[發明專利]掩膜版、模具與微流控芯片及制作方法與用途有效
| 申請號： | 201710968711.1 | 申請日： | 2017-10-13 |
| 公開（公告）號： | CN107649225B | 公開（公告）日： | 2021-02-19 |
| 發明（設計）人： | 陳苑;傅雄飛;黃術強;何彩云;白陽 | 申請（專利權）人： | 深圳先進技術研究院 |
| 主分類號： | B01L3/00 | 分類號： | B01L3/00;C12M3/00 |
| 代理公司： | 深圳市科進知識產權代理事務所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 曹衛良 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 掩膜版 模具 微流控 芯片 制作方法 用途 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于制作微流控芯片的模具的制作方法，其特征在于，在模具基體表面涂覆光刻膠，利用一種用于制作微流控芯片的掩膜版進行曝光、顯影后得到；
所述掩膜版包括第一掩膜版和第二掩膜版；所述第一掩膜版包括主要由第一矩形以陣列方式排布的第一光刻圖案，所述第二掩膜版包括主要由第二矩形以平行且間隔方式排布的第二光刻圖案；
所述第一掩膜版與第二掩膜版進行交叉組合光刻；
所述第一矩形和第二矩形的間距交叉重合的部位為能夠形成培養室的區域；
所述第一矩形的長度小于等于所述第二矩形之間的間距且所述第一矩形的長度大于等于所述第二矩形之間的間距的一半；
所述方法具體包括以下步驟：
在模具基體表面涂覆第一層光刻膠，利用第一掩膜版進行曝光，顯影后再涂覆第二層光刻膠，之后利用第二掩膜版進行曝光，顯影后得到所述模具；
所述第一層光刻膠的厚度在一個細胞的尺寸左右，以使細胞進入培養室后以單層狀態存在并且被束縛在培養室內而不會隨意流出培養室。
2.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第一矩形以錯位的陣列方式排布。
3.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第二光刻圖案還包括樣品注入通道圖形和樣品流出通道圖形。
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