[發(fā)明專利]一種斷路器快速滅弧系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710944226.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109659209A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-04-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉言菊;朱金星;李大意;段新高;鄧高見(jiàn) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇高博銳電氣有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01H73/18 | 分類號(hào): | H01H73/18;H01H9/34 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市相城經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 滅弧室 觸頭系統(tǒng) 滅弧系統(tǒng) 滅弧柵片 側(cè)墻 滅弧 斷路器 容置腔 增磁塊 滅弧室安裝 側(cè)墻內(nèi)壁 固定設(shè)置 弧形結(jié)構(gòu) 基座上部 滅弧效果 電磁場(chǎng) 引弧片 產(chǎn)氣 觸頭 氣壁 氣吹 引弧 制造 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種斷路器快速滅弧系統(tǒng),包括滅弧室、基座以及安裝在基座上的觸頭系統(tǒng),所述觸頭系統(tǒng)包括動(dòng)觸頭和靜觸頭,所述基座上部開(kāi)設(shè)有與觸頭系統(tǒng)位置相對(duì)應(yīng)的滅弧室容置腔,所述滅弧室安裝在滅弧室容置腔內(nèi),所述滅弧室包括若干個(gè)滅弧柵片、兩個(gè)側(cè)墻和滅弧蓋,所述滅弧柵片固定設(shè)置在兩個(gè)側(cè)墻之間,所述滅弧蓋設(shè)置在兩個(gè)側(cè)墻頂部,且滅弧蓋位于滅弧柵片上部,所述滅弧室上還設(shè)置有弧形結(jié)構(gòu)的引弧片,兩個(gè)側(cè)墻內(nèi)壁上設(shè)置有增磁塊和產(chǎn)氣壁。因此本滅弧系統(tǒng)通過(guò)設(shè)置電磁場(chǎng)快速引弧和加強(qiáng)氣吹同時(shí)作用加強(qiáng)滅弧效果,還具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的優(yōu)點(diǎn),不論增磁塊還是氣壁結(jié)構(gòu)都十分簡(jiǎn)單,從原材料、設(shè)計(jì)、制造多方面考慮都極為經(jīng)濟(jì)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于低壓配電設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種斷路器快速滅弧系統(tǒng)。
背景技術(shù)
滅弧是低壓開(kāi)關(guān)的一個(gè)重要應(yīng)用,開(kāi)關(guān)設(shè)備不僅在設(shè)計(jì)要求實(shí)現(xiàn)零飛弧,而且對(duì)于電弧的試驗(yàn)檢測(cè)也非常嚴(yán)格,因?yàn)殡娀〔粌H對(duì)設(shè)備、線路造成破壞,甚至還會(huì)影響人身安全。尤其是萬(wàn)能斷路器,由于工作電流通常較大,在觸頭分?jǐn)嗨查g,產(chǎn)生大量電弧。如何在短時(shí)間內(nèi)快速熄滅電弧,設(shè)計(jì)最優(yōu)的滅弧系統(tǒng)是行業(yè)一直追求的目標(biāo)。
低壓斷路器目前常用的滅弧方法主要是多個(gè)金屬柵片平行切割電弧排列,這種結(jié)構(gòu)的滅弧系統(tǒng)工作過(guò)程在電弧能量不足以使觸頭下方區(qū)域的空氣壓強(qiáng)大于上方空氣壓強(qiáng)時(shí),電弧是不會(huì)進(jìn)入到滅弧室的,也就是說(shuō),電弧需要燃燒一定時(shí)間,才會(huì)利用到氣吹(通過(guò)氣壓差)可使電弧往滅弧室移動(dòng),然后進(jìn)入滅弧室被切斷成若干段,使電弧得到充分冷卻及將電弧被有效的拉長(zhǎng),這種只依靠電弧加熱達(dá)到上下區(qū)域氣壓差來(lái)行程氣吹,觸頭容易燒蝕,電壽命低,分?jǐn)嘀笜?biāo)不高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是:提供一種利用電磁場(chǎng)引弧與產(chǎn)氣材料快速產(chǎn)氣增大氣壓氣吹原理共同作用實(shí)現(xiàn)快速引弧、滅弧的系統(tǒng)。
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:一種斷路器快速滅弧系統(tǒng),包括滅弧室、基座以及安裝在基座上的觸頭系統(tǒng),所述觸頭系統(tǒng)包括動(dòng)觸頭和靜觸頭,所述基座上部開(kāi)設(shè)有與觸頭系統(tǒng)位置相對(duì)應(yīng)的滅弧室容置腔,所述滅弧室安裝在滅弧室容置腔內(nèi),所述滅弧室包括若干個(gè)滅弧柵片、兩個(gè)側(cè)墻和滅弧蓋,所述滅弧柵片固定設(shè)置在兩個(gè)側(cè)墻之間,所述滅弧蓋設(shè)置在兩個(gè)側(cè)墻頂部,且滅弧蓋位于滅弧柵片上部,所述滅弧室上還設(shè)置有弧形結(jié)構(gòu)的引弧片,兩個(gè)側(cè)墻內(nèi)壁上設(shè)置有增磁塊和產(chǎn)氣壁,所述滅弧蓋上設(shè)置有若干個(gè)導(dǎo)流板,兩個(gè)導(dǎo)流板之間形成弧形氣道,所述弧形氣道下端與滅弧柵片一一對(duì)應(yīng)設(shè)置。
作為優(yōu)選,所述側(cè)墻的內(nèi)壁上設(shè)置有凹槽,所述增磁塊固定安裝在凹槽內(nèi),所述產(chǎn)氣壁設(shè)置在增磁塊外部,并且兩個(gè)側(cè)墻上安裝的增磁塊、產(chǎn)氣壁對(duì)應(yīng)設(shè)置。
作為優(yōu)選,所述導(dǎo)流板下端設(shè)置為非平面結(jié)構(gòu)。
作為優(yōu)選,所述導(dǎo)流板下端設(shè)置為棱邊或圓角結(jié)構(gòu)。
作為優(yōu)選,所述產(chǎn)氣壁采用產(chǎn)氣材料制作而成。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益之處是:
1、對(duì)稱設(shè)置的增磁塊和滅弧室中的滅弧柵片形成近似半圓結(jié)構(gòu),其對(duì)稱聚磁的作用大大加強(qiáng)了電磁場(chǎng)對(duì)電弧的拉引作用,能快速將電弧從觸頭系統(tǒng)引開(kāi),進(jìn)而減少電弧對(duì)觸頭的燒蝕,延長(zhǎng)產(chǎn)品的使用壽命。
2、通過(guò)設(shè)置產(chǎn)氣壁,在產(chǎn)生電弧的瞬間產(chǎn)氣壁即受熱產(chǎn)生氣體以增大滅弧室內(nèi)的氣壓,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)加強(qiáng)氣吹的目的,氣吹作用不僅提高電弧進(jìn)入滅弧室速度,還可以促使熱量快速排出滅弧室,起到降低電弧能量的作用。
3、因此本滅弧系統(tǒng)通過(guò)設(shè)置電磁場(chǎng)快速引弧和加強(qiáng)氣吹同時(shí)作用加強(qiáng)滅弧效果。
4、本滅弧系統(tǒng)還具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的優(yōu)點(diǎn),不論增磁塊還是氣壁結(jié)構(gòu)都十分簡(jiǎn)單且完全可以使用普通常見(jiàn)的電磁及產(chǎn)氣材料,非常實(shí)用,且成本低廉,從原材料、設(shè)計(jì)、制造多方面考慮都極為經(jīng)濟(jì)。
附圖說(shuō)明:
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明。
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H01H73-36 .具有電磁釋放而無(wú)其他自動(dòng)釋放方式的
H01H73-48 .具有電熱和電磁方式自動(dòng)釋放的
H01H73-60 .筒式的,如擰入式筒的





