[發(fā)明專利]像素結(jié)構(gòu)、彩膜基板及顯示面板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710945284.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107817625B | 公開(公告)日: | 2020-10-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 江志雄 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強(qiáng) |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 像素 結(jié)構(gòu) 彩膜基板 顯示 面板 | ||
1.一種像素結(jié)構(gòu),其特征在于,包括多個(gè)陣列排布的像素單元,每個(gè)所述像素單元包括紅色子像素、綠色子像素、藍(lán)色子像素及白色子像素,所述白色子像素內(nèi)嵌于所述紅色子像素、綠色子像素、藍(lán)色子像素中至少一個(gè)子像素內(nèi),所述紅色子像素、綠色子像素、藍(lán)色子像素為多疇結(jié)構(gòu),包括多個(gè)疇區(qū)域;所述白色子像素分布于其所在的子像素的多個(gè)疇區(qū)域內(nèi),所述白色子像素分為多個(gè)大小相同的白色子像素區(qū)域,一個(gè)所述白色子像素區(qū)域位于一個(gè)所述疇區(qū)域內(nèi),相鄰兩個(gè)所述白色子像素區(qū)域在其所在疇區(qū)域內(nèi)的位置對(duì)稱。
2.如權(quán)利要求1所述的像素結(jié)構(gòu),其特征在于,任意一個(gè)所述白色子像素區(qū)域在其所在疇區(qū)域內(nèi)的位置與其它的所述白色子像素區(qū)域在其所在疇區(qū)域內(nèi)的位置相同。
3.如權(quán)利要求1所述的像素結(jié)構(gòu),其特征在于,所述紅色子像素、綠色子像素、藍(lán)色子像素均為四疇結(jié)構(gòu),所述白色子像素分布于其所在子像素的每個(gè)所述疇結(jié)構(gòu)內(nèi)。
4.如權(quán)利要求1所述的像素結(jié)構(gòu),其特征在于,所述紅色子像素、綠色子像素、藍(lán)色子像素均為八疇結(jié)構(gòu),包括兩個(gè)相連的四疇結(jié)構(gòu),所述白色子像素分布于其所在子像素的任意一個(gè)所述四疇結(jié)構(gòu)的每個(gè)疇區(qū)域內(nèi),或者所述白色子像素分布于其所在子像素的每個(gè)疇區(qū)域內(nèi)。
5.如權(quán)利要求3或4所述的像素結(jié)構(gòu),其特征在于,每個(gè)所述白色子像素區(qū)域位于其所在的疇區(qū)域的的中心位置。
6.如權(quán)利要求3或4所述的像素結(jié)構(gòu),其特征在于,每個(gè)所述白色子像素區(qū)域位于其所在的疇區(qū)域的邊緣,且多個(gè)所述白色子像素區(qū)域互不連接。
7.如權(quán)利要求3或4所述的像素結(jié)構(gòu),其特征在于,每個(gè)所述白色子像素區(qū)域位于其所在疇區(qū)域的邊緣,且多個(gè)所述白色子像素區(qū)域相互連接成一體,且連成一體的多個(gè)所述白色子像素區(qū)域的對(duì)稱中心與所述白色子像素所在的所述子像素的對(duì)稱中心重合。
8.如權(quán)利要求1所述的像素結(jié)構(gòu),其特征在于,所述白色子像素所在的子像素上設(shè)有穿孔,所述白色子像素設(shè)于所述穿孔內(nèi)。
9.一種彩膜基板,其特征在于,包括基板及如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的像素結(jié)構(gòu),所述像素結(jié)構(gòu)位于所述基板上。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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