[發明專利]一種光通信用1550納米波段的偏振不相關寬帶反射光柵在審
| 申請號: | 201710940181.X | 申請日: | 2017-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN109655951A | 公開(公告)日: | 2019-04-19 |
| 發明(設計)人: | 徐建衛 | 申請(專利權)人: | 上海矽安光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/18 | 分類號: | G02B5/18 |
| 代理公司: | 上海宏京知識產權代理事務所(普通合伙) 31297 | 代理人: | 周高 |
| 地址: | 200233 上海市徐匯*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 折射膜 光柵 光通信 寬帶反射光柵 納米波段 偏振 層厚度 折射率 襯底 波分復用技術 反射金屬層 光柵占空比 波長帶寬 反射光柵 利特羅角 偏振無關 衍射效率 依次設置 中心波長 金屬層 寬帶 入射 覆蓋 制作 | ||
一種光通信用1550納米波段的偏振不相關寬帶反射光柵,涉及用于光通信的反射光柵領域,包括襯底,襯底上方覆蓋有反射金屬層,金屬層上制作有光柵,該光柵包括由下往上依次設置的第一折射膜層、第二折射膜層,第一折射膜層的折射率低于第二折射膜層的折射率,該光柵的周期為0.99?1.15um、光柵占空比為0.52?0.57,第一折射膜層厚度為0.27?0.55um,第二折射膜層厚度為0.67?0.85um,本發明要解決的技術問題是針對光通信用1550納米波段提供偏振不相關寬帶反射光柵,該光柵可以使TE和TM偏振光在中心波長對應的利特羅角入射的情況下的?1級衍射效率在100納米的波長帶寬內(1500?1600納米)高于90%。本發明具有結構簡單、偏振無關、寬帶的優點,其在波分復用技術里有重要實用價值。
技術領域
本發明涉及用于光通信的反射光柵領域,具體涉及一種光通信用1550納米波段的偏振不相關寬帶反射光柵。
背景技術
波分復用(WDM)技術能夠在單根光纖復用幾十甚至上百個波長,以滿足增長的對帶寬的需求,是提高通信能力的有效方法之一。波分復用技術現已提高得可以傳送數百個波長的激光,每個波長間的間隔1.6nm、0.8nm或0.4nm,甚至0.2nm,這種技術稱作密集波分復用(DWDM)。WDM已經廣泛應用于長途傳輸中,也開始進入短程光通信網絡中。
波分復用器是波分復用光纖通信系統中最關鍵的器件。平面衍射光柵是傳統的色散元件,具有結構簡單、衍射效率高、溫度穩定性好等特點,該器件在光通信行業領域已經廣泛使用。光纖中的光學信號具有不確定的偏振態,其需要多路復用(解復用)器基本上是偏振不靈敏的,以便最小化偏振相關損耗。即對衍射光柵要求偏振不敏感。
美國專利US8989537B2描述了適用于光通信的偏振不相關透射型光柵。但是很多光路設計中,比如目前波分復用技術最新發展的波長選擇技術(WSS), 需要用到反射型偏振不相關光柵。為了提高衍射效率,一般采用亞波長光柵結構,即光柵周期小于或接近工作波長,也稱為高密度光柵。該種光柵一般對入射光的偏振敏感,即針對一個偏振衍射效率達到最大值,另外一個偏振衍射效率會比較低。
高密度光柵的衍射不能由簡單的標量光柵衍射方程來解釋,而必須采用矢量形式的麥克斯韋方程并結合邊界條件,通過編碼的計算機程序精確地計算出結果。Moharam等人已給出了嚴格耦合波理論的算法【在先技術4:M.G.Moharam et al,J.Opt.Soc.AmA.12,1077(19%)】。利用嚴格耦合波分析,可以計算光柵的衍射效率,將合嚴格耦合波分析與模擬退火算法相結合,可以優化設計偏振不相關寬帶反射光柵。
發明內容
本發明要解決的技術問題是針對光通信用1550納米波段提供偏振不相關寬帶反射光柵,該光柵可以使TE和TM偏振光在中心波長對應的利特羅角入射的情況下的-1級衍射效率在100納米的波長帶寬內(1500?1600納米)高于90%。本發明具有結構簡單、偏振無關、寬帶的優點,因此該反射光柵在波分復用技術里有實用價值,其技術方案如下:
一種光通信用1550納米波段的偏振不相關寬帶反射光柵,包括襯底,襯底可以選擇透明材料或者金屬、陶瓷等不透明材料,所述襯底上方覆蓋有反射金屬層,所述金屬層上制作有光柵,該光柵包括由下往上依次設置的第一折射膜層、第二折射膜層,第一折射膜層的折射率低于第二折射膜層的折射率,第二折射膜層的折射率在2左右,該光柵的周期為0.99?1.15um、光柵占空比為0.52?0.57,第一折射膜層厚度為0.27?0.55um,第二折射膜層厚度為0.67?0.85um。
進一步地,所述光柵的周期為1060納米、光柵占空比為0.55,第一、二折射膜層厚度分別為0.32、0.73um。
進一步地,所述第一、二折射膜層的折射率分別為1.444、1.998。
進一步地,所述第一折射膜層材質為二氧化硅。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海矽安光電科技有限公司,未經上海矽安光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710940181.X/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





