[發(fā)明專利]一種改善非線性晶體頻率轉(zhuǎn)換激光光斑質(zhì)量的裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710940434.3
• 申請(qǐng)日: 2017-10-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107561814A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-01-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 校金濤;陳基平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 福建科彤光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/35
• 分類號(hào): G02F1/35
• 代理公司: 福州盈創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)35226
• 代理人: 李明通

1.一種改善非線性晶體頻率轉(zhuǎn)換激光光斑質(zhì)量的裝置，其特征在于，所述裝置包括非線性晶體單元（1）和走離補(bǔ)償晶體單元（2）；所述非線性晶體單元（1）包括非線性晶體，所述非線性晶體由β-硼酸鋇晶體或β-硼酸鋇晶體或硼酸銫鋰晶體構(gòu)成，所述走離補(bǔ)償晶體單元（2）包括單軸晶體，所述單軸晶體由釩酸釔晶體或α-硼酸鋇晶體構(gòu)成，所述非線性晶體單元（1）與所述走離補(bǔ)償晶體單元（2）為分離式結(jié)構(gòu)或者通過(guò)光學(xué)膠合粘結(jié)成為一個(gè)整體結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改善非線性晶體頻率轉(zhuǎn)換激光光斑質(zhì)量的裝置，其特征在于：所述走離補(bǔ)償晶體的厚度l₂由轉(zhuǎn)換激光的走離角θ₁和有效非線性作用距離l₁及走離補(bǔ)償晶體的走離角θ₂決定，并且滿足關(guān)系式l₂=（l₁tanθ₁）/tanθ₂。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改善非線性晶體頻率轉(zhuǎn)換激光光斑質(zhì)量的裝置，其特征在于：所述走離補(bǔ)償晶體單元（2）中的走離補(bǔ)償晶體的光軸切割角度為40°~50°。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種改善非線性晶體頻率轉(zhuǎn)換激光光斑質(zhì)量的裝置，其特征在于：所述走離補(bǔ)償晶體單元（2）中的走離補(bǔ)償晶體的光軸切割角度為45°。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改善非線性晶體頻率轉(zhuǎn)換激光光斑質(zhì)量的裝置，其特征在于：所述走離補(bǔ)償晶體單元（2）還包括非線性晶體中相同的負(fù)單軸或負(fù)雙軸晶體。