[發(fā)明專利]化霜控制方法、化霜控制裝置、制冷設備與可讀存儲介質(zhì)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710976706.5 | 申請日: | 2017-10-19 |
| 公開(公告)號: | CN107883623A | 公開(公告)日: | 2018-04-06 |
| 發(fā)明(設計)人: | 畢道國;李俊;耿秀華 | 申請(專利權(quán))人: | 合肥華凌股份有限公司;合肥美的電冰箱有限公司;美的集團股份有限公司 |
| 主分類號: | F25B49/02 | 分類號: | F25B49/02;F25D29/00 |
| 代理公司: | 北京友聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙)11343 | 代理人: | 尚志峰,汪海屏 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 控制 方法 裝置 制冷 設備 可讀 存儲 介質(zhì) | ||
1.一種化霜控制方法,適用于制冷設備,所述制冷設備設置有壓縮機以及連接至所述壓縮機的蒸發(fā)器,其特征在于,包括:
檢測所述壓縮機的開機率;
根據(jù)所述開機率與預設占比閾值之間的關系,確定對應的化霜啟動周期,以根據(jù)所述化霜啟動周期,對所述蒸發(fā)器執(zhí)行化霜操作。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化霜控制方法,其特征在于,所述根據(jù)所述開機率與預設占比閾值之間的關系,確定對應的化霜啟動周期,以根據(jù)所述化霜啟動周期,對所述蒸發(fā)器執(zhí)行化霜操作,具體包括以下步驟:
檢測所述開機率與第一預設占比閾值,以及第二預設占比閾值之間的關系;
在檢測到所述開機率小于所述第一預設占比閾值時,根據(jù)第一化霜周期,控制對所述蒸發(fā)器執(zhí)行化霜操作;
在檢測到所述開機率大于或等于所述第一預設占比閾值,并小于或等于所述第二預設占比閾值時,根據(jù)第二化霜周期,控制對所述蒸發(fā)器執(zhí)行化霜操作;
在檢測到所述開機率大于所述第二預設占比閾值時,根據(jù)第三化霜周期,控制對所述蒸發(fā)器執(zhí)行化霜操作,
其中,所述第一預設占比閾值小于所述第二預設占比閾值。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化霜控制方法,其特征在于,
所述第一預設占比閾值大于或等于30%,并小于或等于40%;
所述第二預設占比閾值大于或等于60%,并小于或等于70%。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化霜控制方法,其特征在于,在所述壓縮機為定頻壓縮機時,所述檢測所述壓縮機的開機率,具體包括以下步驟:
在檢測到所述制冷設備上電時,確定所述制冷設備的運行檔位,并且檢測所述制冷設備的制冷室溫度;
根據(jù)所述運行檔位與所述制冷室溫度,確定所述壓縮機的開機率。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化霜控制方法,其特征在于,在所述壓縮機為變頻壓縮機時,所述檢測所述壓縮機的開機率,具體包括以下步驟:
在指定時刻起開啟計時,并記錄自所述指定時刻經(jīng)過預設時長后,所述壓縮機在多個工作頻率下的多個實際運行時間;
確定所述多個工作頻率對應的修正系數(shù);
根據(jù)所述修正系數(shù)對所述多個實際運行時間分別進行修正,以生成修正運行時間;
根據(jù)所述修正運行時間與所述預設時長,確定平均開機率,以將所述平均開機率確定為所述壓縮機的開機率,
其中,所述預設時長小于所述化霜周期。
6.根據(jù)權(quán)利要求2至5中任一項所述的化霜控制方法,其特征在于,
所述第一化霜周期為8小時,所述第二化霜周期為16小時,所述第三化霜周期為24小時。
7.一種化霜控制裝置,適用于制冷設備,所述制冷設備設置有壓縮機以及連接至所述壓縮機的蒸發(fā)器,其特征在于,包括:
檢測單元,用于檢測所述壓縮機的開機率;
確定單元,用于根據(jù)所述開機率與預設占比閾值之間的關系,確定對應的化霜啟動周期,以根據(jù)所述化霜啟動周期,對所述蒸發(fā)器執(zhí)行化霜操作。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的化霜控制裝置,其特征在于,
所述檢測單元還用于:檢測所述開機率與第一預設占比閾值,以及第二預設占比閾值之間的關系;
所述化霜控制裝置還包括:
第一控制單元,用于在檢測到所述開機率小于所述第一預設占比閾值時,根據(jù)第一化霜周期,控制對所述蒸發(fā)器執(zhí)行化霜操作;
第二控制單元,用于在檢測到所述開機率大于或等于所述第一預設占比閾值,并小于或等于所述第二預設占比閾值時,根據(jù)第二化霜周期,控制對所述蒸發(fā)器執(zhí)行化霜操作;
第三控制單元,用于在檢測到所述開機率大于所述第二預設占比閾值時,控制根據(jù)第三化霜周期,對所述蒸發(fā)器執(zhí)行化霜操作,
其中,所述第一預設占比閾值小于所述第二預設占比閾值。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的化霜控制裝置,其特征在于,
所述第一預設占比閾值大于或等于30%,并小于或等于40%;
所述第二預設占比閾值大于或等于60%,并小于或等于70%。
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