[發(fā)明專(zhuān)利]基板浮置裝置及基板浮置方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710992216.4
• 申請(qǐng)日: 2017-10-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108008552A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-05-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 成普濫璨;李東潤(rùn);劉同真
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 細(xì)美事有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G02F1/13
• 分類(lèi)號(hào): G02F1/13
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 延美花;臧建明

1.一種基板浮置裝置，其特征在于，包括：

主腔體，其具有浮置基板的工作臺(tái)且具有惰性氣體氛圍；

輔助腔體，其具有與所述主腔體相同的惰性氣體氛圍；

壓力提供單元，具有配置在所述輔助腔體內(nèi)的至少一個(gè)壓力生成要素及連接所述至少一個(gè)壓力生成要素與所述工作臺(tái)的壓力線路，以此從所述輔助腔體向所述主腔體供應(yīng)所述惰性氣體以提供用于將所述基板浮置在所述工作臺(tái)的上部的壓力；及

真空提供單元，其具有配置在所述輔助腔體內(nèi)的真空形成要素及連接所述真空形成要素與所述工作臺(tái)的真空線路，以此從所述主腔體向所述輔助腔體吸入所述惰性氣體以提供用于將所述基板浮置在所述工作臺(tái)的上部的真空。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板浮置裝置，其特征在于，所述工作臺(tái)包括：

主工作臺(tái)，其連接于所述壓力提供單元及所述真空提供單元；以及

輔助工作臺(tái)，其連接于所述壓力提供單元。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板浮置裝置，其特征在于：

所述輔助工作臺(tái)配置于所述主工作臺(tái)的兩側(cè)，所述惰性氣體包括氮。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板浮置裝置，其特征在于，還包括：

循環(huán)線路，其配置在所述主腔體與所述輔助腔體之間循環(huán)所述惰性氣體。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板浮置裝置，其特征在于，所述壓力提供單元包括：

第一壓力提供部件，其具有第一壓力生成要素及第一壓力線路；以及

第二壓力提供部件，其具有第二壓力生成要素及第二壓力線路。

6.一種基板浮置方法，其特征在于，包括：

使具有浮置基板的工作臺(tái)的主腔體內(nèi)保持惰性氣體氛圍的步驟；

使具有向所述主腔體供應(yīng)所述惰性氣體的壓力提供單元及從所述主腔體吸入所述惰性氣體的真空提供單元的輔助腔體內(nèi)保持實(shí)質(zhì)上與所述主腔體相同的所述惰性氣體氛圍的步驟；

利用所述壓力提供單元從所述輔助腔體向所述主腔體供應(yīng)所述惰性氣體以提供將所述基板浮置在所述工作臺(tái)的上部的壓力的步驟：以及

利用所述真空提供單元從所述主腔體向所述輔助腔體吸入所述惰性氣體以提供將所述基板浮置在所述工作臺(tái)的上部的真空的步驟。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板浮置方法，其特征在于，還包括；

在所述主腔體與所述輔助腔體之間循環(huán)所述惰性氣體的步驟。