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[發明專利]一種靜電保護用LEMDS_SCR器件在審

專利信息
申請號: 201710991134.8 申請日: 2017-10-23
公開(公告)號: CN107946296A 公開(公告)日: 2018-04-20
發明(設計)人: 張立國;孟慶曉;傅博 申請(專利權)人: 深圳震有科技股份有限公司
主分類號: H01L27/02 分類號: H01L27/02
代理公司: 深圳市君勝知識產權代理事務所(普通合伙)44268 代理人: 王永文,劉文求
地址: 518057 廣東省深圳市南山區*** 國省代碼: 廣東;44
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摘要:
搜索關鍵詞: 一種 靜電 保護 lemds_scr 器件
【說明書】:

技術領域

發明涉及微電子領域,特別涉及一種靜電保護用LEMDS_SCR器件。

背景技術

隨著半導體卡緊日趨小型化、高密度和多功能,特別像便攜式產品等對主板面積要求比較嚴格,很容易受到靜電放電(Electro-Static discharge, ESD)的影響,在SOI工藝下的橫向擴散金屬氧化物半導體可控硅保護器件(Laterally diffused metal oxide semiconductor-Silicon controlled rectifier, LDMOS-SCR)廣泛應用于LDMOS的ESD保護,在人體放電模式(Human-Body Model, HBM)事件下能起到有效的ESD保護作用。但是在組件充電模式(Charged-Device Model, CDM)事件下LDMOS-SCR卻不能起到有效的保護作用,這主要是因為CDM事件的特點是速度快、過充大,但是LDMOS-SCR其開啟時間較長,在CDM事件到來時不能及時開啟,導致電壓過沖擊穿柵氧化層從而造成內部核心電路的癱瘓。

如圖1所示,為了改善LDMOS 的抗ESD 性能,可以采用內嵌SCR 的LDMOS 結構(LDMOS_SCR),即在傳統的LDMOS 結構中的漏端增加一個P+ 注入區來增加一個寄生的SCR,利用SCR優越的ESD 性能來泄放大電流。然而,這種LDMOS_SCR 結構的維持電壓Vhold 相比于普通LDMOS 的Vhold 電壓值大大降低,遠低于高壓功率管的電源電壓,從而易導致器件正常工作時發生閂鎖(latch_up),使得器件不受前級驅動的控制,甚至導致器件損毀。

因而現有技術還有待改進和提高。

發明內容

鑒于上述現有技術的不足之處,本發明的目的在于提供一種靜電保護用LEMDS_SCR器件,可以在CDM事件下更快開啟,將瞬態的過沖電壓鉗位在一個安全的值,從而對內部核心電路的柵氧化層起到有效的保護作用。

為了達到上述目的,本發明采取了以下技術方案:

一種靜電保護用LEMDS_SCR器件,包括深埋氧層、P型陷區、襯底和N型漂移區,所述襯底位于所述深埋氧層的上方,所述P型陷區和N型漂移區位于所述襯底的表面,所述N型漂移區遠離P型陷區的一側具有P+摻雜區和N+摻雜區,所述P+摻雜區和N+摻雜區的下方設置有一個嵌入的P+注入區,所述嵌入的P+注入區位于N型漂移區里面。

所述的靜電保護用LEMDS_SCR器件中,所述P+摻雜區與所述N+摻雜區相鄰,所述P+摻雜區相比N+摻雜區更靠近P型陷區。

所述的靜電保護用LEMDS_SCR器件中,所述P型陷區具有與源極金屬相連的N+ 源區和P+ 接觸區,所述P+接觸區與所述N+源區不接觸。

所述的靜電保護用LEMDS_SCR器件中,所述P型陷區和所述N型漂移區相互接觸或不接觸。

所述的靜電保護用LEMDS_SCR器件中,所述P+摻雜區和N+摻雜區均位于所述嵌入的P+注入區的表面上。

所述的靜電保護用LEMDS_SCR器件中,所述襯底為P+襯底。

相較于現有技術,本發明提供的靜電保護用LEMDS_SCR器件,包括深埋氧層、P型陷區、襯底和N型漂移區,所述襯底位于所述深埋氧層的上方,所述P型陷區和N型漂移區位于所述襯底的表面,所述N型漂移區遠離P型陷區的一側具有P+摻雜區和N+摻雜區,所述P+摻雜區和N+摻雜區的下方設置有一個嵌入的P+注入區,所述嵌入的P+注入區位于N型漂移區里面。本發明通過在P+摻雜區與N+摻雜區下摻雜嵌入的P+注入區,使得N+區域/P+注入區率先發生雪崩擊穿,產生的大量非平衡載流子再進一步去觸發N漂移區/P+襯底的反向PN結,從而使得寄生SCR加速開啟,將瞬態的過沖電壓鉗位在一個安全的值,從而對內部核心電路的柵氧化層起到有效的保護作用。

附圖說明

圖1為現有的LEMDS_SCR器件的結構圖。

圖2為本發明提供的靜電保護用LEMDS_SCR器件的結構圖。

圖3為LEMDS_SCR器件的測試系統的等效原理圖。

圖4為現有的LEMDS_SCR器件與本發明提供的靜電保護用LEMDS_SCR器件的測試開啟時間對比圖。

具體實施方式

本發明提供一種靜電保護用LEMDS_SCR器件,可以在CDM事件下更快開啟,將瞬態的過沖電壓鉗位在一個安全的值,從而對內部核心電路的柵氧化層起到有效的保護作用。

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