[發(fā)明專利]在金屬栓塞的化學(xué)機(jī)械研磨中的制程動(dòng)態(tài)優(yōu)化方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710964428.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109664162B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-02-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | B24B1/00 | 分類號(hào): | B24B1/00;B24B37/005 |
| 代理公司: | 31219 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 余明偉 |
| 地址: | 230601 安徽省合肥市*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 去除 研磨 化學(xué)機(jī)械研磨 目標(biāo)材料層 動(dòng)態(tài)優(yōu)化 金屬栓塞 目標(biāo)去除 制程 動(dòng)態(tài)更新 厚度差異 控制系統(tǒng) 閉回路 測(cè)量 轉(zhuǎn)換 更新 | ||
1.一種在金屬栓塞的化學(xué)機(jī)械研磨中的制程動(dòng)態(tài)優(yōu)化方法,其特征在于,金屬栓塞形成于目標(biāo)材料層中,所述目標(biāo)材料層具有需要去除的目標(biāo)去除厚度,所述制程動(dòng)態(tài)優(yōu)化方法包括如下步驟:
1)設(shè)定所述目標(biāo)去除厚度與研磨參數(shù)在閉回路控制系統(tǒng)中,所述研磨參數(shù)包括研磨時(shí)間及研磨壓力;
2)利用所述研磨參數(shù),執(zhí)行第一化學(xué)機(jī)械研磨步驟,以降低所述目標(biāo)材料層的厚度達(dá)到在第一實(shí)際去除厚度的去除;
3)測(cè)量所述第一化學(xué)機(jī)械研磨步驟中所述目標(biāo)材料層被去除的所述第一實(shí)際去除厚度;
4)依據(jù)所述目標(biāo)去除厚度和所述第一實(shí)際去除厚度的差異,轉(zhuǎn)換厚度差異成對(duì)應(yīng)的研磨參數(shù)差值,以動(dòng)態(tài)更新研磨參數(shù);包括如下步驟:
4-1)設(shè)定初始研磨時(shí)間、最佳研磨速率、初始研磨壓力及最佳研磨壓力速率;
4-2)依據(jù)所述目標(biāo)去除厚度和上一研磨步驟中實(shí)際去除厚度的差異、所述初始研磨時(shí)間及所述最佳研磨速率得到實(shí)際研磨時(shí)間;并依據(jù)所述目標(biāo)去除厚度和上一研磨步驟中實(shí)際去除厚度的差異、所述初始研磨壓力及所述最佳研磨壓力速率得到實(shí)際研磨壓力;以及,
5)利用更新后的研磨參數(shù),執(zhí)行第二化學(xué)機(jī)械研磨步驟,以降低所述目標(biāo)材料層的厚度達(dá)到在第二實(shí)際去除厚度的去除,藉此動(dòng)態(tài)優(yōu)化研磨參數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的在金屬栓塞的化學(xué)機(jī)械研磨中的制程動(dòng)態(tài)優(yōu)化方法,其特征在于,步驟5)之后還包括如下步驟:
6)依據(jù)所述目標(biāo)去除厚度和上一研磨步驟中實(shí)際去除厚度的差異,轉(zhuǎn)換厚度差異成對(duì)應(yīng)的研磨參數(shù)差值,以動(dòng)態(tài)更新研磨參數(shù);以及,
7)利用更新后的研磨參數(shù),執(zhí)行再一化學(xué)機(jī)械研磨步驟,以降低所述目標(biāo)材料層的厚度達(dá)到在所需實(shí)際去除厚度的去除,藉此動(dòng)態(tài)優(yōu)化研磨參數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的在金屬栓塞的化學(xué)機(jī)械研磨中的制程動(dòng)態(tài)優(yōu)化方法,其特征在于,步驟7)之后,還包括重復(fù)步驟6)至步驟7)至少一次的步驟。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的在金屬栓塞的化學(xué)機(jī)械研磨中的制程動(dòng)態(tài)優(yōu)化方法,其特征在于,所述實(shí)際研磨時(shí)間與所述目標(biāo)去除厚度和上一研磨步驟中實(shí)際去除厚度的差異、所述初始研磨時(shí)間及所述最佳研磨速率的關(guān)系式為:T=t0+(d-△d)/δ1,其中,T為實(shí)際研磨時(shí)間,t0為初始研磨時(shí)間,d為目標(biāo)去除厚度,△d為上一研磨步驟中實(shí)際去除厚度,δ1為最佳研磨速率;所述實(shí)際研磨壓力與所述目標(biāo)去除厚度和上一研磨步驟中實(shí)際去除厚度的差異、所述初始研磨壓力及所述最佳研磨壓力速率的關(guān)系式為:N=n0+(d-△d)/δ2,其中,n0為初始研磨壓力,d為目標(biāo)去除厚度,△d為上一研磨步驟中實(shí)際去除厚度,δ2為最佳研磨壓力速率。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的在金屬栓塞的化學(xué)機(jī)械研磨中的制程動(dòng)態(tài)優(yōu)化方法,其特征在于,步驟4-1)中,依據(jù)使用研磨耗材第一次對(duì)所述目標(biāo)材料層進(jìn)行研磨的過(guò)程中去除目標(biāo)厚度的所述目標(biāo)材料層所需的研磨時(shí)間設(shè)定所述初始研磨時(shí)間;依據(jù)研磨步驟中實(shí)際去除的所述目標(biāo)材料層的厚度與所述初始研磨時(shí)間的比值設(shè)定所述最佳研磨速率;依據(jù)使用研磨耗材第一次對(duì)所述目標(biāo)材料層進(jìn)行研磨的過(guò)程中去除目標(biāo)厚度的所述目標(biāo)材料層所需的研磨壓力設(shè)定所述初始研磨壓力;依據(jù)在大于所述初始研磨壓力的條件下,在所述初始研磨時(shí)間內(nèi)去除的所述目標(biāo)材料層的厚度與實(shí)際研磨壓力和所述初始研磨壓力之差的比值設(shè)定所述最佳研磨壓力速率。
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