[發(fā)明專利]一種高壓測(cè)試缸、測(cè)試機(jī)及測(cè)試方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710940512.X | 申請(qǐng)日: | 2017-10-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107678270B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張克來(lái);夏超;羅建東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天王電子(深圳)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G04D7/00 | 分類號(hào): | G04D7/00;G01M13/00 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所 44237 | 代理人: | 官建紅 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高壓 測(cè)試 方法 | ||
本發(fā)明適用于鐘表技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種高壓測(cè)試缸、測(cè)試機(jī)及測(cè)試方法,本發(fā)明的高壓測(cè)試缸,包括缸體,缸體中開(kāi)設(shè)有用于容置測(cè)試工件的內(nèi)腔,缸體的頂部開(kāi)設(shè)有容置缸蓋的頂腔,缸體上開(kāi)設(shè)有與內(nèi)腔相連通的進(jìn)水口和出水口,缸體的側(cè)邊開(kāi)設(shè)有與內(nèi)腔相連通的觀察孔,缸體的側(cè)邊安裝有用于透過(guò)觀察孔監(jiān)測(cè)測(cè)試工件的監(jiān)控設(shè)備,監(jiān)控設(shè)備包括用于封堵觀察孔的透明塊和用于透過(guò)透明塊攝取測(cè)試工件圖像的攝像頭。通過(guò)缸蓋、監(jiān)控設(shè)備中的透明塊能對(duì)內(nèi)腔進(jìn)行全方位密封,缸體能夠承受很大的壓力,可以為潛水表提供高深度、超高壓力的測(cè)試環(huán)境;本發(fā)明提供的測(cè)試機(jī)能夠?qū)撍碓诟呱疃?、超高壓力條件下進(jìn)行模擬,可以檢測(cè)該條件下潛水表的使用情況。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明適用于鐘表技術(shù)領(lǐng)域,更具體地說(shuō),是涉及一種高壓測(cè)試缸,使用該高壓測(cè)試缸的測(cè)試機(jī)及該測(cè)試機(jī)的測(cè)試方法。
背景技術(shù)
潛水員在水下作業(yè)時(shí)往往需要佩戴潛水表用于計(jì)時(shí),一旦潛水表進(jìn)水或受壓,將嚴(yán)重影響潛水表的正常工作。因此,對(duì)于潛水表的防水性能和抗壓能力提出了較高的要求。
現(xiàn)有技術(shù)中的潛水表可以達(dá)到的防水深度為1000m-2000m,一般都具有良好的防水性能和抗壓能力。但如果水深超過(guò)2000m后,此時(shí)的深水處會(huì)產(chǎn)生非常大的水壓,導(dǎo)致潛水表被動(dòng)滲水;當(dāng)潛水表處于4100m水深時(shí),此時(shí)的水壓達(dá)到約410Bar,相當(dāng)于潛水表所承受單位毫米面積9812.5kg的壓力,目前的潛水表很難承受如此大的壓力,因此,對(duì)潛水表的制作材料的抗壓能力提出了極高的要求。當(dāng)水深達(dá)到甚至超過(guò)萬(wàn)米級(jí)時(shí),此時(shí)的水壓達(dá)到約1000Bar,目前的潛水表無(wú)法在該萬(wàn)米級(jí)的水深環(huán)境下使用,也沒(méi)有任何設(shè)備為潛水表在高深度(水深大于10000m)、超高壓力(水壓超過(guò)1000Bar)的環(huán)境條件下的使用提供模擬試驗(yàn)的環(huán)境,在上述環(huán)境條件下,對(duì)于潛水表的研發(fā)及測(cè)試都是很大的難題。
目前,鐘表行業(yè)尚無(wú)有關(guān)模擬潛水表在高深度、超高壓力環(huán)境下使用的設(shè)備。因此,對(duì)上述設(shè)備的研究有益于潛水表的研發(fā),擴(kuò)大潛水表的應(yīng)用領(lǐng)域范圍,具有重大價(jià)值。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種高壓測(cè)試缸,以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的無(wú)法檢測(cè)高深度、超高壓力條件下潛水表使用情況的問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:提供一種高壓測(cè)試缸,包括缸體,所述缸體中開(kāi)設(shè)有用于容置測(cè)試工件的內(nèi)腔,所述缸體的頂部開(kāi)設(shè)有與所述內(nèi)腔相連通的頂腔,所述頂腔中安裝有用于封堵所述內(nèi)腔的缸蓋,所述缸體上開(kāi)設(shè)有與所述內(nèi)腔相連通的進(jìn)水口和出水口,所述缸體的側(cè)邊開(kāi)設(shè)有與所述內(nèi)腔相連通的觀察孔,所述缸體的側(cè)邊安裝有用于透過(guò)所述觀察孔監(jiān)測(cè)所述測(cè)試工件的監(jiān)控設(shè)備,所述監(jiān)控設(shè)備包括用于封堵所述觀察孔的透明塊和用于透過(guò)所述透明塊攝取所述測(cè)試工件圖像的攝像頭。
進(jìn)一步地,所述監(jiān)控設(shè)備包括支撐所述透明塊的第一連接件和支撐所述攝像頭的第二連接件,所述第一連接件安裝于所述缸體上,所述第二連接件與所述第一連接件固定相連。
進(jìn)一步地,所述第一連接件包括第一連接體,所述第一連接體上設(shè)有第一法蘭,所述第一連接體的一側(cè)面開(kāi)設(shè)有用于定位安裝所述透明塊的第一空腔,所述第一連接體的另一側(cè)面開(kāi)設(shè)有與所述第一空腔相連通的第一通孔;所述第二連接件包括第二連接體,所述第二連接體上設(shè)有與所述第一法蘭配合的第二法蘭,所述第二連接體上對(duì)應(yīng)于所述第一通孔的位置開(kāi)設(shè)有第二空腔,所述攝像頭安裝于所述第二空腔中。
進(jìn)一步地,所述第一空腔中于所述透明塊的兩側(cè)分別安裝有密封墊環(huán)。
進(jìn)一步地,所述缸體的側(cè)面開(kāi)設(shè)有配合定位所述第一連接體的定位槽,所述觀察孔設(shè)于所述定位槽的底面。
進(jìn)一步地,所述缸蓋的底面對(duì)應(yīng)于所述內(nèi)腔的位置開(kāi)設(shè)有容置腔,所述容置腔中安裝有透光塊,所述缸蓋上開(kāi)設(shè)有與所述容置腔相連通的通光孔。
進(jìn)一步地,所述頂腔呈圓形,所述頂腔中設(shè)有內(nèi)螺紋,所述缸蓋上對(duì)應(yīng)設(shè)有與所述內(nèi)螺紋配合的外螺紋,所述缸蓋上還安裝有用于旋轉(zhuǎn)所述缸蓋的旋轉(zhuǎn)手柄。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于天王電子(深圳)有限公司,未經(jīng)天王電子(深圳)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710940512.X/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 軟件測(cè)試系統(tǒng)及測(cè)試方法
- 自動(dòng)化測(cè)試方法和裝置
- 一種應(yīng)用于視頻點(diǎn)播系統(tǒng)的測(cè)試裝置及測(cè)試方法
- Android設(shè)備的測(cè)試方法及系統(tǒng)
- 一種工廠測(cè)試方法、系統(tǒng)、測(cè)試終端及被測(cè)試終端
- 一種軟件測(cè)試的方法、裝置及電子設(shè)備
- 測(cè)試方法、測(cè)試裝置、測(cè)試設(shè)備及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)
- 測(cè)試裝置及測(cè)試系統(tǒng)
- 測(cè)試方法及測(cè)試系統(tǒng)
- 一種數(shù)控切削指令運(yùn)行軟件測(cè)試系統(tǒng)及方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





