[發(fā)明專利]一種制氫裝置及制氫方法

在審

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• 申請日: 2017-10-11
• 公開（公告）號(hào): CN107723732A
• 公開（公告）日: 2018-02-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉眠;吳清申;盛磊;劉靜
• 申請（專利權(quán)）人: 云南靖創(chuàng)液態(tài)金屬熱控技術(shù)研發(fā)有限公司
• 主分類號(hào): C25B1/04
• 分類號(hào): C25B1/04;C25B11/06;C25B15/02;C25B9/00
• 代理公司: 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11002
• 代理人: 王瑩,吳歡燕

1.一種制氫裝置，其特征在于，包括制氫反應(yīng)模塊，所述制氫反應(yīng)模塊包括制氫腔室以及位于所述制氫腔室內(nèi)用作陽極的鎳件、用作陰極的低熔點(diǎn)金屬；在所述制氫腔室內(nèi)容納有電解液，所述制氫腔室內(nèi)設(shè)置有反應(yīng)槽，所述低熔點(diǎn)金屬設(shè)置在所述反應(yīng)槽內(nèi)；所述反應(yīng)槽上設(shè)置有開口槽，所述鎳件能夠滑入所述開口槽內(nèi)并與所述反應(yīng)槽內(nèi)的低熔點(diǎn)金屬接觸。

2.如權(quán)利要求1所述的制氫裝置，其特征在于，所述低熔點(diǎn)金屬為常溫下呈液態(tài)的純鎵、純銦、純鉍及純鎵、純銦、純鉍與鋅、錫、鋁、鉛、鉻、銅、金、銀所構(gòu)成的一元或多元合金或鈉鉀合金。

3.如權(quán)利要求2所述的制氫裝置，其特征在于，所述電解液為強(qiáng)酸或強(qiáng)堿電解液，所述強(qiáng)堿電解液為PH值大于12的氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鈣溶液中的一種；所述強(qiáng)酸電解液為PH值小于4的高錳酸、鹽酸(氫氯酸)、硫酸、硝酸溶液中的一種。

4.如權(quán)利要求1所述的制氫裝置，其特征在于，所述鎳件采用N2、N4含量大于99％的鎳制成。

5.如權(quán)利要求1所述的制氫裝置，其特征在于，還包括與所述開口槽對應(yīng)的滑動(dòng)組件，所述滑動(dòng)組件包括與所述制氫腔室滑動(dòng)連接的滑動(dòng)件，所述鎳件通過可拆卸的方式與所述滑動(dòng)件連接。

6.如權(quán)利要求5所述的制氫裝置，其特征在于，所述滑動(dòng)組件還包括設(shè)置在所述制氫腔室與所述滑動(dòng)件相對的一端的導(dǎo)向軌。

7.如權(quán)利要求6所述的制氫裝置，其特征在于，所述開口槽及滑動(dòng)組件的數(shù)量為多個(gè)，所述制氫裝置還包括反應(yīng)控制模塊，所述反應(yīng)控制模塊用于控制所述滑動(dòng)組件以將鎳件滑入開口槽內(nèi)并與所述低熔點(diǎn)金屬接觸的數(shù)量。

8.如權(quán)利要求7所述的制氫裝置，其特征在于，還包括與所述反應(yīng)槽連接用于向所述反應(yīng)槽泵送所述低熔點(diǎn)金屬的泵送裝置。

9.如權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的制氫裝置，其特征在于，還包括溫度控制模塊，所述溫度控制模塊采用設(shè)置在制氫腔室外側(cè)上的加熱裝置以及與所述加熱裝置連接的溫度控制器。

10.一種制氫方法，其特征在于，所述制氫方法利用用作陽極的鎳件和用作陰極的低熔點(diǎn)金屬放入電解液中形成的多重原電池反應(yīng)制氫。