[發(fā)明專利]一種涂層物相及晶體結(jié)構(gòu)的分析方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710977917.0
• 申請日: 2017-10-19
• 公開（公告）號: CN107515231A
• 公開（公告）日: 2017-12-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王成勇;袁堯輝;鄭李娟;楊簡彰;賴志偉
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東工業(yè)大學(xué)
• 主分類號: G01N23/20
• 分類號: G01N23/20;G01N1/28
• 代理公司: 惠州市超越知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)44349
• 代理人: 陶遠(yuǎn)恒

1.一種涂層物相及晶體結(jié)構(gòu)的分析方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1：涂層制備：準(zhǔn)備可溶解于酸性液體的金屬薄片作為基體，將其裝夾于涂層設(shè)備中，將需要分析的涂層涂鍍于基體表面；

S2：配置可溶解金屬的酸性溶液，并將涂層后的金屬薄片全部放入酸性溶液中進(jìn)行溶解；

S3：待金屬薄片全部溶解于酸性溶液中后，采用過濾裝置過濾溶有金屬薄片的酸性液體以獲得涂層粉末；

S4：用去離子水沖洗過濾裝置上的涂層粉末，檢測過濾裝置過濾出的液體PH值為6～7后，將獲得的涂層粉末放入干燥裝置中進(jìn)行干燥；

S5：采用研磨裝置，對干燥后的涂層粉末進(jìn)行研磨；

S6：將研磨后的涂層粉末進(jìn)行X射線衍射分析，并根據(jù)獲得的衍射圖譜，對涂層XRD物相和晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂層物相及晶體結(jié)構(gòu)的分析方法，其特征在于，步驟S1中的金屬薄片為不銹鋼或鋁箔或普通鋼片。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂層物相及晶體結(jié)構(gòu)分析方法，其特征在于，步驟S1中的金屬薄片厚度小于1mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂層物相及晶體結(jié)構(gòu)的分析方法，其特征在于，步驟S1中的涂層與基體之間的涂鍍面積大于20㎝²。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂層物相及晶體結(jié)構(gòu)的分析方法，其特征在于，步驟S2中的酸性液體包括以下體積分?jǐn)?shù)組分：濃硝酸溶液10%-20%，濃鹽酸20%-40%，水40%-65%。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的涂層物相及晶體結(jié)構(gòu)的分析方法，其特征在于，步驟S2中的酸性液體包括以下體積分?jǐn)?shù)組分：濃硝酸溶液10%-20%，濃鹽酸20%-40%，去離子水40%-65%。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂層物相及晶體結(jié)構(gòu)的分析方法，其特征在于，步驟S2中的金屬薄片放入酸性溶液之前，將金屬薄片分割成多塊。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂層物相及晶體結(jié)構(gòu)的分析方法，其特征在于，步驟S5中的涂層粉末研磨之后的粒度小于40μm。