[發(fā)明專利]基片集成波導可調(diào)濾波器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710979350.0 | 申請日: | 2017-10-19 |
| 公開(公告)號: | CN107799856B | 公開(公告)日: | 2020-01-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蘇道一;朱永忠 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東曼克維通信科技有限公司 |
| 主分類號: | H01P1/20 | 分類號: | H01P1/20 |
| 代理公司: | 44224 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 | 代理人: | 劉艷麗 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 集成 波導 可調(diào) 濾波器 | ||
1.一種基片集成波導可調(diào)濾波器,其特征在于,包括諧振腔和第一可調(diào)器件;
所述諧振腔包括第一金屬層、介質(zhì)層與第二金屬層,所述介質(zhì)層夾于所述第一金屬層和所述第二金屬層之間,所述諧振腔內(nèi)設(shè)置金屬通孔,所述金屬通孔貫通所述第一金屬層、介質(zhì)層和第二金屬層的邊緣,圍成矩形腔體;所述第一金屬層沿著矩形腔體內(nèi)側(cè)邊緣開有縫隙;
所述第一可調(diào)器件分布在所述矩形腔體內(nèi)的不同位置,用于控制所述諧振腔的諧振頻率;
所述諧振腔的數(shù)量為兩個以上;所述諧振腔通過錯位級聯(lián)的排布方式,形成共面耦合;任意兩個級聯(lián)的諧振腔的重疊邊形成感性窗,所述感性窗用于控制諧振腔腔間耦合量;
所述基片集成波導可調(diào)濾波器還包括第二可調(diào)器件,所述第二可調(diào)器件設(shè)置在感性窗位置,所述第二可調(diào)器件用于調(diào)整感性窗的尺寸,控制諧振腔腔間的耦合量,其中,所述第二可調(diào)器件的金屬柱等間隔排列于感性窗上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片集成波導可調(diào)濾波器,其特征在于,所述縫隙形狀包括C型、L型、I型中任一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基片集成波導可調(diào)濾波器,其特征在于,所述縫隙寬度為0.2mm至1mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一所述的基片集成波導可調(diào)濾波器,其特征在于,還包括介質(zhì)襯底、金屬柱以及金屬過孔;
所述介質(zhì)襯底與所述諧振腔的第一金屬層連接;所述金屬過孔設(shè)置在所述介質(zhì)襯底中,所述金屬過孔貫穿所述介質(zhì)襯底,所述金屬過孔的一端與目標可調(diào)器件的一端相連,另一端與所述第一金屬層相連;
所述諧振腔的第一金屬層開有方形孔,所述金屬柱通過所述方形孔穿過所述第一金屬層,貫通所述介質(zhì)襯底與所述諧振腔的介質(zhì)層,一端與所述第二金屬層相連,另一端與所述目標可調(diào)器件的另一端相連,其中,所述目標可調(diào)器件包括第一可調(diào)器件或第二可調(diào)器件。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基片集成波導可調(diào)濾波器,其特征在于,當所述目標可調(diào)器件閉合時,所述金屬柱通過所述金屬過孔連接到所述第一金屬層,接入至所述諧振腔腔內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基片集成波導可調(diào)濾波器,其特征在于,所述目標可調(diào)器件包括RF MEMS開關(guān);
所述RF MEMS開關(guān)通過安裝襯墊與所述介質(zhì)襯底相連;
所述RF MEMS開關(guān)的一端通過所述安裝襯墊與所述金屬過孔相連,另一端通過所述安裝襯墊與所述金屬柱相連。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基片集成波導可調(diào)濾波器,其特征在于,所述金屬過孔包括金屬實心柱、金屬空心柱中任一種。
8.一種基片集成波導可調(diào)濾波器,其特征在于,包括諧振腔、第一可調(diào)器件以及第二可調(diào)器件;
所述諧振腔包括第一金屬層、介質(zhì)層與第二金屬層,所述介質(zhì)層夾于所述第一金屬層和所述第二金屬層之間,所述諧振腔內(nèi)設(shè)置金屬通孔,所述金屬通孔貫通所述第一金屬層、介質(zhì)層和第二金屬層的邊緣,圍成矩形腔體;所述第一金屬層沿著矩形腔體內(nèi)側(cè)邊緣開有縫隙;
所述諧振腔的數(shù)量為兩個,兩個諧振腔采用錯位級聯(lián)的排布方式,形成共面腔間;兩個級聯(lián)的諧振腔的重疊邊形成感性窗,所述感性窗用于控制諧振腔腔間耦合量;
所述第一可調(diào)器件分布在所述矩形腔體內(nèi)的不同位置,用于控制所述諧振腔的諧振頻率;其中,第一可調(diào)器件的數(shù)量為十個,十個第一可調(diào)器件中心對稱分布于兩個諧振腔中;
所述第二可調(diào)器件設(shè)置在感性窗位置,所述第二可調(diào)器件用于調(diào)整感性窗的尺寸,控制諧振腔腔間的耦合量,其中,第二可調(diào)器件的數(shù)量為四個。
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