zhì)結(jié)薄膜上,旋涂一層濃度為60-90mg/mL的Spiro-OMeTAD、LiTFSI和TBP混合物溶液,在空氣中50-150℃熱處理5-15分鐘,得到Spiro-OMeTAD薄膜空穴傳輸層;
(5)在步驟(4)所得的Spiro-OMeTAD薄膜空穴傳輸層上,通過(guò)熱蒸發(fā)方法蒸鍍Au薄膜,得到基于三元無(wú)機(jī)平板型異質(zhì)結(jié)薄膜的太陽(yáng)電池;
(6)將步驟(5)制得的太陽(yáng)電池在惰性氣體保護(hù)下封裝獲得太陽(yáng)電池產(chǎn)品。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于三元無(wú)機(jī)平板型異質(zhì)結(jié)薄膜的太陽(yáng)電池,其特征在于:TiO2納米薄膜由20-30nm的TiO2納米顆粒組成,CdS納米薄膜由10-20nm的CdS納米顆粒組成,CuInS2納米薄膜由10-20nm的CuInS2納米顆粒組成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于三元無(wú)機(jī)平板型異質(zhì)結(jié)薄膜的太陽(yáng)電池,其特征在于:所述的ITO層的厚度為100-300nm,TiO2納米薄膜的厚度為50-150nm,CdS納米薄膜厚度為50-100nm,CuInS2納米薄膜厚度為100-500nm,Spiro-OMeTAD薄膜厚度為100-200nm,Au薄膜厚度為60-120nm。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
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