[發明專利]一種連續礦漿電解浸出設備

在審

• 申請號: 201710941404.4
• 申請日: 2017-10-11
• 公開（公告）號: CN107686888A
• 公開（公告）日: 2018-02-13
• 發明（設計）人: 李世平;張華;盧宇;韋國龍;王志斌
• 申請（專利權）人: 貴州宏達環?？萍加邢薰?/a>
• 主分類號: C22B3/02
• 分類號: C22B3/02;C22B3/04
• 代理公司: 貴陽派騰陽光知識產權代理事務所(普通合伙)52110
• 代理人: 田江飛

技術領域

本發明涉及濕法冶金領域，尤其涉及一種連續礦漿電解浸出設備。

背景技術

礦漿電解浸出是使某些原料磨粉調漿某些有價成分在電場催化作用下易被調漿液浸出并同時被電解提取，與其他成分分離，傳統的礦漿電解浸出槽是單個獨立的，其中浸出只有一級，例如，申請號為201420031494.5的中國專利公開了一種礦漿電解電極裝置，包括礦漿電解槽，礦漿電解槽中設有相互間隔布置的陽極組件和陰極組件，陽極組件直接設于電解槽中，陰極組件設于設置在礦漿電解槽中的隔膜架內，陽極組件和陰極組件分別包括多個通過轉動裝置懸掛在導電銅管上的片狀電極，該礦漿電解電極裝置的浸出只有一級，其浸出效果往往不能達到要求，而電解也只有一級，浸出的有價元素也不能很好地電解分離，而且電解浸出時間較長，生產效率較低。

發明內容

為解決上述技術問題，本發明提供了一種連續礦漿電解浸出設備，以解決現有技術電解浸出時間長，生產效率低的問題。

本發明通過以下技術方案得以實現。

本發明新型提供的一種連續礦漿電解浸出設備，包括調漿槽、殘液儲存槽及若干個電解浸出槽，所述調漿槽、電解浸出槽的上部均設有溢流口，所述溢流口上設有溢流管，所述調漿槽、電解浸出槽、殘液儲存槽通過上部的溢流管依次連接，所述調漿槽的高度高于電解浸出槽，殘液儲存槽的高度低于電解浸出槽。

所述調漿槽、電解浸出槽、殘液儲存槽均為圓柱形腔體，并固定在方形框架上，調漿槽、電解浸出槽、殘液儲存槽的底部均為圓錐形或平底，且底部均設有閥門。

所述殘液儲存槽底部通過礦漿泵與調漿槽和電解浸出槽的底部連接。

所述電解浸出槽內設有擋板、陽極板、陰極板，所述擋板固定在電解浸出槽)內，擋板上端與電解浸出槽上端同高，擋板下端距離電解浸出槽底部500mm至1000mm，所述陽極板、陰極板固定在電解浸出槽內，分別布置在槽體兩側。

所有陽極板和陰極板均分別通過導電銅排進行串聯，陽極板和陰極板的長均為1500mm至1800mm，寬均為1000mm至1300mm，厚度均為5mm至10mm。

所述陽極板的材質為石墨、不銹鋼、鉛合金、鈦或碳鋼，所述陰極板的材質為不銹鋼、鋁或鈦。

所述溢流口距離調漿槽或電解浸出槽頂部200mm至300mm。

所述調漿槽的高度比電解浸出槽的高度高300mm至500mm，殘液儲存槽的高度比電解浸出槽的高度低300mm至500mm。

所述電解浸出槽材質為塑料、金屬或鋼筋混凝土。

所述調漿槽、電解浸出槽、殘液儲存槽內均設有攪拌裝置。

本發明的有益效果在于：通過將多個電解浸出槽進行串聯，提高礦漿中有價成分的浸出回收率，同時通過礦漿泵可以將殘液儲存槽內的礦漿泵入調漿槽或任意電解浸出槽中繼續進行電解浸出，提高生產及設備的效率，電解浸出槽內設有擋板，可以提高礦漿的均勻性，同時延長礦漿的停留接觸時間，提高浸出回收率，電解浸出槽采用大面積電極板進行電解，從而減少陰陽極板使用組數，便于使用隔膜電解及減少電極板操作維護。

附圖說明

圖1是本發明的結構示意圖；

圖2是本發明的電解浸出槽的俯視圖；

圖中：1-調漿槽，2-電解浸出槽，3-殘液儲存槽，4-礦漿泵，5-擋板，6-溢流管，7-方形框架。

具體實施方式

下面進一步描述本發明的技術方案，但要求保護的范圍并不局限于所述。

如圖1所示，一種連續礦漿電解浸出設備，包括調漿槽1、殘液儲存槽3及若干個電解浸出槽2，所述調漿槽1、電解浸出槽2的上部均設有溢流口，所述溢流口上設有溢流管，所述調漿槽1、電解浸出槽2、殘液儲存槽3通過上部的溢流管6依次連接，所述調漿槽1的高度高于電解浸出槽2，殘液儲存槽3的高度低于電解浸出槽2，殘液儲存槽3的高度低于電解浸出槽2，礦石在經過球磨機研磨后，流入調漿槽1中進行調漿，由于礦漿調漿槽，電解浸出槽和殘液儲存槽具有高度差，礦漿可以由調漿槽1流入電解浸出槽2后在流入殘液儲存槽3中，電解浸出槽2有多個，通過多級的電解浸出，礦漿有價成分得到充分浸出，提高有價成分的浸出回收率。

所述調漿槽1、電解浸出槽2、殘液儲存槽3均為圓柱形腔體，并固定在方形框架7上，調漿槽1、電解浸出槽2、殘液儲存槽3的底部均為圓錐形或平底，且底部均設有閥門，圓柱形腔體結構具有良好的耐壓型，便于降低設備成本，使用時可以通過開啟閥門，將殘液儲存槽3內礦漿泵入調漿槽1或任意電解浸出槽2內。