[發(fā)明專利]一種高壓IGBT襯板絕緣方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710963741.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109671633A | 公開(公告)日: | 2019-04-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馮會(huì)雨;程崛;馮加云;曾雄;賀新強(qiáng);韓星堯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株洲中車時(shí)代電氣股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/56 | 分類號(hào): | H01L21/56 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11372 | 代理人: | 吳大建;王浩 |
| 地址: | 412001 湖*** | 國(guó)省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 襯板 絕緣 高壓IGBT 絕緣保護(hù) 絕緣性能 絕緣要求 膠水 高絕緣 局放 涂覆 | ||
1.一種高壓IGBT襯板絕緣方法,其特征在于,對(duì)所述襯板上的電場(chǎng)強(qiáng)度集中區(qū)域涂覆高絕緣膠水以對(duì)襯板進(jìn)行絕緣保護(hù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓IGBT襯板絕緣方法,其特征在于,所述高絕緣膠水的涂覆位置為所述襯板上金屬層與襯板的交界處區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高壓IGBT襯板絕緣方法,其特征在于,包括步驟:
a.對(duì)襯板進(jìn)行等離子清洗;
b.對(duì)襯板上金屬層邊緣毛刺處涂覆高絕緣膠水進(jìn)行絕緣保護(hù);
c.對(duì)涂覆了高絕緣膠水的襯板進(jìn)行抽真空處理,以避免形成的高絕緣膠水保護(hù)層產(chǎn)生氣泡;
d.待高絕緣膠水保護(hù)層固化后,對(duì)襯板進(jìn)行引線鍵合等工序,焊接引線與芯片;
e.進(jìn)行硅膠灌注。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高壓IGBT襯板絕緣方法,其特征在于,包括步驟:
a.對(duì)襯板進(jìn)行等離子清洗;
b.對(duì)襯板焊接引線與芯片;
c.對(duì)襯板上金屬層邊緣毛刺處涂覆高絕緣膠水進(jìn)行絕緣保護(hù);
d.對(duì)涂覆了高絕緣膠水的襯板進(jìn)行抽真空處理,以避免形成的高絕緣膠水保護(hù)層產(chǎn)生氣泡;
e.待高絕緣膠水保護(hù)層固化后,進(jìn)行硅膠灌注。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一權(quán)利要求所述的高壓IGBT襯板絕緣方法,其特征在于,所述高絕緣膠水在所述襯板上形成的高絕緣膠水保護(hù)層沒(méi)有氣泡。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一權(quán)利要求所述的高壓IGBT襯板絕緣方法,其特征在于,所述高絕緣膠水保護(hù)層與所述襯板上金屬層之間以及所述高絕緣膠水保護(hù)層與所述襯板之間均具有良好的粘結(jié)力。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一權(quán)利要求所述的高壓IGBT襯板絕緣方法,其特征在于,所述高絕緣膠水為聚酰亞胺膠、硅膠、硅橡膠或環(huán)氧樹脂中的一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一權(quán)利要求所述的高壓IGBT襯板絕緣方法,其特征在于,所述襯板為氮化鋁陶瓷、氧化鋁陶瓷或氮化硅陶瓷中的一種。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一權(quán)利要求所述的高壓IGBT襯板絕緣方法,其特征在于,所述金屬層為銅、鋁、鉬、鎢中的一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求3或權(quán)利要求4所述的高壓IGBT襯板絕緣方法,其特征在于,在涂覆高絕緣膠水前,將襯板的上金屬層內(nèi)縮,以增加涂覆高絕緣膠水保護(hù)層的面積。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





