[發明專利]陣列基板及顯示面板在審
| 申請號: | 201710980466.6 | 申請日: | 2017-10-19 |
| 公開(公告)號: | CN107728391A | 公開(公告)日: | 2018-02-23 |
| 發明(設計)人: | 謝克成 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產權代理有限公司44304 | 代理人: | 孫偉峰,顧楠楠 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 顯示 面板 | ||
技術領域
本發明涉及一種液晶顯示面板技術,特別是一種陣列基板及顯示面板。
背景技術
TFT-LCD(Thin Film Transistor,薄膜晶體管,Liquid Crystal Display,液晶顯示器)的制作非常復雜,需要經過陣列基板(TFT基板)制作,彩膜基板(CF基板)制作,在陣列基板和彩膜基板上分別涂布PI(配向膜),完成PI涂布后,在陣列基板或彩膜基板上滴下液晶和框膠,并將滴下液晶和框膠的陣列基板和彩膜基板對組,經過框膠固化后完成制作。在將陣列基板和彩膜基板對組過程中,因對組精度和兩個基板膜面收縮程度不同,容易導致上下基板間發生細微偏移(這里的上基板可以為彩膜基板也可以是一般的蓋板,下基板為陣列基板),從而發生漏光不良。目前的解決方法是管控對組精度和管控上下基板各層膜的收縮。該方法在作業過程中會犧牲掉各站點的監控生產時間,并且不能徹底解決漏光問題。
發明內容
為克服現有技術的不足,本發明提供一種陣列基板及顯示面板,解決因上下基板偏移導致的漏光問題。
本發明提供了一種陣列基板,包括薄膜晶體管、公共電極、像素電極以及配向電極,所述配向電極設于與黑色矩陣位置相對應處,所述配向電極用于為位于黑色矩陣位置處的液晶分子提供定向電壓,使該位置處的液晶分子進行定向排列。
進一步地,所述配向電極采用氧化銦錫材料制成。
進一步地,所述配向電極包括第一電極以及第二電極,所述第二電極至少分布在第一電極的其中一側且與第一電極相連。
進一步地,所述第二電極為圓形或多邊形。
進一步地,所述配向電極與公共電極、陣列基板的掃描線或陣列基板的數據線相連。
進一步地,所述配向電極與像素電極設置在同一層上。
本發明還提供了一種顯示面板,包括上基板和下基板,所述下基板采用所述的陣列基板,所述上基板包括黑色矩陣。
進一步地,所述配向電極限定于黑色矩陣的線寬之中。
進一步地,所述陣列基板為COA陣列基板。
本發明與現有技術相比,通過在陣列基板上與黑色矩陣位置相對應處設置配向電極,通過配向電極為液晶分子提供定向的電壓,從而使得位于黑色矩陣位置上的液晶分子能夠進行定向排列,從而解決漏光的問題,進一步提升產品的良率和生產效率。
附圖說明
圖1是本發明陣列基板的結構示意圖;
圖2是本發明配向電極與黑色矩陣的位置關系投影圖;
圖3是本發明的又一種陣列基板的結構示意圖;
圖4是本發明顯示面板的示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖和實施例對本發明作進一步詳細說明。
如圖1所示,本發明的陣列基板包括基板10、設于基板10上的薄膜晶體管1、公共電極2、像素電極3以及配向電極4,所述配向電極4設于與黑色矩陣位置相對應處(從圖中看,其與薄膜晶體管1的位置也相對),所述配向電極4用于為位于黑色矩陣位置處的液晶分子提供定向電壓,使該位置處的液晶分子進行定向排列,所述配向電極4與像素電極3設置在同一層上,具體地,所述配向電極4限定于黑色矩陣5的線寬之中,也就是說配向電極4的最大圖形的寬度小于黑色矩陣5的線寬。
所述配向電極4采用氧化銦錫(ITO)材料制成。
如圖2所示,配向電極4包括第一電極41以及第二電極42,所述第二電極42至少分布在第一電極41的其中一側且與第一電極41相連;具體地,第二電極42分布在第一電極41的兩側,使第一電極41的兩側形成多個分支。這里值得注意的是,對配向電極4進行圖案化時,第二電極42的形狀可根據實際情況進行設置,例如為圓形或多邊形,如圖2所示,第二電極42為矩形條狀,使第一電極41的邊緣形成鋸齒狀結構。
所述配向電極4與公共電極2、陣列基板的掃描線(圖中未示出)或陣列基板的數據線(圖中未示出)相連,但本發明不限于此,還可以專門對配向電極4輸入一用于配向的電壓,具體地,第一電極41與公共電極2、陣列基板的掃描線或陣列基板的數據線連接,由于掃描線和數據線為陣列基板的常規部件,在此不再贅述,僅需保證配向電極4與公共電極2、陣列基板的掃描線(圖中未示出)或陣列基板的數據線(圖中未示出)的其中之一相連即可;如圖2所示,配向電極4與公共電極2相連。
本發明中,配向電極4的制作方法可采用現有的ITO膜層的制作方法實現,通過圖案化后,形成配向電極4,在此不做具體限定。
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