[發明專利]沿深度方向多形式、變截面支護結構及其施工方法

在審

• 申請號: 201710992319.0
• 申請日: 2017-10-23
• 公開（公告）號: CN107761742A
• 公開（公告）日: 2018-03-06
• 發明（設計）人: 張中杰;陳加核;吳航;黃家華
• 申請（專利權）人: 上海市城市建設設計研究總院（集團）有限公司
• 主分類號: E02D17/04
• 分類號: E02D17/04
• 代理公司: 上海知義律師事務所31304
• 代理人: 劉峰

技術領域

本發明涉及基坑建造技術領域，特別涉及沿深度方向多形式、變截面支護結構及其施工方法。

背景技術

隨著城市化進程的快速推進，層出不窮的超大超深地下室、超高層建筑的基礎剛度要求使基坑開挖深度越來越深。

在現有技術中，基坑沿其深度方向一般均采用統一形式、統一截面的支護結構，即基坑挖深決定了支護結構的形式與截面，而此截面對同一基坑淺層區域而言顯然是過大了，由此出現了支護結構的大量浪費。

因此，需要對現有的基坑建造方式進行改進，以適應越來越多超大超深地下室、超高層建筑的基礎剛度要求和建造速度要求。

發明內容

有鑒于現有技術的上述缺陷，本發明提供沿深度方向多形式、變截面支護結構及其施工方法，實現的目的之一是在基坑不同深度范圍采用不同支護形式、不同截面的支護結構，以實現支護結構的最優化。

為實現上述目的，本發明公開了沿深度方向多形式、變截面支護結構，包括從地面向下連續設置、且首尾相連的若干層支護結構。每兩層相鄰的所述支護結構中靠近所述坑底的所述支護結構設置于另一所述支護結構內部，每兩層所述支護結構之間相連接的首尾部之間存在間隙，并籍由間隙加固體進行加固。每一所述支護結構內部均最少設有一個橫向設置的支撐。

優選的，所述支護結構包括靠近地面部分的淺層支護結構，以及靠近坑底的深層支護結構；所述淺層支護結構可采用SMW工法樁或小型鉆孔灌注樁；所述深層支護結構可采用地下連續墻大直徑鉆孔灌注樁。

優選的，所述間隙加固體是采用高壓旋噴工藝進行加固。

本發明還提供一種沿深度方向多形式、變截面支護結構的施工方法，步驟如下：

A、根據基坑要求設置所述淺層支護結構；

B、根據基坑要求向下設置相鄰的所述支護結構，相鄰的所述支護結構根據相應的深度和基坑強度要求，選擇相應的支護形式；

C、將每兩個相鄰的所述支護結構之間的間隙中的泥土采用高壓旋噴工藝進行加固；

D、開挖至兩個相鄰的所述支護結構的結合處，并在相應的所述支護結構設置所述支撐(11、12、13)；

E、向下開挖至所述基坑的坑底，并在最下方的所述支護結構支護結構內設置所述支撐(21)。

優選的，當所述基坑需要3層以上所述支護結構時，重復步驟C至D，直至設置完成倒數第二層所述支護結構。

本發明的有益效果：

本發明應用在基坑建造時，能夠提供沿深度方向多形式、變截面支護結構，能大幅減小支護結構工程量，有效拓展了地下工程的建設手段，推動了行業技術進步，具有良好經濟、社會效益。

以下將結合附圖對本發明的構思、具體結構及產生的技術效果作進一步說明，以充分地了解本發明的目的、特征和效果。

附圖說明

圖1示出本發明一實施例中設置最上層支護結構時的狀態示意圖。

圖2示出本發明一實施例中設置第二層支護結構時的狀態示意圖。

圖3示出本發明一實施例中開挖至基坑最上層的結構示意圖。

圖4示出本發明一實施例的結構示意圖。

具體實施方式

實施例

如圖4所示，沿深度方向多形式、變截面支護結構，包括從地面9向下連續設置、且首尾相連的若干層支護結構。

每兩層相鄰的支護結構中靠近坑底29的支護結構設置于另一支護結構內部，每兩層支護結構之間相連接的首尾部之間存在間隙，并籍由間隙加固體3進行加固。

每一支護結構內部均最少設有一個橫向設置的支撐11、12、13、21。

在某些實施例中，支護結構包括靠近地面部分的淺層支護結構1，以及靠近坑底29的深層支護結構2；淺層支護結構1可采用SMW工法樁或小型鉆孔灌注樁；深層支護結構2可采用地下連續墻或大直徑鉆孔灌注樁。

在某些實施例中，間隙加固體3是采用高壓旋噴工藝進行加固。

在某些實施例中，設置在最上端的淺層支護結構1設有三個橫向設置的支撐11、12、13。

本發明還提供一種沿深度方向多形式、變截面支護結構的施工方法，步驟如下：

如圖4所示的采用上下兩層結構形成的基坑支護。

首先，如圖1所示，根據基坑要求設置淺層支護結構1；

根據基坑淺層部分的開挖深度進行強度及穩定性進行設計，一般可采用SMW工法樁、小型鉆孔灌注樁等支護形式，其中淺層基坑的開挖深度可根據基坑豎向支撐的布置確定，一般可選在某道支撐的底面位置。