[發(fā)明專利]氨法脫硫控制方法及控制系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710963623.2
• 申請(qǐng)日: 2017-10-16
• 公開（公告）號(hào): CN107854987A
• 公開（公告）日: 2018-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉波;雷軍民
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 神華集團(tuán)有限責(zé)任公司;中國(guó)神華煤制油化工有限公司;神華新疆化工有限公司
• 主分類號(hào): B01D53/78
• 分類號(hào): B01D53/78;B01D53/50;B01D53/73;B01D53/75
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11240
• 代理人: 韓建偉,謝湘寧

1.一種氨法脫硫控制方法，所述氨法脫硫過程在氨法脫硫裝置中進(jìn)行，所述氨法脫硫裝置包括脫硫塔和循環(huán)槽，所述循環(huán)槽設(shè)置有氧化空氣入口和氧化空氣出口，所述脫硫塔的濃縮段設(shè)置有二次氧化空氣入口，所述氧化空氣出口與所述二次氧化空氣入口通過二次氧化空氣管線連通，其特征在于，所述控制方法包括以下步驟：

將所述循環(huán)槽設(shè)置為常溢流操作，所述循環(huán)槽的溢流口高度記為H₁；

檢測(cè)所述循環(huán)槽的氧化空氣入口壓力P₁、所述脫硫塔的濃縮段壓力P₂、二次氧化空氣管線壓力P₃；并獲取所述濃縮段液面上方煙氣壓力P₄；

利用所述P₁、所述P₂、所述P₃、所述P₄及所述H₁，計(jì)算得出所述循環(huán)槽的液位、所述循環(huán)槽漿液的密度值、所述濃縮段的液位值及所述濃縮段的漿液密度值；以及

利用所述循環(huán)槽的液位、所述循環(huán)槽漿液的密度值、所述濃縮段的液位值及所述濃縮段的漿液密度值對(duì)所述氨法脫硫過程進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)控。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制方法，其特征在于，所述氧化空氣入口處設(shè)置有第一壓力檢測(cè)裝置，所述濃縮段設(shè)置有第二壓力檢測(cè)裝置，所述二次氧化空氣管線上設(shè)置有第三壓力檢測(cè)裝置，檢測(cè)所述P₁、所述P₂及所述P₃的步驟包括：利用所述第一壓力檢測(cè)裝置檢測(cè)所述P₁，利用所述第二壓力檢測(cè)裝置檢測(cè)所述P₂，及利用所述第三壓力檢測(cè)裝置檢測(cè)所述P₃。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的控制方法，其特征在于，將所述氧化空氣入口的中心線高度記為h₁；所述循環(huán)槽漿液的密度值其中g(shù)為重力常數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的控制方法，其特征在于，將所述二次氧化空氣入口的中心線高度記為h₃，將所述第二壓力檢測(cè)裝置在濃縮段中的安裝高度記為h₂，所述濃縮段的漿液密度值其中g(shù)為重力常數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的控制方法，其特征在于，所述濃縮段的液位值H₂＝(H_2,2+H_2,3)/2，其中，所述所述其中g(shù)為重力常數(shù)。

6.一種氨法脫硫系統(tǒng)，包括氨法脫硫生產(chǎn)單元，所述生產(chǎn)單元包括脫硫塔和循環(huán)槽，所述循環(huán)槽設(shè)置有氧化空氣入口和氧化空氣出口，所述脫硫塔的濃縮段設(shè)置有二次氧化空氣入口，所述氧化空氣出口與所述二次氧化空氣入口通過二次氧化空氣管線連通，其特征在于，所述循環(huán)槽設(shè)置為常溢流操作，且所述循環(huán)槽的溢流口高度為H₁；所述氨法脫硫系統(tǒng)還包括：

檢測(cè)單元，所述檢測(cè)單元用于檢測(cè)所述循環(huán)槽的氧化空氣入口壓力P₁、所述脫硫塔的濃縮段壓力P₂、二次氧化空氣管線壓力P₃；并獲取所述濃縮段液面上方煙氣壓力P₄；

運(yùn)算單元，所述運(yùn)算單元用于接收所述P₁、所述P₂、所述P₃、所述P₄及所述H₁的值，計(jì)算得出所述循環(huán)槽的液位、所述循環(huán)槽漿液的密度值、所述濃縮段的液位值及所述濃縮段的漿液密度值；以及

控制單元，所述控制單元用于根據(jù)所述循環(huán)槽的液位、所述循環(huán)槽漿液的密度值、所述濃縮段的液位值及所述濃縮段的漿液密度值對(duì)所述生產(chǎn)單元的生產(chǎn)進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)控。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述檢測(cè)單元包括：

第一壓力檢測(cè)裝置，設(shè)置在所述氧化空氣入口處，用于檢測(cè)所述P₁；

第二壓力檢測(cè)裝置，設(shè)置在所述濃縮段，用于檢測(cè)所述P₂；以及

第三壓力檢測(cè)裝置，設(shè)置在所述二次氧化空氣管線上，用于檢測(cè)所述P₃。